一種具有輔助開(kāi)口的掩模板及其制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開(kāi)口組成；輔助開(kāi)口圖案，所述輔助開(kāi)口圖案由輔助開(kāi)口構(gòu)成，所述輔助開(kāi)口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開(kāi)口長(zhǎng)度方向與所說(shuō)掩模開(kāi)口長(zhǎng)度方向平行。通過(guò)設(shè)置輔助開(kāi)口，使繃網(wǎng)后的掩模板的掩模區(qū)域受力均衡，避免了因繃網(wǎng)后掩模區(qū)域邊緣處開(kāi)口間狹長(zhǎng)金屬絲因受力過(guò)小，產(chǎn)生下垂，而導(dǎo)致開(kāi)口精度不高的缺陷，提高開(kāi)口精度，從而提高蒸鍍質(zhì)量。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種具有輔助開(kāi)口的掩模板及其制作方法
[0001]
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及一種掩模板，具體涉及一種具有輔助開(kāi)口的掩模板及其制作方法，屬于OLED掩模板制造領(lǐng)域。
[0003]
【背景技術(shù)】
[0004]OLED相對(duì)其它顯示屏具有可視范圍寬、響應(yīng)快、功耗小等突出優(yōu)點(diǎn)，因此OLED顯示技術(shù)日益受到人們的關(guān)注。蒸鍍工序是OLED顯示技術(shù)的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，蒸鍍中需要用到蒸鍍用的掩模板，有機(jī)蒸鍍材料通過(guò)掩模板的開(kāi)口蒸鍍淀積到ITO玻璃面，其中掩模板的開(kāi)口精度會(huì)直接影響到蒸鍍質(zhì)量。目前常用的一種掩模用具，如圖1所示是一種具有掩模開(kāi)口的掩模板，圖1中，11為掩模板主體，12為外框，13為掩模區(qū)域,14為焊點(diǎn),掩模板制作好后，需要將其繃網(wǎng)使板面及掩模區(qū)域均受到一定的拉力，其目的是使板面平整且使掩模區(qū)域開(kāi)口間的狹長(zhǎng)金屬絲繃緊(保證開(kāi)口精度，防止下垂)，繃網(wǎng)的具體操作通常是:將掩模板通過(guò)固定孔固定到繃網(wǎng)機(jī)構(gòu)上一繃?yán)?使板面平整且使金屬絲繃緊)一激光焊接(將掩模板主體11固定到外框12上，焊點(diǎn)為14)—沿半刻線將半刻線(圖中未示出半刻線)以外的區(qū)域撕下，即已經(jīng)固定好掩模板。但固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開(kāi)口間的狹長(zhǎng)金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開(kāi)口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，為此有必 要提出一種掩模板結(jié)構(gòu)解決此問(wèn)題。
[0005]

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)。本發(fā)明提供了一種具有輔助開(kāi)口的掩模板及其制作方法。一種具有輔助開(kāi)口的掩模板，包括掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開(kāi)口組成；輔助開(kāi)口圖案，所述輔助開(kāi)口圖案由輔助開(kāi)口構(gòu)成，所述輔助開(kāi)口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開(kāi)口長(zhǎng)度方向與所說(shuō)掩模開(kāi)口長(zhǎng)度方向平行。
[0007]根據(jù)本專(zhuān)利【背景技術(shù)】中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，如圖1所示，將掩模板通過(guò)固定孔固定到繃網(wǎng)機(jī)構(gòu)上繃?yán)?，使板面平整且使金屬絲繃緊后進(jìn)行激光焊接(將掩模板主體11固定到外框12上，焊點(diǎn)為14)并沿半刻線將半刻線以外的區(qū)域撕下，即已經(jīng)固定好掩模板。但固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開(kāi)口間的狹長(zhǎng)金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開(kāi)口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，本發(fā)明提供的具有輔助開(kāi)口的掩模板則加入一個(gè)輔助結(jié)構(gòu)，使受力較小的區(qū)域外移至輔助開(kāi)口上，從而保證了掩模圖案區(qū)域中間和兩側(cè)達(dá)到預(yù)期的開(kāi)口精度，保證蒸鍍質(zhì)量。
[0008]另外，根據(jù)本發(fā)明公開(kāi)的掩模板的還具有如下附加技術(shù)特征:進(jìn)一步地，所述掩模圖案的數(shù)量大于等于I，所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案數(shù)量比為 2:1。
[0009]可選地，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，在所述掩模圖案之間有一組輔助開(kāi)口，即兩個(gè)掩模圖案共用一組輔助開(kāi)口。
[0010]當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，基于掩模板及掩模圖案整體設(shè)計(jì)的考慮，可以將兩個(gè)所述掩模圖案之間兩組輔助開(kāi)口圖案合并為一組輔助開(kāi)口圖案，同時(shí)使輔助開(kāi)口避開(kāi)掩模淀積區(qū)域。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述掩模開(kāi)口和所述輔助開(kāi)口的開(kāi)口結(jié)構(gòu)相同且為通孔。
[0012]如此，可以使掩模開(kāi)口和輔助開(kāi)口受力狀況一致，保證之后的蒸鍍質(zhì)量。
[0013]可選地，所述輔助開(kāi)口和所述掩模開(kāi)口的開(kāi)口形狀相同但為封閉孔。
[0014]輔助開(kāi)口部分只在掩模板的一面蝕刻掉一定的厚度，另一面不進(jìn)行蝕刻，蒸鍍時(shí)有機(jī)材料不會(huì)通過(guò)輔助開(kāi)口而淀積到襯底上，因此設(shè)置輔助開(kāi)口到掩模開(kāi)口的距離時(shí)不必考慮避開(kāi)掩模區(qū)域，根據(jù)實(shí)際需要使其起到提高掩模區(qū)域邊緣的開(kāi)口精度。
[0015]進(jìn)一步地，所述輔助開(kāi)口間距和所述掩模開(kāi)口間距是所述輔助開(kāi)口寬度和所述掩模開(kāi)口寬度的2倍。
[0016]進(jìn)一步地，所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開(kāi)口之間距離的I倍以上(包含I倍)，一定的距離能夠使輔助開(kāi)口能夠形成更好的受力分布，使蒸鍍的效果更好，同時(shí)避開(kāi)掩模區(qū)域。
[0017]所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離要使輔助開(kāi)口能夠完全避開(kāi)蒸鍍掩模區(qū)域，同時(shí)也要起到輔助作用。
[0018]進(jìn)一步地，所述輔助開(kāi)口間距和所述掩模開(kāi)口間距相同，保證兩者間距的一致也會(huì)使得受力分布更加均衡，保證好的蒸鍍效果。
[0019]進(jìn)一步地，對(duì)于由銦瓦合金制成的掩模板輔助開(kāi)口數(shù)為1-5 ；
優(yōu)選地，掩模板輔助開(kāi)口數(shù)為2-4 ；
進(jìn)一步優(yōu)選地，所述輔助開(kāi)口數(shù)量是3。
[0020]其中所述掩模板開(kāi)口數(shù)與繃網(wǎng)張力、蝕刻參數(shù)、掩模板質(zhì)地有關(guān)，對(duì)于不同參數(shù)及材質(zhì)可以通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定最佳值。
[0021]本發(fā)明還提供了相應(yīng)的制作方法，其特征包括:
51,將制作掩模板的基板的兩面壓貼感光干膜；
52,按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光；
53,將曝光后的基板通過(guò)顯影等工藝去除未曝光的干膜；
54,將顯影后的基板蝕刻即可形成所述具有輔助開(kāi)口和掩模開(kāi)口的掩模板。
[0022]
本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
[0023]
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
圖1所示為掩模板整體示意圖；
圖2所示為具有輔助開(kāi)口的掩模板整體示意圖；
圖3所示為圖2中22部分放大示意圖；
圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種截面示意圖；
圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種截面示意圖；
圖6所示為貼感光膜截面示意圖；
圖7所示為曝光模板截面示意圖；
圖8所示為顯影后模板的截面示意圖；
圖9所示為蝕刻后掩模板截面示意圖；
圖10所示為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例示意圖；
圖1中，11為掩模板主體，13為掩模圖案，14為固定孔，12為外框；
圖2中，21為輔助開(kāi)口圖案，22為待放大區(qū)域； 圖3中，31為掩模開(kāi)口，32為掩模開(kāi)口間狹長(zhǎng)金屬絲，A-A為待解剖方向，dl是開(kāi)口的寬度，d2是開(kāi)口之間的距離(即開(kāi)口間距)，d3是輔助開(kāi)口到掩模區(qū)域的距離，211為輔助開(kāi)Π ；
圖6中，61、62為感光膜；
圖7中，61為未曝光的感光膜，71、72為曝光的感光膜；
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0026]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
[0027]在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點(diǎn)與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0028]本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思如下，由于掩模板在固定后掩模區(qū)域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開(kāi)口間的狹長(zhǎng)金屬絲會(huì)下垂，致使兩邊的開(kāi)口精度不高，從而影響蒸鍍質(zhì)量，本發(fā)明提供的具有輔助開(kāi)口的掩模板則加入一個(gè)分力結(jié)構(gòu)，使受力較小的區(qū)域外移至輔助開(kāi)口上，從而保證了掩模圖案區(qū)域內(nèi)部和兩側(cè)達(dá)到預(yù)期的開(kāi)口精度，保證蒸鍍質(zhì)量。
[0029]下面將參照附圖來(lái)描述本發(fā)明的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其中圖1所示為掩模板整體示意圖；圖2所示為具有輔助開(kāi)口的掩模板整體示意圖；圖3所示為圖2中22部分放大示意圖；圖4所示為圖3中沿A-A方向的一種截面示意圖；圖5所示為圖3中沿A-A方向的另一種截面示意圖。
[0030]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，一種具有輔助開(kāi)口的掩模板，如圖2所示，包括掩模板主體11，所述掩模板主體上有掩模圖案13，所述掩模圖案13由掩模開(kāi)口 31組成；輔助開(kāi)口圖案21，所述輔助開(kāi)口圖案21由輔助開(kāi)口 211構(gòu)成，所述輔助開(kāi)口 211位于所述掩模板主體11上，并分布在所述掩模圖案13兩側(cè)，所述輔助開(kāi)口 211長(zhǎng)度方向與所述掩模開(kāi)口 31長(zhǎng)度方向平行。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述掩模圖案13的數(shù)量大于等于1，所述輔助開(kāi)口圖案21與所述掩模圖案13數(shù)量比為2:1，如圖2所示。
[0032]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案13排成一列時(shí)，在所述掩模圖案13之間有一組輔助開(kāi)口 211，如圖10所示。
[0033]當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案13排成一列時(shí)，基于掩模板及掩模圖案13整體設(shè)計(jì)的考慮，可以將兩個(gè)所述掩模圖案13之間兩組輔助開(kāi)口圖案21合并為一組輔助開(kāi)口圖案21。
[0034]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述掩模開(kāi)口 31和所述輔助開(kāi)口 211的開(kāi)口結(jié)構(gòu)相同且為通孔，如圖4所示。
[0035]如此，可以使掩模開(kāi)口 31和輔助開(kāi)口 211受力狀況一致，保證之后的蒸鍍質(zhì)量。
[0036]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助開(kāi)口 211和所述掩模開(kāi)口 31的開(kāi)口形狀相同但為封閉孔，如圖5所示。
[0037]輔助開(kāi)口 211部分只蝕刻掉一面一定的厚度，另一面不進(jìn)行蝕刻，蒸鍍時(shí)有機(jī)材料不會(huì)通過(guò)輔助開(kāi)口 211而漏印，因此設(shè)置輔助開(kāi)口 211到掩模開(kāi)口 31的距離時(shí)不必考慮避開(kāi)掩模區(qū)域，根據(jù)實(shí)際需要使其起到提高掩模區(qū)域邊緣的開(kāi)口精度。
[0038]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助開(kāi)口間距和所述掩模開(kāi)口間距是所述輔助開(kāi)口寬度和所述掩模開(kāi)口寬度的大于等于I的整數(shù)倍。
[0039]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開(kāi)口之間距離的3倍以上(包含3倍)，一定的距離能夠使輔助開(kāi)口能夠形成更好的受力分布，使蒸鍍的效果更好，同時(shí)避開(kāi)掩模淀積區(qū)域。
[0040]所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離要使輔助開(kāi)口能夠完全避開(kāi)蒸鍍掩模區(qū)域，同時(shí)也要起到輔助作用。
[0041]根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，所述輔助開(kāi)口間距和所述掩模開(kāi)口間距相同，保證兩者間距的一致也會(huì)使得受力分布更加均衡，保證好的蒸鍍效果。
[0042]進(jìn)一步地，對(duì)于由銦瓦合金制成的掩模板輔助開(kāi)口數(shù)為1-5 ；
優(yōu)選地，掩模板輔助開(kāi)口數(shù)為2-4 ；
進(jìn)一步優(yōu)選地，所述輔助開(kāi)口數(shù)量是3。
[0043]一種具有輔助開(kāi)口的掩模板的制作方法，作為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖5中所示的輔助開(kāi)口的制作方法可由以下蝕刻工藝制成(不考慮其它圖形制作情況下):
51,貼膜:將制作掩模板的基板的兩面壓貼感光膜，如圖6所示，61、62為感光膜；
52,曝光:按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光，圖7中除61部分，其它部分(71、72)均為曝光區(qū)域；
5 3,顯影:將曝光后的基板經(jīng)顯影工藝將未曝光干膜區(qū)61部分的干膜去除，使待制開(kāi)口區(qū)域的基板表面裸露，如圖8所示(圖中所示為一種輔助開(kāi)口，即圖5中所示的輔助開(kāi)口形式)；
S4,蝕刻:將顯影后的掩模板通過(guò)蝕刻液蝕刻即可在61區(qū)域形成圖9所示凹槽結(jié)構(gòu)，在蝕刻過(guò)程中，通過(guò)控制蝕刻液的溶液配比、蝕刻時(shí)對(duì)掩模板的壓力、蝕刻的時(shí)間等參數(shù)來(lái)控制掩模板的蝕刻厚度(即蝕刻的開(kāi)口的深度);
蝕刻后的掩模板通過(guò)褪膜將之前曝光區(qū)域的干膜去除，即可得到圖5所示掩模板輔助開(kāi)口結(jié)構(gòu)的截面示意圖。
[0044]根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施例，在壓貼有感光膜的掩模板曝光工序中，可以針對(duì)不同類(lèi)型的輔助開(kāi)口結(jié)構(gòu)如圖4所示，進(jìn)行相應(yīng)的曝光圖案設(shè)置，得到對(duì)應(yīng)的輔助開(kāi)口結(jié)構(gòu)。
[0045]附圖中所示僅為結(jié)構(gòu)示意圖，圖中所展示的并不能完全真實(shí)的反映各種尺寸關(guān)系以及開(kāi)口圖形的外貌，其中掩模板主體上的掩模開(kāi)口及輔助開(kāi)口處的棱邊存在一定倒角的，且其開(kāi)口表面存在一定的弧度。
[0046]任何提 及“ 一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說(shuō)明書(shū)各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。
[0047]盡管參照本發(fā)明的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開(kāi)、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。
【權(quán)利要求】
1.一種具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，包括: 掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開(kāi)口組成； 輔助開(kāi)口圖案，所述輔助開(kāi)口圖案由輔助開(kāi)口構(gòu)成，所述輔助開(kāi)口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側(cè)，所述輔助開(kāi)口長(zhǎng)度方向與所說(shuō)掩模開(kāi)口長(zhǎng)度方向平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述掩模圖案的數(shù)量大于等于1，所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案數(shù)量比為2:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，當(dāng)兩個(gè)所述掩模圖案排成一列時(shí)，在所述掩模圖案之間有一組掩模開(kāi)口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口和所述掩模開(kāi)口的開(kāi)口結(jié)構(gòu)相同且為通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口和所述掩模開(kāi)口的開(kāi)口形狀相同但為封閉孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口圖案與所述掩模圖案臨近的一側(cè)與所述掩模圖案的距離是所述掩模開(kāi)口之間距離的I倍以上(包含I倍)，作為優(yōu)選為3倍。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口間距和所述掩模開(kāi)口間距相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口數(shù)量是1-5。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的具有輔助開(kāi)口的掩模板，其特征在于，所述輔助開(kāi)口數(shù)量是2_4。
10.一種具有輔助開(kāi)口的掩模板的制作方法，其特征在于: S1,將制作掩模板的基板的兩面壓貼感光干膜； S2,按照設(shè)計(jì)圖形通過(guò)曝光機(jī)對(duì)感光干膜進(jìn)行曝光，使得非蝕刻區(qū)域曝光； S3,將曝光后的基板通過(guò)顯影等工藝去除未曝光的干膜； S4,將顯影后的基板蝕刻即可形成所述具有輔助開(kāi)口和掩模開(kāi)口的掩模板。
【文檔編號(hào)】C23C14/04GK104018116SQ201310065563
【公開(kāi)日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2013年3月1日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月1日
【發(fā)明者】魏志凌, 高小平, 潘世珎, 劉學(xué)明 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司