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一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)的制作方法

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一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),包括:用于產(chǎn)生激光的半導(dǎo)體激光裝置以及光路部分,光路部分包括:依次設(shè)置的第一雙折射晶體、偏振旋轉(zhuǎn)器、二分之一波片、以及第二雙折射晶體;其中,所述激光正向通過(guò)所述光路部分后,對(duì)加工件進(jìn)行加工,而由所述加工件反射形成的反饋光逆向通過(guò)所述光路部分后,沿與所述激光平行且偏移預(yù)設(shè)距離的方向出射,避免了反饋光返回半導(dǎo)體激光器造成的不良影響。
【專利說(shuō)明】
一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體激光器領(lǐng)域,具體涉及一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]由于半導(dǎo)體激光器在輸出功率、電光轉(zhuǎn)換效率、可靠性及成本等方面的優(yōu)勢(shì),使得采用高功率半導(dǎo)體激光器進(jìn)行激光加工已經(jīng)成為必然需求。在激光加工過(guò)程中,高功率半導(dǎo)體激光器出射的激光在加工件表面工作時(shí),會(huì)有部分光被加工件反射回來(lái),這部分反饋光極易進(jìn)入高功率半導(dǎo)體激光器中,造成激光器輸出光譜不穩(wěn)定,輸出功率抖動(dòng)等現(xiàn)象,甚至?xí)p少半導(dǎo)體激光器的使用壽命,為此需要降低或者消除反饋光對(duì)半導(dǎo)體激光光源的影響。
[0003]目前消除反饋光的技術(shù)主要針對(duì)半導(dǎo)體激光光源輸出光為一個(gè)偏振方向的,防反饋原理是只讓這一種偏振方向的光通過(guò),并變換反饋光的偏振方向,從而使反饋光無(wú)法通過(guò)返回,但高功率半導(dǎo)體激光器前端進(jìn)行光束變換的時(shí)候,經(jīng)常會(huì)進(jìn)行偏振合束,使得輸出光存在兩個(gè)相互垂直的偏振方向,且兩個(gè)方向功率都占有較大比重;以及半導(dǎo)體激光器輸出光束本身不是完全的線偏振光,其偏振度高達(dá)95%_98%,但同樣存在其他的偏振態(tài)。在這種情況下,這種方案將無(wú)法作用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]鑒于上述技術(shù)問(wèn)題,為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提出了一種具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β实陌雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng)。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)。其包括:用于產(chǎn)生激光的半導(dǎo)體激光裝置以及光路部分,光路部分包括:依次設(shè)置的第一雙折射晶體、偏振旋轉(zhuǎn)器、二分之一波片、以及第二雙折射晶體;其中,所述激光正向通過(guò)所述光路部分后,對(duì)加工件進(jìn)行加工,而由所述加工件反射形成的反饋光逆向通過(guò)所述光路部分后,沿與所述激光平行且偏移預(yù)設(shè)距離的方向出射。
[0008](三)有益效果
[0009]從上述技術(shù)方案可以看出,本發(fā)明半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)至少具有以下有益效果其中之一:
[0010](I)在半導(dǎo)體激光裝置出光路徑上依次設(shè)置第一雙折射晶體、偏振旋轉(zhuǎn)器、二分之一波片及第二雙折射晶體,防止被加工件反射回的反饋光沿出射光路返回半導(dǎo)體激光器,降低了反饋光對(duì)半導(dǎo)體激光器輸出性能及壽命的影響;
[0011](2)半導(dǎo)體激光裝置附近位置設(shè)置收光裝置,來(lái)回收反饋光,防止反饋光干擾。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例中具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β拾雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0013]圖2為本發(fā)明第二實(shí)施例中具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β拾雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0014]圖3為本發(fā)明第三實(shí)施例中具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β拾雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]【主要元件】
[0016]111,211,311-半導(dǎo)體激光裝置;112-第一雙折射晶體;
[0017]113-偏振旋轉(zhuǎn)器;114-二分之一波片;115-第二雙折射晶體;
[0018]116-第一收光裝置;117-第二收光裝置;118-被加工件;
[0019]121,221_ 第一光路;122,322_ 第二光路;
[0020]123,223-第三光路;124,324-第四光路。
【具體實(shí)施方式】
[0021]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合具體實(shí)施例,并參照附圖,對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0022]本發(fā)明提供了一種具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β拾雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng),包括半導(dǎo)體激光裝置及在其出光方向依次設(shè)置的第一雙折射晶體、偏振旋轉(zhuǎn)器、二分之一波片及第二雙折射晶體。
[0023]半導(dǎo)體激光裝置產(chǎn)生高功率激光用于進(jìn)行激光加工。
[0024]第一雙折射晶體、偏振旋轉(zhuǎn)器、二分之一波片及第二雙折射晶體組合將半導(dǎo)體激光裝置產(chǎn)生的高功率激光分束后合束進(jìn)行激光加工,將反射的反饋光分束后均不返回半導(dǎo)體激光裝置,減少了激光器內(nèi)部損傷,進(jìn)而提高了半導(dǎo)體激光器的使用壽命。
[0025]本發(fā)明具體實(shí)施例于后方將參照所附附圖做更全面性地描述,其中一些但并非全部的實(shí)施例將被示出。實(shí)際上,本發(fā)明的各種實(shí)施例可以許多不同形式實(shí)現(xiàn),而不應(yīng)被解釋為限于此數(shù)所闡述的實(shí)施例;相對(duì)地,提供這些實(shí)施例使得本發(fā)明滿足適用的法律要求。
[0026]實(shí)施例1:
[0027]如圖1所示,本實(shí)施例提供一種具有防光反饋?zhàn)饔玫母吖β拾雽?dǎo)體激光加工系統(tǒng),包括半導(dǎo)體激光裝置111及在其出光方向依次設(shè)置的第一雙折射晶體112、偏振旋轉(zhuǎn)器113、二分之一波片114及第二雙折射晶體115。
[0028]其中半導(dǎo)體激光裝置111輸出為非單一方向偏振激光,其輸出路徑上設(shè)置第一雙折射晶體112,將非單一方向偏振激光分為兩束光,即ο光和e光,調(diào)整所述第一雙折射晶體112位置,使得0光直接透射沿第二光路122經(jīng)第一雙折射晶體112后沿原非單一方向偏振激光出射路徑出射,e光發(fā)生折射沿第一光路121在經(jīng)第一雙折射晶體112后沿與原非單一方向偏振激光出射路徑平行且向上偏離預(yù)定距離的路徑出射。
[0029]偏振旋轉(zhuǎn)器113優(yōu)選為法拉第旋光器,法拉第旋光器的法拉第效應(yīng)旋光角Θ= VBL,V為費(fèi)爾德常數(shù),B為平行光傳播方向的磁感應(yīng)強(qiáng)度,L為介質(zhì)厚度,法拉第效應(yīng)中,偏振旋轉(zhuǎn)方向由磁場(chǎng)決定,和光傳播方向無(wú)關(guān)。設(shè)置各參數(shù)使旋光角為45°,將入射到偏振旋轉(zhuǎn)器113上的沿第二光路122的0光和沿第一光路121的e光的偏振態(tài)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°,法拉第旋光器在本實(shí)施例的作用在于當(dāng)光往返一周,偏振角度順時(shí)針增加90°。
[0030] 二分之一波片114用于旋轉(zhuǎn)偏振光光的偏振方向,即若入射光偏振方向與波片光軸夾角為Θ,則出射光的偏振方向朝光軸方位轉(zhuǎn)過(guò)2Θ。本實(shí)施例中調(diào)整二分之一波片114的光軸與入射光的偏振態(tài)的夾角,使得入射到二分之一波片114的沿第二光路122和第一光路121的光的偏振態(tài)再順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°,二分之一波片在本實(shí)施例的作用在于當(dāng)光往返一周,偏振旋轉(zhuǎn)角抵消為O。
[0031 ] 經(jīng)過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113和二分之一波片114后,ο光和e光的偏振態(tài)均順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°,即沿第二光路122的光變?yōu)榱?e光,沿第一光路121的光變?yōu)榱?ο光。
[0032]第二與第一雙折射晶體相同,調(diào)整所述第二雙折射晶體115位置,將沿第一光路121的0光直接透射沿入射路徑射出,將沿第二光路122的e光發(fā)生折射同樣沿上述入射路徑射出,即將兩束光合束還原為非單一方向偏振激光,進(jìn)而進(jìn)行激光加工,該用于激光加工的非單一方向偏振激光的出射路徑與原非單一方向偏振激光的出射路徑平行,且向上偏離預(yù)定距離。
[0033]上述進(jìn)行激光加工的非單一方向偏振激光經(jīng)被加工件118反射,形成反饋光,偏振方向未發(fā)生改變,該反饋光沿與進(jìn)行激光加工的非單一方向偏振激光出射路徑逆路徑入射至第二雙折射晶體115,反饋光經(jīng)第二雙折射晶體115分為兩束,即反饋0光和反饋e光,反饋ο光與ο光偏振方向相同,反饋e光與e光偏振方向亦相同,反饋ο光沿第三光路123經(jīng)第二雙折射晶體115沿反饋光入射路徑出射,反饋e光沿第四光路124在經(jīng)第二雙折射晶體115后沿與原非單一方向偏振激光出射路徑逆路徑出射。
[0034]反饋0光與反饋e光經(jīng)二分之一波片114后,沿第三光路123的反饋ο光與沿第四光路的反射e光的偏振方向均逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°。
[0035]兩束反饋光繼續(xù)穿過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113,沿第三光路123的反饋光與沿第四光路的反饋光經(jīng)偏振旋轉(zhuǎn)器113后均順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°,即保持經(jīng)第二雙折射晶體115后的偏振方向,沿第三光路123的依然為反饋0光,沿第四路124的依然為反饋e光。
[0036]沿第三光路123的反饋ο光經(jīng)第一雙折射晶體112直接透射沿入射路徑射出,向上偏離了半導(dǎo)體激光裝置111輸出的原非單一方向偏振激光的輸出路徑預(yù)定距離,沿第四路124的反饋e光經(jīng)第一雙折射晶體112發(fā)生折射,沿平行于原非單一方向偏振激光輸出路徑逆路徑且向下偏離預(yù)定距離的路徑射出,亦偏離了半導(dǎo)體激光裝置111輸出原非單一方向偏振激光的輸出路徑,第三光路123與第四光路124經(jīng)第一雙折射晶體112后,均與原非單一方向偏振激光的輸出路徑平行,且位于其兩側(cè),與原非單一方向偏振激光的輸出路徑的距離相同。
[0037]第三光路123在入射至第一雙折射晶體112之前與第一光路121重疊,第四光路124在入射至第一雙折射晶體112之前與第二光路122重疊。
[0038]半導(dǎo)體激光裝置111兩側(cè)分別設(shè)置第一收光裝置116、第二收光裝置117,分別回收沿第三光路123的反饋ο光和第四光路124的反饋e光。
[0039]綜上所述,如圖1所示,半導(dǎo)體激光裝置111輸出的非單一方向偏振激光經(jīng)第一雙折射晶體112分為平行ο光和e光,經(jīng)偏振旋轉(zhuǎn)器113和半波片114后,ο光變?yōu)閑光,e光變?yōu)棣瞎?,兩束光?jīng)第二雙折射晶體115后還原為非單一方向偏振激光,輸出方向與原非單一方向偏振激光平行但間隔預(yù)定距離,經(jīng)第二雙折射晶體115輸出的非單一方向偏振激光經(jīng)被加工件118反射后反饋至第二雙折射晶體115,再次分為平行的0光和e光,經(jīng)二分之一波片114、偏振旋轉(zhuǎn)器113、第一雙折射晶體112后分開(kāi)出射,均不會(huì)射回半導(dǎo)體激光裝置111減少了激光器內(nèi)部損傷,進(jìn)而提高了半導(dǎo)體激光器的使用壽命。
[0040]實(shí)施例2:
[0041]如圖2所示,實(shí)施例2與實(shí)施例1采用的高功率半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)完全一致,包括半導(dǎo)體激光裝置211及在其出光方向依次設(shè)置的第一雙折射晶體112、偏振旋轉(zhuǎn)器113、二分之一波片114及第二雙折射晶體115。實(shí)施例2與實(shí)施例1的區(qū)別在于半導(dǎo)體激光裝置211輸出為單一偏振方向偏振激光,且其為相對(duì)于第一雙折射晶體112和第二雙折射晶體115的e光。
[0042]具體的半導(dǎo)體激光裝置211輸出為單一方向偏振激光,其為相對(duì)于第一雙折射晶體112的e光,第一雙折射晶體112與實(shí)施例中第一雙折射晶體112位置相同,上述e光沿第一光路221在經(jīng)第一雙折射晶體112后沿與原單一方向偏振激光出射路徑平行且向上偏離預(yù)定距離的方向出射。
[0043]偏振旋轉(zhuǎn)器113優(yōu)選為法拉第旋光器,設(shè)置與實(shí)施例1中相同,將入射到偏振旋轉(zhuǎn)器113上沿第一光路221的e光的偏振態(tài)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°。
[0044]二分之一波片114旋轉(zhuǎn)至合適角度,設(shè)置與實(shí)施例1中相同,使得入射到二分之一波片114的沿第一光路221的光的偏振態(tài)再順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°。
[0045]經(jīng)過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113和二分之一波片114后,e光的偏振態(tài)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°,沿第一光路221的光變?yōu)榱甩瞎狻?br>[0046]第二雙折射晶體115設(shè)置與第I實(shí)施例相同,將沿第一光路221的ο光直接透射沿入射方向射出,進(jìn)而進(jìn)行激光加工,該用于激光加工的單一方向偏振激光的出射路徑與原單一方向偏振激光的出射路徑平行,且向上偏離預(yù)定距離。
[0047]上述進(jìn)行激光加工的單一方向偏振激光經(jīng)被加工件118反射,形成反饋光,偏振方向未發(fā)生改變,依然為0光,該反饋光沿與進(jìn)行激光加工的單一方向偏振激光出射路徑逆路徑入射至第二雙折射晶體115,反饋ο光沿第三光路223經(jīng)第二雙折射晶體115沿反饋光入射方向出射。
[0048]反饋ο光經(jīng)二分之一波片114后,沿第三光路223的反饋ο光偏振方向均逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)
45。。
[0049]反饋光繼續(xù)穿過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113,沿第三光路223的反饋光經(jīng)偏振旋轉(zhuǎn)器113后順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°,即保持經(jīng)第二雙折射晶體115后的偏振方向,沿第三光路223的依然為反饋ο光。
[0050]沿第三光路223的反饋ο光經(jīng)第一雙折射晶體112接透射沿入射路徑射出,向上偏離了半導(dǎo)體激光裝置211輸出原單一方向偏振激光的輸出路徑預(yù)定距離,與原單一方向偏振激光的輸出路徑平行,且位于其一側(cè)。
[0051]第三光路223在入射至第一雙折射晶體112之前與第一光路221重疊。
[0052]半導(dǎo)體激光裝置211上述一側(cè)設(shè)置第一收光裝置116,回收沿第三光路223的反饋ο光。
[0053]實(shí)施例3:
[0054]如圖3所示,實(shí)施例3與實(shí)施例1采用的高功率半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)完全一致,包括半導(dǎo)體激光裝置311及在其出光方向依次設(shè)置的第一雙折射晶體112、偏振旋轉(zhuǎn)器113、二分之一波片114及第二雙折射晶體115。實(shí)施例3與實(shí)施例1的區(qū)別在于半導(dǎo)體激光裝置311輸出為單一偏振方向偏振激光,且其為相對(duì)于第一雙折射晶體112和第二雙折射晶體115的0光。
[0055]具體的半導(dǎo)體激光裝置311輸出為單一方向偏振激光,其為相對(duì)于第一雙折射晶體112的0光,第一雙折射晶體112與實(shí)施例中第一雙折射晶體112位置相同,上述ο光沿第二光路322在經(jīng)第一雙折射晶體112后沿原單一方向偏振激光出射路徑出射。
[0056]偏振旋轉(zhuǎn)器113優(yōu)選為法拉第旋光器,設(shè)置與實(shí)施例1中相同,將入射到偏振旋轉(zhuǎn)器113上沿第二光路322的0光的偏振態(tài)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°。
[0057]二分之一波片114旋轉(zhuǎn)至合適角度,設(shè)置與實(shí)施例1中相同,使得入射到二分之一波片114的沿第二光路322的光的偏振態(tài)再順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°。
[0058]經(jīng)過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113和二分之一波片114后,0光的偏振態(tài)順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°,沿第二光路322的光變?yōu)榱?e光。
[0059]第二雙折射晶體115設(shè)置與第I實(shí)施例相同,將沿第二光路322的e光經(jīng)第二雙折射晶體115沿與原單一方向偏振激光出射路徑平行且向上偏離預(yù)定距離的路徑出射,進(jìn)而進(jìn)行激光加工,該用于激光加工的單一方向偏振激光的出射路徑與原單一方向偏振激光的出射路徑平行,且向上偏離預(yù)定距離。
[0060]上述進(jìn)行激光加工的單一方向偏振激光經(jīng)被加工件118反射,形成反饋光,偏振方向未發(fā)生改變,依然為e光,該反饋光沿與進(jìn)行激光加工的單一方向偏振激光出射路徑逆路徑入射至第二雙折射晶體115,反饋e光沿第四光路324經(jīng)第二雙折射晶體115沿原單一方向偏振激光出射路徑逆路徑出射。
[0061]反饋e光經(jīng)二分之一波片114后,沿第四光路324的反饋e光偏振方向均逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)
45。。
[0062]反饋光繼續(xù)穿過(guò)偏振旋轉(zhuǎn)器113,沿第四光路324的反饋光經(jīng)偏振旋轉(zhuǎn)器113后順時(shí)針旋轉(zhuǎn)45°,即保持經(jīng)第二雙折射晶體115后的偏振方向,沿第四光路324的依然為反饋e光。
[0063]沿第四光路324的反饋e光經(jīng)第一雙折射晶體124發(fā)生折射,沿原單一方向偏振激光的輸出路徑逆路徑平行且向下間隔預(yù)定距離的路徑射出,位于原單一方向偏振激光的輸出路徑另一側(cè)。
[0064]第四光路324在入射至第一雙折射晶體112之前與第二光路122重疊。
[0065]半導(dǎo)體激光裝置311上述另一側(cè)設(shè)置第二收光裝置117,回收沿第四光路324的反饋e光。
[0066]上述三個(gè)實(shí)施例中半導(dǎo)體激光裝置111、211、311為了實(shí)現(xiàn)高功率可以包括半導(dǎo)體激光疊陣及整形裝置,其中半導(dǎo)體激光疊陣采用多個(gè)半導(dǎo)體激光二極管疊置,整形裝置包括順序排列的準(zhǔn)直透鏡組、光束分割器、光束重排器、擴(kuò)束器、和/或聚焦透鏡。
[0067]上述三個(gè)實(shí)施例中的收光裝置可以采用吸光板、吸光桶等,來(lái)吸收絕大部分反饋光,避免反饋光對(duì)高功率半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng)造成干擾。
[0068]應(yīng)注意,附圖中各部件的形狀和尺寸不反映真實(shí)大小和比例,而僅示意本發(fā)明實(shí)施例的內(nèi)容。
[0069]實(shí)施例中提到的方向用語(yǔ),例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等,僅是參考附圖的方向,并非用來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。并且上述實(shí)施例可基于設(shè)計(jì)及可靠度的考慮,彼此混合搭配使用或與其他實(shí)施例混合搭配使用,即不同實(shí)施例中的技術(shù)特征可以自由組合形成更多的實(shí)施例。
[0070]以上所述的具體實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,應(yīng)理解的是,以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
[0071]需要說(shuō)明的是,在附圖或說(shuō)明書(shū)正文中,未繪示或描述的實(shí)現(xiàn)方式,均為所屬技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員所知的形式,并未進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。此外,上述對(duì)各元件和方法的定義并不僅限于實(shí)施例中提到的各種具體結(jié)構(gòu)、形狀或方式,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可對(duì)其進(jìn)行簡(jiǎn)單地更改或替換。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于,包括: 半導(dǎo)體激光裝置(111、211、311),其產(chǎn)生激光;以及 光路部分,包括:依次設(shè)置的第一雙折射晶體(112)、偏振旋轉(zhuǎn)器(113)、二分之一波片(114)、以及第二雙折射晶體(115); 其中,所述激光正向通過(guò)所述光路部分后,對(duì)加工件(118)進(jìn)行加工,而由所述加工件(118)反射形成的反饋光逆向通過(guò)所述光路部分后,沿與所述激光平行且偏移預(yù)設(shè)距離的方向出射。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于: 所述激光為非單一方向偏振激光; 所述非單一方向偏振激光經(jīng)所述第一雙折射晶體(112)后分束為平行出射且偏振方向相互垂直的第一偏振光和第二偏振光,所述第一偏振光和第二偏振光經(jīng)所述偏振旋轉(zhuǎn)器(113)、二分之一波片(114)偏振方向互換,經(jīng)所述第二雙折射晶體(115)合束后投射到加工件(118)上; 所述反饋光反向通過(guò)所述第二雙折射晶體(115)后分為平行出射且偏振方向相互垂直的第一偏振反饋光和第二偏振反饋光,所述第一偏振反饋光和第二偏振反饋光反向經(jīng)所述二分之一波片(114)、偏振旋轉(zhuǎn)器(113)后偏振方向保持不變,反向經(jīng)所述第一雙折射晶體(112)后,分別沿與所述非單一方向偏振激光出射路徑逆路徑平行且在第一方向、第二方向偏移預(yù)定距離的路徑出射。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于: 所述激光為第一偏振光,所述第一偏振光相對(duì)于所述第一雙折射晶體(112)為e光; 所述第一偏振光經(jīng)所述第一雙折射晶體(112)后平行于第一偏振光出射路徑出射,經(jīng)所述偏振旋轉(zhuǎn)器(113)、二分之一波片(114)偏振方向偏轉(zhuǎn)90°,經(jīng)第二所述雙折射晶體(115)投射到加工件(118)上; 所述反饋光為第一偏振反饋光,反向通過(guò)所述第二雙折射晶體(115),反向經(jīng)所述二分之一波片(114)、偏振旋轉(zhuǎn)器(113)后偏振方向保持不變,反向經(jīng)所述第一雙折射晶體(112)后,沿與所述第一偏振光出射路徑逆路徑平行且在第一方向偏移預(yù)定距離的路徑出射。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于: 所述激光為第二偏振光,所述第二偏振光相對(duì)于所述第一雙折射晶體(112)為0光; 所述第二偏振光經(jīng)所述第一雙折射晶體(112)后沿第二偏振光出射路徑出射,經(jīng)所述偏振旋轉(zhuǎn)器(113)、二分之一波片(114)偏振方向偏轉(zhuǎn)90°,經(jīng)所述第二雙折射晶體(115)沿平行于第二偏振光出射路徑出射投射到加工件(118)上; 所述反饋光為第二偏振反饋光,反向通過(guò)所述第二雙折射晶體(115),沿所述第二偏振光出射路徑逆路徑出射,經(jīng)反向經(jīng)所述二分之一波片(114)、偏振旋轉(zhuǎn)器(113)后偏振方向保持不變,反向經(jīng)第一雙折射晶體(112)后,沿與所述第二偏振光出射路徑逆路徑平行且在第二方向偏移預(yù)定距離的路徑出射。5.根據(jù)權(quán)利要求2至4中任一所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于: 所述偏振旋轉(zhuǎn)器(I 13)為法拉第旋光器,將正向入射的所述第一偏振光和/或第二偏振光與反向入射的所述第一偏振反饋光和/或第二偏振反饋光均順時(shí)針或逆時(shí)針偏移45°;所述二分之一波片(114)將正向入射的所述第一偏振光和/或所述第二偏振光順時(shí)針或逆時(shí)針偏移45°,將反向入射的所述第一偏振反饋光和/或所述第二偏振反饋光相應(yīng)逆時(shí)針或順時(shí)針偏移45°。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于,所述第一方向和所述第二方向的方向相反,所述在第一方向偏移預(yù)定距離和第二方向偏移預(yù)定距離相等。7.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于:所述半導(dǎo)體激光裝置至少一側(cè)設(shè)置收光裝置(116、117 ),用于回收所述反饋光。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其特征在于,所述收光裝置(116、117)包括:吸光板和/或吸光桶。9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),所述半導(dǎo)體激光裝置(111、211、311)包括: 半導(dǎo)體激光疊陣,用于產(chǎn)生激光;以及 整形裝置,用于對(duì)所述半導(dǎo)體激光疊陣產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體激光加工系統(tǒng),其中: 所述半導(dǎo)體激光疊陣采用多個(gè)半導(dǎo)體激光二極管疊置;和/或, 所述整形裝置包括順序排列的準(zhǔn)直透鏡組、光束分割器、光束重排器、擴(kuò)束器、和/或聚焦透鏡。
【文檔編號(hào)】B23K26/064GK105904085SQ201610532697
【公開(kāi)日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年7月7日
【發(fā)明人】汪楠, 徐昕, 趙亞平, 陳晴, 林學(xué)春, 楊盈瑩, 于海娟
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所
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