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在母材的表面通過(guò)掩模形成凸起的方法及裝置的制造方法

文檔序號(hào):9620385閱讀:452來(lái)源:國(guó)知局
在母材的表面通過(guò)掩模形成凸起的方法及裝置的制造方法【
技術(shù)領(lǐng)域
】[0001]本發(fā)明涉及一種通過(guò)掩模(masking)形成凸起的方法及裝置,更為詳細(xì)地涉及一種方法及裝置,其用于對(duì)母材的表面進(jìn)行特殊處理,從而提高根據(jù)母材的AR特性調(diào)節(jié)的反射防止功能,并改善超疏水功能?!?br>背景技術(shù)
】[0002]通過(guò)在包括手機(jī)、平板電腦(tabletPC)等使用觸摸功能的顯示器(display)在內(nèi)如TV和電腦顯示器等一樣的平板(flatpanel)顯示器的覆蓋窗(coverwindow)、太陽(yáng)能電池的覆蓋窗、建筑物的外部玻璃、眼鏡、汽車用玻璃等減少光的反射,從而可提高設(shè)備的效率并提高能見(jiàn)度。[0003]通常,透過(guò)光的界面的兩個(gè)媒質(zhì)之間的折射率差較大時(shí),產(chǎn)生根據(jù)被稱為菲涅耳(Fresnel)反射法則的兩個(gè)媒介之間的折射率和入射角及反射角決定反射率的反射現(xiàn)象。[0004]顯示器設(shè)備在野外等當(dāng)外部光強(qiáng)度較大時(shí),即使是較小的反射率,也會(huì)因?yàn)閮H次于從內(nèi)部放出的光的強(qiáng)度而降低夜晚的能見(jiàn)度。[0005]此外,類似于太陽(yáng)能電池的覆蓋玻璃,越是提高太陽(yáng)光的透過(guò),越是增加發(fā)電量,因此應(yīng)減少反射。另外,在建筑物外部玻璃或汽車玻璃上等,因?yàn)榉瓷涠鴮?dǎo)致的晃眼直接關(guān)系到安全問(wèn)題,從而有必要達(dá)成一定水準(zhǔn)以下的反射防止。[0006]由此,以抑制玻璃表面上的反射為目的,相對(duì)于作為入射光波長(zhǎng)的λ,具有大約λ/4的厚度同時(shí),將具有空氣和玻璃的折射率之間值的物質(zhì)涂覆在玻璃表面,則可減少反射。但是,所述方法相對(duì)于作為特定的波長(zhǎng)的λ,可抑制反射,因此如果要對(duì)可視光全區(qū)域進(jìn)行反射防止,則需要用對(duì)各種波長(zhǎng)涂覆的多層薄膜進(jìn)行涂覆。[0007]此外,由多層薄膜形成的涂覆層與作為基板的玻璃的粘著力有限,因此會(huì)產(chǎn)生剝離,并且如果產(chǎn)生所述剝離,則表面的薄膜層由于不均勻而出現(xiàn)雜亂的顏色。[0008]由于所述原因,通過(guò)多層薄膜涂覆的反射防止技術(shù)具有如下缺點(diǎn),難以適用于觸摸面板等經(jīng)常形成接觸的表面。[0009]作為反射防止技術(shù)的另一方法,有最近迅速受到關(guān)注并進(jìn)行研究的利用蛾眼效果的方法,如果將小于可見(jiàn)光線波長(zhǎng)帶的直徑的納米凸起形成于玻璃表面,則可見(jiàn)光線透過(guò)所述表面時(shí),無(wú)法識(shí)別納米凸起的存在,但是識(shí)別到根據(jù)凸起形狀玻璃表面的折射率逐漸變化,從而反射率降低。[0010]通過(guò)用于將所述蛾眼效果實(shí)現(xiàn)于基板的方法,可以實(shí)現(xiàn)各種工藝,并且各個(gè)不同的工藝具有優(yōu)缺點(diǎn)。例如納米壓?。╪anoimprinting)技術(shù)在模具(mold)的表面形成納米結(jié)構(gòu)物,從而利用液態(tài)聚合物(PoIymer)可形成納米結(jié)構(gòu)物,但是難以進(jìn)行大面積和高速生產(chǎn)。[0011]此外,在類似于光刻(Photo-lithography)的半導(dǎo)體工藝中,為了進(jìn)行納米圖案化,而必須使用EUV,是費(fèi)用非常高的工藝。由此,通過(guò)在透明的基板表面形成納米掩模并利用所述掩模在基板形成納米結(jié)構(gòu)物,從而形成反射防止的技術(shù)中需要開(kāi)發(fā)可進(jìn)行大面積和連續(xù)工藝的技術(shù)。[0012]由此,在基板本身形成納米結(jié)構(gòu)物時(shí),具有如下優(yōu)點(diǎn),無(wú)論何種情況都不會(huì)發(fā)生納米結(jié)構(gòu)物剝離的問(wèn)題,并且即使由于外部沖擊而發(fā)生損傷也不會(huì)被人的肉眼所識(shí)別。[0013]另外,根據(jù)入射光的波長(zhǎng)范圍,以及根據(jù)納米結(jié)構(gòu)物的大小與形狀,反射率不同,因此為了對(duì)此進(jìn)行調(diào)節(jié),而需要如下技術(shù):可以將納米掩模在大面積的基板上形成,并可以以各種尺寸和分布進(jìn)行調(diào)節(jié)?!?br/>發(fā)明內(nèi)容】[0014]本發(fā)明用于解決所述問(wèn)題,目的在于制造在整個(gè)UV-IR波長(zhǎng)范圍(180nm~1400nm)內(nèi)AR特性得到提高的母材。[0015]此外,本發(fā)明的目的在于,提供用于改善AR特性的各種裝置及工法。[0016]用于解決所述課題的本發(fā)明的通過(guò)掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步驟,在母材上形成掩模層;蝕刻步驟,對(duì)母材上未形成掩模的區(qū)域進(jìn)行蝕刻;以及掩模去除步驟,去除所述掩模層,并且所述掩模形成步驟包括至少形成一個(gè)以上的小型掩模的步驟,以及至少形成一個(gè)以上的大型掩模的步驟。[0017]作為掩模形成步驟的一個(gè)例子,將熔點(diǎn)不同的金屬在相同的溫度下進(jìn)行供給,從而可以形成小型掩?;虼笮脱谀#⑶易鳛榱硪粋€(gè)例子,將相同的金屬用相互不同的處理時(shí)間期間或在相互不同的溫度下進(jìn)行供給,從而也可以形成小型掩?;虼笮脱谀?。此外,就所述掩模形成步驟而言,將熔點(diǎn)不同的金屬用相互不同的處理時(shí)間期間或在相互不同的溫度下進(jìn)行供給,從而可形成小型掩?;虼笮脱谀!0018]就所述具體的方式而言,在相同的艙室內(nèi)將熔點(diǎn)不同的金屬用物理氣相沉積方法(PhysicalVaporDeposition,PVD),由此在母材上形成小型掩?;虼笮脱谀#蛘哂孟嗷ゲ煌奶幚頃r(shí)間期間進(jìn)行操作或施加相互不同的溫度的多個(gè)艙室中,將相同金屬通過(guò)物理氣相沉積方法在母材上形成為小型掩?;蛘叽笮脱谀#蛘?,用相互不同的處理時(shí)間期間進(jìn)行操作或施加相互不同額溫度的多個(gè)艙室中,將熔點(diǎn)不同的金屬通過(guò)物理氣相沉積方法可以在母材上可形成為小型掩?;虼笮脱谀?。[0019]在不同的實(shí)施例中,在相同的艙室內(nèi)調(diào)節(jié)母材的溫度,并將前驅(qū)體(precursor)通過(guò)化學(xué)氣相沉積方法(ChemicalVaporDeposition,CVD)進(jìn)行沉積,從而形成小型掩模或大型掩模,并且在多個(gè)艙室內(nèi)使得前驅(qū)體的種類不同,并且通過(guò)化學(xué)氣相沉積方法進(jìn)行沉積,從而也可以形成小型掩模或大型掩模。[0020]另外,用于達(dá)成本發(fā)明的目的的通過(guò)掩模的凸起形成裝置包括:艙室;母材安裝部,其形成于所述艙室內(nèi),并且將母材安裝于所述母材安裝部;金屬供給部,其形成于所述艙室內(nèi),用于通過(guò)派射方式向安裝于所述母材安裝部的母材上供給金屬;以及溫度調(diào)節(jié)部,其用于調(diào)節(jié)所述艙室內(nèi)溫度。[0021]此時(shí),母材安裝部包括母材加熱器(heater),所述母材加熱器用于將所安裝的母材加熱至已設(shè)定的溫度,并且在所述母材加熱器中可設(shè)置有多個(gè)熱電偶。另外,所述溫度調(diào)節(jié)部可包括測(cè)定艙室內(nèi)的溫度的傳感器,以及通過(guò)電力調(diào)整對(duì)艙室內(nèi)的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)的艙室加熱器。[0022]本發(fā)明的凸起形成裝置還可包括用于移動(dòng)母材的內(nèi)聯(lián)(in-line)部,隨著內(nèi)聯(lián)部的驅(qū)動(dòng),所述金屬供給部將熔點(diǎn)不同的金屬向母材進(jìn)行供給,并且所述溫度調(diào)節(jié)部將艙室內(nèi)的溫度維持為一定,從而可形成掩模。[0023]在另一個(gè)實(shí)施例中,艙室由相互區(qū)分的多個(gè)艙室組成,并且還包括內(nèi)聯(lián)部,所述內(nèi)聯(lián)部用于在所述多個(gè)艙室之間移動(dòng)母材,并且所述金屬供給部將相同的金屬向母材進(jìn)行供給,并且各個(gè)艙室用相互不同的處理時(shí)間期間進(jìn)行操作或通過(guò)所述溫度調(diào)節(jié)部分別調(diào)節(jié)為不同的溫度,從而可形成掩模。[0024]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的凸起形成裝置包括:艙室;母材安裝部,其形成于所述艙室內(nèi),并且將母材安裝于所述母材安裝部;氣體供給部,其通過(guò)化學(xué)氣相沉積方式(ChemicalVaporDeposition,CVD)向安裝于所述母材安裝部的母材上沉積掩模;以及溫度調(diào)節(jié)部,其用于調(diào)節(jié)所述母材的溫度,并且此時(shí),所述溫度調(diào)節(jié)部可包括傳感器及艙室加熱器,所述傳感器對(duì)艙室內(nèi)的溫度進(jìn)行測(cè)定,所述艙室加熱器通過(guò)電力調(diào)整對(duì)母材的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)。另外,氣體供給部將特定的前驅(qū)體(precursor)向母材供給,并且所述溫度調(diào)節(jié)部對(duì)母材的溫度進(jìn)行分階段地變更。[0025]在另一個(gè)實(shí)施例中,艙室由相互區(qū)分的多個(gè)艙室組成,并且還包括內(nèi)聯(lián)(in-line)部,所述內(nèi)聯(lián)部用于在多個(gè)艙室之間當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 4 
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