生片層疊裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種生片層疊裝置，詳細(xì)地說，涉及一種用于將多個(gè)生片層疊、壓接而形成層疊體的生片層疊裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]層疊陶瓷電子元器件的代表性制造方法中，有一個(gè)方法是層疊多個(gè)陶瓷生片形成層疊體，并經(jīng)過進(jìn)行燒成的工序來制造層疊陶瓷電子元器件。通常上述的層疊體是通過將形成有內(nèi)部電極圖案的多個(gè)種類的內(nèi)層用生片和沒有形成內(nèi)部電極的外層用生片按照適當(dāng)?shù)捻樞驅(qū)盈B、壓接形成。
[0003]而用于形成這樣的層疊體的生片層疊裝置例如有專利文獻(xiàn)I中公開的生片層疊裝置110。如圖7所示，該專利文獻(xiàn)I中公開的生片層疊裝置110在生片保持區(qū)域121通過壓接頭部123吸引保持帶載膜的生片I，在使壓接頭部123沿水平方向向?qū)盈B區(qū)域111移動(dòng)的途中剝離載膜，在層疊區(qū)域111通過沖壓機(jī)的沖頭115使保持著生片I的壓接頭部123下降，在層疊平臺(tái)112上將生片I相互壓接從而形成層疊體。(參照專利文獻(xiàn)I的實(shí)施方式I)
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)
[0004]專利文獻(xiàn)I
日本專利特開2003 —154512號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0005]但是，如專利文獻(xiàn)I中記載那樣的生片層疊裝置110在生片I上附著有異物、在層疊工序中混入異物的情況下，難以檢測出該異物。而且，在壓接含有異物的生片I形成層疊體的情況下，存在會(huì)向下一工序供給不合格品的層疊體。此外，如混入異物，根據(jù)情況不同會(huì)導(dǎo)致?lián)p壞壓接頭部123或?qū)盈B平臺(tái)112等設(shè)備的問題。
[0006]本發(fā)明的目的是為了解決上述問題，提供一種無需昂貴的設(shè)備或復(fù)雜的結(jié)構(gòu)就能夠高效地制造沒有異物混入的層疊體的生片層疊裝置。
解決技術(shù)問題的技術(shù)方案
[0007]為解決上述問題，本發(fā)明的生片層疊裝置包括:
層疊多個(gè)生片的層疊平臺(tái)；
供給頭部，該供給頭部保持要層疊的生片，從所述生片的層疊方向看時(shí)，在與所述層疊平臺(tái)上所述生片進(jìn)行層疊的區(qū)域即層疊區(qū)域相對的相對區(qū)域中，將所保持的所述生片供給到位于所述層疊平臺(tái)上的生片上，且所述供給頭部構(gòu)成為能夠在所述相對區(qū)域中朝所述層疊方向移動(dòng)；
壓接頭部，構(gòu)成為能夠位于所述相對區(qū)域，用于壓接所述層疊平臺(tái)上的多個(gè)所述生片；
以及沖頭，配置為經(jīng)由位于所述層疊平臺(tái)上的所述生片及位于所述相對區(qū)域的所述壓接頭部而與所述層疊平臺(tái)相對，
所述生片層疊裝置構(gòu)成為在使多個(gè)所述生片位于所述壓接頭部和所述層疊平臺(tái)間的狀態(tài)下，通過使所述層疊平臺(tái)及所述沖頭中的至少一方沿著所述層疊方向移動(dòng)，從而壓接多個(gè)所述生片形成壓接層疊體，
所述生片層疊裝置包括:
平臺(tái)位置檢測單元，用于檢測所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置；
頭部移動(dòng)檢測單元，用于檢測以下情況所造成的所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng):在使所述生片位于所述供給頭部和所述層疊平臺(tái)間、并且保持在所述層疊平臺(tái)上的生片和所述供給頭部間存在間隙的狀態(tài)下，使所述層疊平臺(tái)沿著所述層疊方向向所述供給頭部移動(dòng)時(shí)，位于所述層疊平臺(tái)和所述供給頭部間的所述生片按壓所述供給頭部而造成的所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng)；以及
控制單元，預(yù)先記錄有在層疊未含有異物的生片的情況下所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng)時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置，在所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述移動(dòng)實(shí)際開始時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置比預(yù)先記錄的所述位置更靠前的情況下，判斷為位于所述供給頭部和所述層疊平臺(tái)間的層疊體含有異物，并停止轉(zhuǎn)移至之后的通過使所述層疊平臺(tái)及所述沖頭中的至少一方動(dòng)作而進(jìn)行的壓接工序。
[0008]此外，本發(fā)明的生片層疊裝置包括:
層疊多個(gè)生片的層疊平臺(tái)；
供給頭部，該供給頭部保持要層疊的生片，從所述生片的層疊方向看時(shí)，在與所述層疊平臺(tái)上所述生片進(jìn)行層疊的區(qū)域即層疊區(qū)域相對的相對區(qū)域中，將所保持的所述生片供給到位于所述層疊平臺(tái)上的生片上，同時(shí)作為壓接頭部起到壓接所述層疊平臺(tái)上的多個(gè)所述生片的功能，且所述供給頭部能夠在所述相對區(qū)域中朝所述層疊方向移動(dòng)；以及
沖頭，配置為經(jīng)由位于所述層疊平臺(tái)上的所述生片及位于所述相對區(qū)域的所述供給頭部而與所述層疊平臺(tái)相對，
所述生片層疊裝置構(gòu)成為在使多個(gè)所述生片位于還作為壓接頭部起到作用的所述供給頭部和所述層疊平臺(tái)間的狀態(tài)下，通過使所述層疊平臺(tái)及所述沖頭中的至少一方沿著所述層疊方向移動(dòng)，從而壓接多個(gè)所述生片形成壓接層疊體，
所述生片層疊裝置包括:
平臺(tái)位置檢測單元，用于檢測所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置；
頭部移動(dòng)檢測單元，用于檢測以下情況下所造成的所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng):在使所述生片位于所述供給頭部和所述層疊平臺(tái)間、并且保持在所述層疊平臺(tái)上的生片和所述供給頭部間存在間隙的狀態(tài)下，使所述層疊平臺(tái)沿著所述層疊方向向所述供給頭部移動(dòng)時(shí)位于所述層疊平臺(tái)和所述供給頭部間的所述生片按壓所述供給頭部而造成的所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng)；以及
控制單元，預(yù)先記錄有在層疊未含有異物的生片的情況下所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述供給頭部開始向所述層疊方向移動(dòng)時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置，在所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述移動(dòng)實(shí)際開始時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置比預(yù)先記錄的所述位置更靠前的情況下，判斷為位于所述供給頭部和所述層疊平臺(tái)間的層疊體含有異物，并停止轉(zhuǎn)移至之后的通過使所述層疊平臺(tái)及所述沖頭中的至少一方動(dòng)作而進(jìn)tx的壓接工序。
[0009]此外，優(yōu)選的是所述壓接頭部構(gòu)成為能夠在所述相對區(qū)域中朝所述層疊方向移動(dòng)，
利用所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測以下情況所造成的所述壓接頭部向所述層疊方向開始移動(dòng):在使所述生片位于所述壓接頭部和所述層疊平臺(tái)間、并且保持在所述層疊平臺(tái)上的生片和所述壓接頭部間存在間隙的狀態(tài)下，使所述層疊平臺(tái)沿著所述層疊方向向所述壓接頭部移動(dòng)時(shí)位于所述層疊平臺(tái)和所述壓接頭部間的所述生片按壓所述壓接頭部而造成的所述壓接頭部向所述層疊方向開始移動(dòng)，
所述控制單元預(yù)先記錄有在層疊未含有異物的生片的情況下所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述壓接頭部開始向所述層疊方向移動(dòng)時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置，在所述頭部移動(dòng)檢測單元檢測出所述移動(dòng)實(shí)際開始時(shí)所述層疊平臺(tái)在所述層疊方向上的位置比預(yù)先記錄的所述位置更靠前的情況下，所述控制單元判斷為位于所述壓接頭部和所述層疊平臺(tái)間的層疊體含有異物，并停止轉(zhuǎn)移至之后的通過使所述層疊平臺(tái)及所述沖頭中的至少一方動(dòng)作而進(jìn)行的壓接工序。
[0010]通過采用上述結(jié)構(gòu)，能使本發(fā)明在使用壓接頭部壓接生片前也能夠檢測出層疊體中有異物混入，從而使本發(fā)明更有實(shí)效。
[0011]此外，本發(fā)明的生片層疊裝置的特征在于，層疊的多個(gè)所述生片是用于制造層疊陶瓷電子元器件的陶瓷生片。
[0012]通過將本發(fā)明的生片層疊裝置用于層疊陶瓷電子元器件制造所用的陶瓷生片的層疊，例如能夠可靠地形成不混入異物的母層疊塊、能夠得到可靠性高的層疊陶瓷電子元器件。
[0013]此外，本發(fā)明的生片層疊