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抗蝕劑下層膜形成用組合物的制作方法_2

文檔序號(hào):8909109閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
如為1質(zhì)量%~20質(zhì)量%,優(yōu)選為1質(zhì) 量%~12質(zhì)量%。
[0030] 本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物中,作為任意成分,為了提高對(duì)基板的涂布 性,可W含有表面活性劑。作為上述表面活性劑,可舉出例如聚氧己締月桂基離、聚氧己 締硬脂基離、聚氧己締嫁蠟基離、聚氧己締油基離等聚氧己締烷基離類(lèi)、聚氧己締辛基苯基 離、聚氧己締壬基苯基離等聚氧己締烷基芳基離類(lèi)、聚氧己締-聚氧丙締嵌段共聚物類(lèi)、失 水山梨糖醇單月桂酸醋、失水山梨糖醇單棟桐酸醋、失水山梨糖醇單硬脂酸醋、失水山梨糖 醇單油酸醋、失水山梨糖醇=油酸醋、失水山梨糖醇=硬脂酸醋等失水山梨糖醇脂肪酸醋 類(lèi)、聚氧己締失水山梨糖醇單月桂酸醋、聚氧己締失水山梨糖醇單棟桐酸醋、聚氧己締失水 山梨糖醇單硬脂酸醋、聚氧己締失水山梨糖醇=油酸醋、聚氧己締失水山梨糖醇=硬脂酸 醋等聚氧己締失水山梨糖醇脂肪酸醋類(lèi)等非離子系表面活性劑、工7hッッ〔注冊(cè)商標(biāo)) EF301、工7hッ六EF303、工7hッ六EF352 (S菱7テy六瓜電子化成(株)制)、^方 7 7 ッ,〔注冊(cè)商標(biāo))F171、^方7 7 ッ,F(xiàn)173、^方7 7 ッ,R-30、^方7 7 ッ,R-30N、 ^方7 7 ッ夕R-40、^方7 7 ッ夕R-40-LM值1C(株)制)、7口號(hào)一FFC430、7口號(hào)一F FC43U住友乂y-工厶(株)制)、六虧t方一F〔注冊(cè)商標(biāo))AG710、虧一7口シ〔注冊(cè)商 標(biāo))S-382、虧一7口 シSC101、虧一7口 シSC102、虧一7口 シSC103、虧一7口 シSC104、虧 一7口シSC105、虧一7口シSC106(旭硝子(株)制)等氣系表面活性劑、有機(jī)硅氧烷聚合 物KP34U信越化學(xué)工業(yè)(株)制)。該些表面活性劑可W單獨(dú)使用或二種W上組合使用。
[0031] 在使用上述表面活性劑的情況下,該表面活性劑的含量相對(duì)于上述聚合物的含 量,例如為0. 01質(zhì)量%~5質(zhì)量%,優(yōu)選為0. 1質(zhì)量%~3質(zhì)量%。
[0032] 本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物可W通過(guò)使上述各成分溶解于含有超過(guò)50 質(zhì)量%、例如含有70質(zhì)量% ^上100質(zhì)量% ^下的丙二醇單甲基離的溶劑來(lái)調(diào)制,W均勻 的溶液狀態(tài)使用。當(dāng)上述溶劑中的丙二醇單甲基離的含量小于100質(zhì)量%時(shí),該溶劑的殘 余成分由不與丙二醇單甲基離發(fā)生層分離而能夠混合的溶劑構(gòu)成。作為該樣的溶劑,可舉 出例如,己二醇單甲基離、己二醇單己基離、甲基溶纖劑己酸醋、己基溶纖劑己酸醋、二甘醇 單甲基離、二甘醇單己基離、丙二醇、丙二醇單己基離、丙二醇單甲基離己酸醋、丙二醇丙基 離己酸醋、甲苯、二甲苯、甲基己基酬、甲基異了基酬、環(huán)戊酬、4-甲基-2-戊醇、2-哲基異了 酸己醋、己氧基己酸己醋、己酸2-哲基己醋、3-甲氧基丙酸甲醋、3-甲氧基丙酸己醋、3-己 氧基丙酸己醋、3-己氧基丙酸甲醋、丙酬酸甲醋、丙酬酸己醋、己酸己醋、己酸了醋、乳酸己 醋、乳酸了醋、N,N-二甲基甲酯胺、N,N-二甲基己酷胺和水,作為優(yōu)選例,可舉出二甘醇單 己基離、丙二醇、丙二醇單己基離、丙二醇單甲基離己酸醋、二甲苯、甲基己基酬、甲基異了 基酬、環(huán)戊酬、4-甲基-2-戊醇、2-哲基異了酸己醋、己氧基己酸己醋、己酸2-哲基己醋、 3-甲氧基丙酸甲醋、3-甲氧基丙酸己醋、3-己氧基丙酸己醋、3-己氧基丙酸甲醋、丙酬酸甲 醋、丙酬酸己醋、己酸己醋、己酸了醋、乳酸己醋、乳酸了醋和水。該些溶劑可W單獨(dú)使用或 二種W上組合使用。
[0033] 調(diào)制的抗蝕劑下層膜形成用組合物優(yōu)選使用孔徑為例如0. 2ym的過(guò)濾器過(guò)濾后 再使用。本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物在室溫下長(zhǎng)期的儲(chǔ)存穩(wěn)定性也優(yōu)異。
[0034]W下,對(duì)于本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物的使用進(jìn)行說(shuō)明。在基板〔例如, 娃片等半導(dǎo)體基板、被氧化娃膜被覆了的娃片等半導(dǎo)體基板、被氮化娃膜或氧化氮化娃膜 被覆了的娃片等半導(dǎo)體基板、氮化娃基板、石英基板、玻璃基板(包括無(wú)堿玻璃、低堿玻璃、 結(jié)晶玻璃)、形成有IT0膜的玻璃基板等)上,通過(guò)旋涂器、涂布機(jī)等適當(dāng)?shù)耐坎挤椒▉?lái)涂布 本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物,然后,通過(guò)使用電熱板等加熱裝置來(lái)進(jìn)行烘烤,從而 形成抗蝕劑下層膜。作為烘烤條件,從烘烤溫度l〇〇°C~400°C、烘烤時(shí)間0. 3分鐘~10分 鐘中適當(dāng)選擇。優(yōu)選為烘烤溫度120°C~300°C、烘烤時(shí)間0.5分鐘~5分鐘。作為所形成 的抗蝕劑下層膜的膜厚,例如為0. 001ym~1ym,優(yōu)選為0. 002ym~0. 5ym,更優(yōu)選為 0. 002ym~0. 1ym。
[OCK35] 在烘烤時(shí)的溫度低于上述范圍的情況下有時(shí)交聯(lián)變得不充分,發(fā)生與上層所形成 的抗蝕劑的混合。另一方面,在烘烤時(shí)的溫度高于上述范圍的情況下,有時(shí)抗蝕劑下層膜會(huì) 由于熱而分解。
[0036] 接著在上述抗蝕劑下層膜上,形成抗蝕劑??刮g劑的形成可W通過(guò)通常的方法, 即,將光致抗蝕劑溶液涂布于抗蝕劑下層膜上,進(jìn)行烘烤來(lái)進(jìn)行。
[0037] 作為上述抗蝕劑的形成所使用的光致抗蝕劑溶液,只要對(duì)曝光所使用的光感光, 就沒(méi)有特別限定,可W使用正型光致抗蝕劑??膳e出;包含具有通過(guò)酸來(lái)分解而使堿溶解 速度上升的基團(tuán)的粘合劑與光產(chǎn)酸劑的化學(xué)增幅型光致抗蝕劑;包含通過(guò)酸來(lái)分解而使 光致抗蝕劑的堿溶解速度上升的低分子化合物與堿溶性粘合劑與光產(chǎn)酸劑的化學(xué)增幅型 光致抗蝕劑;包含具有通過(guò)酸來(lái)分解而使堿溶解速度上升的基團(tuán)的粘合劑與通過(guò)酸來(lái)分 解而使光致抗蝕劑的堿溶解速度上升的低分子化合物與光產(chǎn)酸劑的化學(xué)增幅型光致抗蝕 劑。可舉出例如,住友化學(xué)(株)制,商品名;PAR710、東京應(yīng)化工業(yè)(株)制,商品名: TDUR-P3435LP、和信越化學(xué)工業(yè)(株)制,商品名;SEPR430。也可W代替正型光致抗蝕劑, 使用負(fù)型光致抗蝕劑。
[0038] 形成抗蝕劑圖案時(shí),通過(guò)用于形成規(guī)定圖案的掩模(中間掩模)來(lái)進(jìn)行曝光。曝 光時(shí),可W使用例如KrF準(zhǔn)分子激光、ArF準(zhǔn)分子激光、EUV(超紫外線)。曝光后,可W根 據(jù)需要進(jìn)行曝光后加熱(PostExposureBake)。作為"曝光后加熱"的條件,從加熱溫度 80°C~150°C、加熱時(shí)間0. 3分鐘~10分鐘中適當(dāng)選擇。然后,經(jīng)由用堿性顯影液進(jìn)行顯影 的工序,形成抗蝕劑圖案。作為顯影的條件,從顯影溫度5°C~50°C、顯影時(shí)間10秒~300 秒中適當(dāng)選擇。
[0039] 作為上述堿性顯影液,可舉出例如,氨氧化鐘、氨氧化鋼等堿金屬氨氧化物的水溶 液、氨氧化四甲錠、氨氧化四己錠、膽堿等氨氧化季錠的水溶液、己醇胺、丙胺、己二胺等胺 水溶液等堿性水溶液。進(jìn)一步,也可W在該些顯影液中添加表面活性劑等。
[0040] 實(shí)施例
[0041] W下,使用下述合成例和實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的抗蝕劑下層膜形成用組合物的具 體例,但本發(fā)明不限定于此。
[0042] 示出由下述合成例獲得的聚合物的重均分子量的測(cè)定所使用的裝置等。
[0043] 裝置;東y-(株)制HLC-8320GPC)
[0044] GPC柱;Shodex〔注冊(cè)商標(biāo))?As址ipak〔注冊(cè)商標(biāo))(昭和電工(株))
[004引 柱溫度;40°C
[0046] 溶劑;N,N-二甲基甲酯胺值MF)
[0047] 流量;0. 6ml/ 分鐘
[0048] 標(biāo)準(zhǔn)試樣:聚苯己締(東y-(株))
[004引 < 合成例1 >
[0050] 將混合有對(duì)苯二甲酸二縮水甘油醋(十方屯個(gè)厶テッ夕乂(株)審IJ,制品名 EX-711)27g、6-哲基-2-蒙甲酸(東京化成工業(yè)(株)制)18.492g、己基S苯基漠化,鱗 (ACROSS社制)1. 824g、丙二醇單甲基離110. 404g的溶液加溫至120°C,在氮?dú)鈿夥障路磻?yīng) 24小時(shí),獲得了具有下述式(A-1)所示的結(jié)構(gòu)單元的高分子化合物的溶液。進(jìn)行了所得的 高分子化合物的GPC分析,結(jié)果W標(biāo)準(zhǔn)聚苯己締換算計(jì)重均分子量為約3900。
[0051]
[005引 < 合成例2 >
[0053] 將混合有對(duì)苯二甲酸二縮水甘油醋(十方屯個(gè)厶テッ夕乂(株)審Ij,制品名 EX-711)7.00g、6-哲基-2-蒙甲酸(東京化成工業(yè)(株)制)4.97g、己基S苯基漠化鱗 (ACROSS社制)0. 45g、丙二醇單甲基離28. 96g的溶液加溫至120°C,在氮?dú)鈿夥障路磻?yīng)24 小時(shí),獲得了具有上述式(A-1)所示的結(jié)構(gòu)單元的高分子化合物的溶液。進(jìn)行了所得的高 分子化合物的GPC分析,結(jié)果W標(biāo)準(zhǔn)聚苯己締換算計(jì)重均分子量為約3900。
[0054] <合成例3 >
[00對(duì)將混合有1,6-雙化3-環(huán)氧丙烷-1-基氧基)蒙值1C(株)審Ij,制品名HP-4032D)5.0g、對(duì)
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