磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型公開一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，按國際專利分類表(IPC)劃分屬于磁控鍍膜機(jī)制造技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜技術(shù)是表面工程的三大技術(shù)之一，而真空鍍膜是薄膜技術(shù)的主要技術(shù)手段。目前，柔性基底材料如聚對苯二甲酸乙二醋(Polyethylene terephthalate，PET)隨著觸摸屏行業(yè)的技術(shù)革新而迅速發(fā)展起來，柔性基材鍍膜一般采用卷繞式鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)，現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，尤其是真空腔室內(nèi)布局不合理，影響鍍膜生產(chǎn)良率及質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，具有結(jié)構(gòu)合理、鍍膜效率高等優(yōu)點(diǎn)。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，包括機(jī)殼體，機(jī)殼體側(cè)面開口用于機(jī)芯卷繞部分進(jìn)出，機(jī)殼體內(nèi)上部為收放區(qū)，下部為靶鍍區(qū)，所述收放區(qū)與靶鍍區(qū)均為弧狀空間，收放區(qū)的內(nèi)徑大于靶鍍區(qū)內(nèi)徑，靶鍍區(qū)與收放區(qū)結(jié)合處形成向中心延伸的突臺(tái)結(jié)構(gòu)，機(jī)殼體的收放區(qū)側(cè)壁設(shè)有深冷管，機(jī)殼體頂部設(shè)有氣流通道。
[0006]進(jìn)一步，所述機(jī)殼體靶鍍區(qū)的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)磁控靶，每一磁控靶對應(yīng)著若干氣體噴出嘴。
[0007]進(jìn)一步，所述機(jī)芯卷繞部分包括放卷傳動(dòng)組件、收卷傳動(dòng)組件和主輥筒，放卷傳動(dòng)組件和收卷傳動(dòng)組件對稱設(shè)于主輥筒兩側(cè):放卷傳動(dòng)組件包括放料輥、第一導(dǎo)輥、放卷張力輥、第二導(dǎo)輥和第三導(dǎo)輥，按照薄膜輸送方向，放料輥、第一導(dǎo)輥、放卷張力輥、第二導(dǎo)輥和第三導(dǎo)輥依次設(shè)置于主輥筒的輸入側(cè)；收卷傳動(dòng)組件包括第四導(dǎo)輥、第五導(dǎo)輥、收卷張力輥、第六導(dǎo)輥和收料輥，按照薄膜輸送方向，第四導(dǎo)輥、第五導(dǎo)輥、收卷張力輥、第六導(dǎo)輥和收卷輥依次設(shè)置于主輥筒的輸出側(cè)。
[0008]本實(shí)用新型機(jī)殼體的收放區(qū)與靶鍍區(qū)設(shè)計(jì)合理，機(jī)芯卷繞部分可以伸入或拖出到機(jī)殼體真空室，使設(shè)備上下膜及操作維護(hù)更方便。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理、鍍膜效率高等優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說明】
[0009]圖1是鍍膜機(jī)示意圖。
[0010]圖2是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
[0012]實(shí)施例:請參閱圖1及圖2，一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，包括機(jī)殼體1，機(jī)殼體I側(cè)面開口用于機(jī)芯卷繞部分進(jìn)出，機(jī)殼體I內(nèi)上部為收放區(qū)11，下部為靶鍍區(qū)12，所述收放區(qū)11與靶鍍區(qū)12均為弧狀空間，收放區(qū)11的內(nèi)徑大于靶鍍區(qū)12內(nèi)徑，靶鍍區(qū)12與收放區(qū)11結(jié)合處形成向中心延伸的突臺(tái)結(jié)構(gòu)100，機(jī)殼體I的收放區(qū)側(cè)壁設(shè)有深冷管2，機(jī)殼體頂部設(shè)有氣流通道3。機(jī)殼體I靶鍍區(qū)的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)磁控靶4，每一磁控靶對應(yīng)著若干氣體噴出嘴。機(jī)殼體外壁設(shè)有多個(gè)抽真空用的分子泵，機(jī)殼體上還設(shè)有觀察窗口 101。本實(shí)用新型相配合的機(jī)芯卷繞部分包括放卷傳動(dòng)組件5、收卷傳動(dòng)組件6和主輥筒7，放卷傳動(dòng)組件5和收卷傳動(dòng)組件6對稱設(shè)于主輥筒7兩側(cè):放卷傳動(dòng)組件5包括放料輥51、第一導(dǎo)輥52、放卷張力棍53、第二導(dǎo)棍54和第三導(dǎo)棍55，按照薄膜輸送方向，放料棍、第一導(dǎo)棍、放卷張力輥、第二導(dǎo)輥和第三導(dǎo)輥依次設(shè)置于主輥筒的輸入側(cè)；收卷傳動(dòng)組件6包括第四導(dǎo)輥61、第五導(dǎo)輥62、收卷張力輥63、第六導(dǎo)輥64和收料輥65，按照薄膜輸送方向，第四導(dǎo)輥、第五導(dǎo)輥、收卷張力輥、第六導(dǎo)輥和收卷輥依次設(shè)置于主輥筒的輸出側(cè)。
[0013]本實(shí)用新型機(jī)殼體的收放區(qū)與靶鍍區(qū)設(shè)計(jì)合理，機(jī)芯卷繞部分可以伸入或拖出到機(jī)殼體真空室，使設(shè)備上下膜及操作維護(hù)更方便。
[0014]以上所記載，僅為利用本創(chuàng)作技術(shù)內(nèi)容的實(shí)施例，任何熟悉本項(xiàng)技藝者運(yùn)用本創(chuàng)作所做的修飾、變化，皆屬本創(chuàng)作主張的專利范圍，而不限于實(shí)施例所揭示者。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，其特征在于:包括機(jī)殼體，機(jī)殼體側(cè)面開口用于機(jī)芯卷繞部分進(jìn)出，機(jī)殼體內(nèi)上部為收放區(qū)，下部為靶鍍區(qū)，所述收放區(qū)與靶鍍區(qū)均為弧狀空間，收放區(qū)的內(nèi)徑大于靶鍍區(qū)內(nèi)徑，靶鍍區(qū)與收放區(qū)結(jié)合處形成向中心延伸的突臺(tái)結(jié)構(gòu)，機(jī)殼體的收放區(qū)側(cè)壁設(shè)有深冷管，機(jī)殼體頂部設(shè)有氣流通道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述機(jī)殼體靶鍍區(qū)的側(cè)壁設(shè)有多個(gè)磁控靶，每一磁控靶對應(yīng)著若干氣體噴出嘴。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述機(jī)芯卷繞部分包括放卷傳動(dòng)組件、收卷傳動(dòng)組件和主輥筒，放卷傳動(dòng)組件和收卷傳動(dòng)組件對稱設(shè)于主輥筒兩側(cè):放卷傳動(dòng)組件包括放料輥、第一導(dǎo)輥、放卷張力輥、第二導(dǎo)輥和第三導(dǎo)輥，按照薄膜輸送方向，放料輥、第一導(dǎo)輥、放卷張力輥、第二導(dǎo)輥和第三導(dǎo)輥依次設(shè)置于主輥筒的輸入偵h收卷傳動(dòng)組件包括第四導(dǎo)輥、第五導(dǎo)輥、收卷張力輥、第六導(dǎo)輥和收料輥，按照薄膜輸送方向，第四導(dǎo)輥、第五導(dǎo)輥、收卷張力輥、第六導(dǎo)輥和收卷輥依次設(shè)置于主輥筒的輸出側(cè)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種磁控鍍膜機(jī)腔罩結(jié)構(gòu)，包括機(jī)殼體，機(jī)殼體側(cè)面開口用于機(jī)芯卷繞部分進(jìn)出，機(jī)殼體內(nèi)上部為收放區(qū)，下部為靶鍍區(qū)，所述收放區(qū)與靶鍍區(qū)均為弧狀空間，收放區(qū)的內(nèi)徑大于靶鍍區(qū)內(nèi)徑，靶鍍區(qū)與收放區(qū)結(jié)合處形成向中心延伸的突臺(tái)結(jié)構(gòu)，機(jī)殼體的收放區(qū)側(cè)壁設(shè)有深冷管，機(jī)殼體頂部設(shè)有氣流通道。本實(shí)用新型機(jī)殼體的收放區(qū)與靶鍍區(qū)設(shè)計(jì)合理，機(jī)芯卷繞部分可以伸入或拖出到機(jī)殼體真空室，具有結(jié)構(gòu)合理、上下膜操作方便、鍍膜效率高等優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】C23C14-35
【公開號(hào)】CN204509451
【申請?zhí)枴緾N201520063134
【發(fā)明人】閆會(huì)朝, 丁磊, 李曉哲
【申請人】廈門玉通光電有限公司
【公開日】2015年7月29日
【申請日】2015年1月29日