取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法及相位差材的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法以及相位差材。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，在使用了液晶面板的電視等的顯示器的領(lǐng)域，作為針對高性能化的努力， 可以欣賞3D圖像的3D顯示器的開發(fā)進展。在3D顯示器中，例如，通過使觀察者的右眼可 見右眼用圖像，使觀察者的左眼可見左眼用圖像，從而可以顯示具有立體感的圖像。
[0003] 顯示3D圖像的3D顯示器的方式有多種，作為不需要專用眼鏡的方式，已知雙凸透 鏡方式和視差屏障方式等。
[0004] 而且，作為觀察者佩戴眼鏡來觀察3D圖像的顯示器的方式之一，已知圓偏光眼鏡 方式等（例如，參照專利文獻1。）。
[0005] 在圓偏光眼鏡方式的3D顯示器的情況下，通常在液晶面板等形成圖像的顯示元 件上配置相位差材。該相位差材構(gòu)成分別多個規(guī)則地配置相位差特性不同的2種相位差區(qū) 域，進行了圖案形成的相位差材。另外，以下，在本說明書中，將以配置這樣的相位差特性不 同的多個相位差區(qū)域的方式圖案化了的相位差材特別地稱為圖案化相位差材。
[0006] 關(guān)于圖案化相位差材，例如，如專利文獻2所公開地那樣，可以通過使用作為具有 聚合性的液晶的聚合性液晶，將由該聚合性液晶形成的相位差材料進行光學(xué)圖案形成來進 行制作。由聚合性液晶形成的相位差材料的光學(xué)圖案形成利用在液晶面板的液晶的取向材 形成中已知的光取向技術(shù)。即，在基板上設(shè)置由光取向性的材料形成的涂膜，對其照射偏光 方向不同的2種偏光。而且，作為形成了液晶的取向控制方向不同的2種液晶取向區(qū)域的 取向材，獲得了光取向膜。在該光取向膜上涂布包含聚合性液晶的溶液狀的相位差材料，實 現(xiàn)聚合性液晶的取向。然后，將取向了的聚合性液晶進行固化而形成圖案化相位差材。
[0007] 在使用了液晶面板的光取向技術(shù)的取向材形成中，作為能夠利用的光取向性的材 料，已知側(cè)鏈具有肉桂?；筒槎裙舛刍课坏谋┧嵯禈渲?、聚酰亞胺樹脂等。 報告了這些樹脂通過進行偏光UV照射而顯示控制液晶的取向的性能（以下，也稱為液晶取 向性。）（參照專利文獻3?專利文獻5。）。
[0008] 如上所述，為了獲得圖案化相位差材，利用光取向技術(shù)進行了取向材的形成。在該 取向材的形成時，作為照射偏光方向不同的2種偏光來獲得取向材的方法，已知下述方法： 在第1次偏光曝光工序中利用光掩模，僅對2種相位差區(qū)域中的例如用于形成第1相位差 區(qū)域的涂膜的第1區(qū)域，以第1照射量照射具有規(guī)定偏光方向的第1偏光。然后，在第2次 偏光曝光工序中，取下該光掩模，對包含用于形成第2相位差區(qū)域的涂膜的第2區(qū)域的涂膜 整面，以例如二分之一等比第1照射量少的照射量照射與第1偏光的偏光方向不同的第2 偏光。
[0009] 此外，作為其它方法，在第1次偏光曝光工序中，對涂膜的整面以第1照射量照射 第1偏光。然后，在第2次偏光曝光工序中，使用光掩模，僅對2種相位差區(qū)域中的例如用 于形成第1相位差區(qū)域的涂膜的第1區(qū)域，以例如2倍等比第1照射量多的照射量照射與 第1偏光的偏光方向不同的第2偏光。
[0010] 圖2(a)和（b)為說明現(xiàn)有的取向材的制造方法的圖，圖2(a)為說明第1次偏光 曝光工序的圖，圖2(b)為說明第2次偏光曝光工序的圖。
[0011] 作為制造取向材的方法，作為其它方法，如圖2(a)和（b)所示，已知被稱為掩模對 準(zhǔn)法的方法。
[0012] 在圖2(a)和（b)所示的掩模對準(zhǔn)法中，在進行至少兩次偏光曝光的工序中，分別 使用圖案不同的光掩模。
[0013] 即，在掩模對準(zhǔn)法中，首先，在成為支持材的基板1000上設(shè)置由光取向性的材料 形成的涂膜1001。接下來，在第1次偏光曝光工序中，利用光掩模1002,僅對相位差材的2 種相位差區(qū)域中的例如用于形成第1相位差區(qū)域的涂膜1001的第1區(qū)域，以第1照射量照 射具有規(guī)定偏光方向的第1偏光1004。然后，在第2次偏光曝光工序中，使用其它圖案的光 掩模1003進行定位，僅對相位差材的用于形成第2相位差區(qū)域的涂膜1001的第2區(qū)域，照 射與第1偏光1004偏光方向不同的第2偏光1005。此時，第2偏光1005的照射量可以為 與第1偏光1004的照射量相同量的程度，可以實現(xiàn)進行偏光照射的曝光工序的效率化。
[0014] 然而，作為以往技術(shù)的掩模對準(zhǔn)法需要準(zhǔn)備2張光掩模，掩模對準(zhǔn)的難易度也高， 有成品率降低的擔(dān)心。
[0015] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0016] 專利文獻
[0017] 專利文獻1 :日本特開平10-232365號公報
[0018] 專利文獻2 :日本特開2005-49865號公報
[0019] 專利文獻3 :日本特許第3611342號
[0020] 專利文獻4 :日本特開2009-058584號公報
[0021] 專利文獻5 :日本特表2001-517719號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0022] 發(fā)明所要解決的課題
[0023] 如上所述，在圖案化相位差材的制造中，進行了利用了光取向技術(shù)的取向材的制 造、和使用了該取向材的圖案化相位差材的形成。
[0024] 在該情況下，在上述的任一現(xiàn)有取向材的制造方法中，都需要兩次以上的偏光曝 光。因此，導(dǎo)致曝光工序的長時間化，進而，成為使取向材和圖案化相位差材的制造的效率 降低的原因。
[0025] 因此，需要可以高效率地制造取向材的取向材的制造方法。
[0026] 本發(fā)明是基于以上的認(rèn)識、研究結(jié)果而提出的。S卩，本發(fā)明的目的是提供可以高效 率地形成取向材的取向材的制造方法。而且本發(fā)明的目的是，使用該取向材的制造方法來 提供取向材。
[0027] 此外，本發(fā)明的其它目的是提供包含高效率的取向材的制造方法的高效率的相位 差材的制造方法。而且本發(fā)明的其它目的是，使用該相位差材的制造方法來提供相位差材。
[0028] 本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點可由以下的記載明確。
[0029] 用于解決課題的方法
[0030] 本發(fā)明的第1方式涉及一種取向材的制造方法，其特征在于，是具有第1取向區(qū)域 和第2取向區(qū)域的取向材的制造方法，所述第1取向區(qū)域與第2取向區(qū)域中限制液晶取向 的方向彼此不同，其具有下述工序：
[0031] 涂膜形成工序，將固化膜形成用組合物涂布在基板上而形成涂膜，所述固化膜形 成用組合物含有作為（A)成分的具有光二聚化部位和熱交聯(lián)部位的丙烯酸系共聚物、以及 作為（B)成分的交聯(lián)劑，
[0032] 加熱工序，將該涂膜進行加熱而在基板上形成固化膜，
[0033] 偏光曝光工序，對該固化膜的用于形成第1取向區(qū)域的第1區(qū)域和用于形成第2 取向區(qū)域的第2區(qū)域，以不同曝光量同時照射偏光方向相同的偏光。
[0034] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選固化膜形成用組合物的（A)成分的光二聚化部位為 肉桂?；?br>[0035] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選固化膜形成用組合物的（A)成分的熱交聯(lián)部位為羥 基。
[0036] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選固化膜形成用組合物的（B)成分的交聯(lián)劑為具有羥 甲基或烷氧基羥甲基的交聯(lián)劑。
[0037] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選固化膜為根據(jù)偏光曝光工序的曝光量不同而限制液 晶取向的方向不同的膜。
[0038] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選固化膜為以比成為基準(zhǔn)的光量多的偏光曝光量照射 時和以比成為基準(zhǔn)的光量少的偏光曝光量照射時，限制液晶取向的方向不同的膜。
[0039] 在本發(fā)明的第1方式中，優(yōu)選偏光曝光工序使用具有透射區(qū)域和透光率比該透射 區(qū)域低的半透射區(qū)域而形成的光掩模來進行，使得固化膜的第