本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法及裝置。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，液晶顯示器(liquidcrystaldisplay，lcd)等平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機(jī)身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，而被廣泛的應(yīng)用于手機(jī)、電視、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦、臺(tái)式計(jì)算機(jī)等各種消費(fèi)性電子產(chǎn)品，成為顯示裝置中的主流。

現(xiàn)有市場(chǎng)上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示器，其包括液晶顯示面板及背光模組(backlightmodule)。液晶顯示面板的工作原理是在兩片平行的玻璃基板當(dāng)中放置液晶分子，兩片玻璃基板中間有許多垂直和水平的細(xì)小電線，通過通電與否來控制液晶分子改變方向，將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。

通常液晶顯示面板由彩膜(cf，colorfilter)基板、薄膜晶體管(tft，thinfilmtransistor)陣列基板、夾于彩膜基板與陣列基板之間的液晶(lc，liquidcrystal)及密封膠框(sealant)組成，其成型工藝一般包括：前段陣列(array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(cell)制程(陣列基板與彩膜基板貼合)及后段模組組裝制程(驅(qū)動(dòng)ic與印刷電路板壓合)。其中，前段array制程主要是形成陣列基板，以便于控制液晶分子的運(yùn)動(dòng)；中段cell制程主要是在陣列基板與彩膜基板之間添加液晶；后段模組組裝制程主要是驅(qū)動(dòng)ic壓合與印刷電路板的整合，進(jìn)而驅(qū)動(dòng)液晶分子轉(zhuǎn)動(dòng)，顯示圖像。

陣列基板在制備過程中經(jīng)過多次高溫化學(xué)氣相沉積(chemicalvapordeposition，cvd)和物理氣相沉積(physicalvapordeposition，pvd)等制程，使用不同參數(shù)沉積多種無機(jī)、有機(jī)、以及金屬薄膜，使得陣列基板在制備完成后內(nèi)部膜層存在應(yīng)力差異。在完成成盒制程以后，當(dāng)受到外力作用時(shí)內(nèi)部膜層間的應(yīng)力發(fā)生變化，使得陣列基板上的器件性能會(huì)產(chǎn)生不同程度的漂移(如局部承壓等壓力不均的情況)，使得面板出現(xiàn)顯示不均等異常情況。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法，能夠有效釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

本發(fā)明的目的還在于提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置，能夠有效釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一柔性的載臺(tái)以及一與所述載臺(tái)相連的載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；

步驟2、提供一陣列基板，所述陣列基板的長邊的長度小于所述載臺(tái)的長度和寬度；

步驟3、通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述載臺(tái)彎曲使得所述載臺(tái)的上表面變形為第一弧面，將所述陣列基板放置到載臺(tái)的上表面上，并且使所述陣列基板的第一中心線與所述第一弧面的中心線重合，所述第一弧面為相對(duì)于水平面凹陷的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第一曲率半徑；

步驟4、將所述陣列基板在所述載臺(tái)上靜置預(yù)設(shè)的時(shí)長，并且通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)逐漸改變載臺(tái)彎曲的曲率，使得載臺(tái)的上表面由第一弧面變化為第二弧面，所述第二弧面為相對(duì)于水平面凸起的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第二曲率半徑；

步驟5、取下所述陣列基板，通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)使得所述載臺(tái)的上表面恢復(fù)為第一弧面，將所述陣列基板沿其中心點(diǎn)旋轉(zhuǎn)90度后重新放置到所述載臺(tái)的上表面上，并使所述陣列基板的第二中心線與所述第一弧面的中心線重合，所述第二中心線與所述第一中心線垂直；

步驟6、將所述陣列基板在所述載臺(tái)上繼續(xù)靜置預(yù)設(shè)的時(shí)長，并且通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)逐漸改變載臺(tái)的曲率，使得載臺(tái)的上表面由第一弧面變化為第二弧面，完成所述陣列基板的膜層應(yīng)力的釋放。

所述第一曲率半徑為4m至10m。

所述第二曲率半徑為4m至10m。

預(yù)設(shè)的時(shí)長為10至30分鐘。

在所述陣列基板的陣列制程完成之后，成盒制程開始之前進(jìn)行陣列基板的膜層應(yīng)力的釋放。

所述載臺(tái)的材料為橡膠或樹脂類材料。

所述步驟4和步驟6中所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)控制載臺(tái)的曲率每1分鐘改變一次。

所述步驟3和步驟5中所述陣列基板置于所述載臺(tái)上時(shí)，所述陣列基板的中心點(diǎn)與所述載臺(tái)的中心點(diǎn)重合。

本發(fā)明還提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置，包括：柔性的載臺(tái)以及一與所述載臺(tái)相連的載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；

所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)用于控制所述載臺(tái)的上表面在第一弧面與第二弧面之間變化；

所述第一弧面為相對(duì)于水平面凹陷的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第一曲率半徑，所述第二弧面為相對(duì)于水平面凸起的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第二曲率半徑。

所述第一曲率半徑和第二曲率半徑均為4m至10m；所述載臺(tái)的材料為橡膠或樹脂類材料。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法，該方法通過將陣列基板靜置于具有弧面的載臺(tái)上，再通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)逐漸改變載臺(tái)的弧面彎曲的曲率，讓陣列基板在重力的作用下依照載臺(tái)的弧面彎曲且彎曲程度隨著載臺(tái)的弧面的曲率的變化而變化，從而使得陣列基板上的各膜層受到均勻的張應(yīng)力或者壓應(yīng)力，最終在外力的作用下釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，避免后續(xù)制程以及使用過程中的外部壓力對(duì)陣列基板上的器件性能產(chǎn)生影響，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。本發(fā)明還提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置，能夠有效釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

附圖說明

為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對(duì)本發(fā)明加以限制。

附圖中，

圖1為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟1至步驟3的剖面示意圖；

圖2為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟4的剖面示意圖；

圖3為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟1至步驟4的俯視示意圖；

圖4為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟5的剖面示意圖；

圖5為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟6的剖面示意圖；

圖6為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的步驟5和步驟6的俯視示意圖；

圖7為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法的流程圖；

圖8為本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請(qǐng)參閱圖7，本發(fā)明提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法，包括如下步驟：

步驟1、請(qǐng)參閱圖1，提供一柔性的載臺(tái)1以及一與所述載臺(tái)1相連的載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3。

具體地，所述載臺(tái)1的材料為橡膠或樹脂類材料，所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3可通過為所述載臺(tái)1提供不同的拉力或推力使得載臺(tái)1的表面產(chǎn)生彎曲形變。

步驟2、請(qǐng)參閱圖1及圖3，提供一陣列基板2，所述陣列基板2的長邊的長度小于所述載臺(tái)1的長度和寬度。

具體地，本發(fā)明不限制陣列基板2的具體膜層結(jié)構(gòu)，一般情況下所述陣列基板2包括襯底基板、設(shè)于所述襯底基板上的tft層、設(shè)于所述tft層上的鈍化層、設(shè)于鈍化層上的平坦層、以及設(shè)于所述平坦層上的像素電極等膜層，當(dāng)然這里的陣列基板2也可以包括例如色阻層在內(nèi)的其他膜層，或者減少上述膜層中的一個(gè)或多個(gè)，這些都不會(huì)影響本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)。

步驟3、請(qǐng)參閱圖1及圖3，通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3帶動(dòng)所述載臺(tái)1彎曲使得所述載臺(tái)1的上表面變形為第一弧面，將所述陣列基板2放置到載臺(tái)1的上表面上，并且使所述陣列基板2的第一中心線與所述第一弧面的中心線重合，所述第一弧面為相對(duì)于水平面凹陷的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第一曲率半徑。

優(yōu)選地，所述步驟3中所述陣列基板2置于所述載臺(tái)1上時(shí)，所述陣列基板2的中心點(diǎn)與所述載臺(tái)1的中心點(diǎn)重合。

具體地，為保證應(yīng)力釋放的效果，優(yōu)選的第一弧面的第一曲率半徑范圍為：4m至10m。

步驟4、請(qǐng)參閱圖1、圖2及圖3，將所述陣列基板2在所述載臺(tái)1上靜置預(yù)設(shè)的時(shí)長，并且通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)逐漸改變載臺(tái)1彎曲的曲率，使得載臺(tái)1的上表面由第一弧面變化為第二弧面，所述第二弧面為相對(duì)于水平面凸起的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第二曲率半徑。

具體地，在保證應(yīng)力釋放的效果并且兼顧制程效率的情況下，優(yōu)選地所述預(yù)設(shè)的時(shí)長的范圍為：10分鐘至30分鐘。所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)控制載臺(tái)1的曲率每1分鐘改變一次。

具體地，為保證應(yīng)力釋放的效果，優(yōu)選的第二弧面的第二曲率半徑范圍為：4m至10m。

步驟5、請(qǐng)參閱圖4及圖6，取下所述陣列基板2，通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3使得所述載臺(tái)1的上表面恢復(fù)為第一弧面，將所述陣列基板2沿其中心點(diǎn)旋轉(zhuǎn)90度后重新放置到所述載臺(tái)1的上表面上，并使所述陣列基板2的第二中心線與所述第一弧面的中心線重合，所述第二中心線與所述第一中心線垂直。

具體地，所述第二中心線為與所述陣列基板2長邊垂直的中心線，所述第一中心線為與所述陣列基板2寬邊垂直的中心線，或者所述第一中心線為與所述陣列基板2長邊垂直的中心線，所述第二中心線為與所述陣列基板2寬邊垂直的中心線。

優(yōu)選地，所述步驟5中所述陣列基板2置于所述載臺(tái)1上時(shí)，所述陣列基板2的中心點(diǎn)與所述載臺(tái)1的中心點(diǎn)重合。

步驟6、請(qǐng)參閱圖5及圖6，將所述陣列基板2在所述載臺(tái)1上繼續(xù)靜置預(yù)設(shè)的時(shí)長，并且通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)逐漸改變載臺(tái)1的曲率，使得載臺(tái)1的上表面由第一弧面變化為第二弧面，完成所述陣列基板2的膜層應(yīng)力的釋放。

具體地，所述步驟6中預(yù)設(shè)的時(shí)長與所述步驟4中預(yù)設(shè)的時(shí)長相同，優(yōu)選時(shí)長范圍也為10分鐘至30分鐘，所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3在該預(yù)設(shè)的時(shí)長內(nèi)控制載臺(tái)1的曲率每1分鐘改變一次。

具體地，所述步驟4和步驟6中通過將陣列基板2靜置于具有弧面的載臺(tái)1上，再通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3逐漸改變載臺(tái)1的弧面彎曲的曲率，讓陣列基板2在重力的作用下依照載臺(tái)1的弧面彎曲且彎曲程度隨著載臺(tái)1的弧面的曲率的變化而變化，使得陣列基板2上的各膜層受到均勻的張應(yīng)力或者壓應(yīng)力，能夠有效釋放陣列基板2在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力。

具體地，在步驟6通過使得陣列基板2旋轉(zhuǎn)90度，從而使得陣列基板2上的各膜層在長邊和短邊方向上均受到均勻的張應(yīng)力或者壓應(yīng)力，保證陣列基板2中各膜層之間積累的應(yīng)力的釋放效果。

需要說明的是，本發(fā)明的釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法用于在所述陣列基板2的陣列制程完成之后，成盒制程開始之前對(duì)陣列基板2的膜層應(yīng)力的釋放。

進(jìn)一步地，通過釋放陣列基板2在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，能夠避免后續(xù)制程(如成盒制程)以及使用過程中的外部壓力對(duì)陣列基板2上的器件性能產(chǎn)生影響，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

請(qǐng)參閱圖8，本發(fā)明還提供用于實(shí)現(xiàn)上述方法的一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置，包括：柔性的載臺(tái)1以及一與所述載臺(tái)1相連的載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3；

所述載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3用于控制所述載臺(tái)1的上表面在第一弧面與第二弧面之間變化；

所述第一弧面為相對(duì)于水平面凹陷的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第一曲率半徑，所述第二弧面為相對(duì)于水平面凸起的弧面，曲率半徑為預(yù)設(shè)的第二曲率半徑。

具體地，所述第一曲率半徑和第二曲率半徑均為4m至10m；所述載臺(tái)1的材料為橡膠或樹脂類材料。

綜上所述，本發(fā)明提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法，該方法通過將陣列基板靜置于具有弧面的載臺(tái)上，再通過載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)逐漸改變載臺(tái)的弧面彎曲的曲率，讓陣列基板在重力的作用下依照載臺(tái)的弧面彎曲且彎曲程度隨著載臺(tái)的弧面的曲率的變化而變化，從而使得陣列基板上的各膜層受到均勻的張應(yīng)力或者壓應(yīng)力，最終在外力的作用下釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，避免后續(xù)制程以及使用過程中的外部壓力對(duì)陣列基板上的器件性能產(chǎn)生影響，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。本發(fā)明還提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的裝置，能夠有效釋放陣列基板在制備過程中各膜層之間積累的應(yīng)力，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

以上所述，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。