本公開內(nèi)容涉及襯底處理室，更具體而言，本公開內(nèi)容涉及測量氣體分配裝置與襯底支撐件之間的距離的系統(tǒng)與方法。

背景技術(shù)：

1、這里提供的背景描述是為了總體呈現(xiàn)本公開的背景的目的。當(dāng)前指定的發(fā)明人的工作在其在此背景技術(shù)部分以及在提交申請時(shí)不能確定為現(xiàn)有技術(shù)的說明書的各方面中描述的范圍內(nèi)既不明確也不暗示地承認(rèn)是針對本公開的現(xiàn)有技術(shù)。

2、襯底處理系統(tǒng)可用于處理諸如半導(dǎo)體晶片之類的襯底。可以在襯底上執(zhí)行的示例性處理包括但不限于化學(xué)氣相沉積(cvd)、原子層沉積(ald)、導(dǎo)體蝕刻和/或其他蝕刻、沉積或清潔處理。襯底可以布置在襯底處理系統(tǒng)的處理室中的襯底支撐件上，襯底支撐件例如基座、靜電卡盤(esc)等。

3、襯底支撐件可以包含布置成支撐襯底的陶瓷層。例如，可以在處理期間將晶片靜電夾持到陶瓷層上。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、在一特征中，一種襯底處理系統(tǒng)包含：激光三角傳感器，其被配置成通過襯底處理室的外壁的窗來傳輸和接收光?？刂破鞅慌渲贸桑簩⑺黾す馊莻鞲衅鞫ㄎ?，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于襯底支撐件的第一表面和氣體分配裝置的第二表面之間的測量特征上，其中所述第二表面面對所述第一表面；以及當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第一距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第二距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第三距離。

2、在其他特征中，所述測量特征被配置成：當(dāng)所述激光三角傳感器輸出光至所述測量特征的第一表面上時(shí)，將來自所述激光三角傳感器的光反射至所述襯底支撐件的所述第一表面上；以及當(dāng)所述激光三角傳感器輸出光至所述測量特征的第二表面上時(shí)，將來自所述激光三角傳感器的光反射至所述氣體分配裝置的所述第二表面上。

3、在其他特征中，所述測量特征包含含有鏡面涂膜的刀刃棱鏡。

4、在其他特征中，所述控制器被配置成將所述襯底處理室內(nèi)的溫度增加至大于或等于預(yù)定處理溫度，其中當(dāng)所述溫度大于或等于所述預(yù)定處理溫度時(shí)，所述控制器被配置成將所述激光三角傳感器定位。

5、在其他特征中，所述預(yù)定處理溫度為至少80℃。

6、在其他特征中，調(diào)整機(jī)構(gòu)被配置成升高和降低所述氣體分配裝置的一部分。

7、在其他特征中，所述控制器被配置成基于所述第一距離而選擇性地致動(dòng)所述調(diào)整機(jī)構(gòu)。

8、在其他特征中，所述控制器被配置成選擇性地致動(dòng)所述調(diào)整機(jī)構(gòu)，以將所述第一距離朝向第一目標(biāo)距離調(diào)整。

9、在其他特征中，所述控制器被進(jìn)一步配置成：將所述激光三角傳感器定位，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于所述襯底支撐件的所述第一表面和所述氣體分配裝置的所述第二表面之間的第二測量特征；以及當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述第二測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的第二差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第四距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第五距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第六距離。

10、在其他特征中，所述控制器被進(jìn)一步配置成：將所述激光三角傳感器定位，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于所述襯底支撐件的所述第一表面和所述氣體分配裝置的所述第二表面之間的第三測量特征；以及當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述第三測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的第三差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第七距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第八距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第九距離。

11、在其他特征中，第一調(diào)整機(jī)構(gòu)被配置成升高和降低所述氣體分配裝置上的第一點(diǎn)；第二調(diào)整機(jī)構(gòu)被配置成獨(dú)立于所述第一調(diào)整機(jī)構(gòu)而升高和降低所述氣體分配裝置上的第二點(diǎn)；第三調(diào)整機(jī)構(gòu)，其被配置成獨(dú)立于所述第一調(diào)整機(jī)構(gòu)和所述第二調(diào)整機(jī)構(gòu)而升高和降低所述氣體分配裝置上的第三點(diǎn)。

12、在其他特征中，所述控制器被配置成基于所述第一、第二、以及第三距離中的至少一者而選擇性地致動(dòng)所述第一、第二、以及第三調(diào)整機(jī)構(gòu)中的至少一者。

13、在一特征中，一種襯底處理方法包含：通過激光三角傳感器，穿過襯底處理室的外壁的窗來傳輸和接收光；將所述激光三角傳感器定位，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于襯底支撐件的第一表面和氣體分配裝置的第二表面之間的測量特征上，其中所述第二表面面對所述第一表面；當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第一距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第二距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第三距離。

14、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含通過所述測量特征：當(dāng)所述激光三角傳感器輸出光至所述測量特征的第一表面上時(shí)，將來自所述激光三角傳感器的光反射至所述襯底支撐件的所述第一表面上；以及當(dāng)所述激光三角傳感器輸出光至所述測量特征的第二表面上時(shí)，將來自所述激光三角傳感器的光反射至所述氣體分配裝置的所述第二表面上。

15、在其他特征中，所述測量特征包含含有鏡面涂膜的刀刃棱鏡。

16、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含將所述襯底處理室內(nèi)的溫度增加至大于或等于預(yù)定處理溫度，其中所述定位包含：當(dāng)所述溫度大于或等于所述預(yù)定處理溫度時(shí)，將所述激光三角傳感器定位。

17、在其他特征中，所述預(yù)定處理溫度為至少80℃。

18、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含：升高和降低所述氣體分配裝置的一部分。

19、在其他特征中，所述升高和降低包含基于所述第一距離而對所述氣體分配裝置的所述部分進(jìn)行升高和降低中的至少一者。

20、在其他特征中，所述升高和降低包含對所述氣體分配裝置的所述部分進(jìn)行升高和降低中的至少一者，以將所述第一距離朝向第一目標(biāo)距離調(diào)整。

21、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含：將所述激光三角傳感器定位，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于所述襯底支撐件的所述第一表面和所述氣體分配裝置的所述第二表面之間的第二測量特征；以及當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述第二測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的第二差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第四距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第五距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第六距離。

22、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含：將所述激光三角傳感器定位，使得所述激光三角傳感器傳輸光至布置于所述襯底支撐件的所述第一表面和所述氣體分配裝置的所述第二表面之間的第三測量特征；以及當(dāng)所述激光三角傳感器傳輸光至所述第三測量特征上時(shí)，基于下列兩者之間的第三差異來確定所述第一表面和所述第二表面之間的第七距離：使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第一表面之間的第八距離；以及使用所述激光三角傳感器所測得的介于所述激光三角傳感器與所述第二表面之間的第九距離。

23、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含：升高和降低所述氣體分配裝置上的第一點(diǎn)；獨(dú)立于所述第一點(diǎn)而升高和降低所述氣體分配裝置上的第二點(diǎn)；獨(dú)立于所述第一點(diǎn)和所述第二點(diǎn)而升高和降低所述氣體分配裝置上的第三點(diǎn)。

24、在其他特征中，所述襯底處理方法還包含基于所述第一、第二、以及第三距離中的至少一者而對所述第一、第二、以及第三點(diǎn)中的至少一者進(jìn)行升高和降低中的至少一者。

25、根據(jù)詳細(xì)描述、權(quán)利要求和附圖，本公開內(nèi)容的適用性的進(jìn)一步的范圍將變得顯而易見。詳細(xì)描述和具體示例僅用于說明的目的，并非意在限制本公開的范圍。