一種導電布及其專用生產設備和生產方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及導電布領域，特別涉及一種導電布及其專用生產設備和生產方法。
【背景技術】
[0002]隨著電子技術的快速發(fā)展，人們生產和生活中使用的電子產品設備越來越多，而大多數的電子產品如微波爐、電冰箱、電熱毯、計算機、手機以及無線電、雷達發(fā)射裝置都會不同程度地產生電磁輻射。雖然電磁波傳播的滲透能力強，但是優(yōu)良的導電或導磁材料可以用來屏蔽電磁波輻射，其中具有電磁屏蔽功能的導電布就是一種新興的電磁屏蔽材料，目前國際上最普遍使用的EMI導電布是鍍銅鍍鎳的導電布，其屏蔽效果達到99.999%。工業(yè)的發(fā)展特別是石油、化工、電子工業(yè)的快速發(fā)展，使靜電的危害逐漸引起人們的重視，與靜電同時存在的還有隨著科技發(fā)展帶來的電磁波對人類健康的危險，因此導電布經過長期的調研和開發(fā)其技術趨于成熟，并且在人們的生活、生產、工作、科研、軍事和航空航天等領域也得到廣泛使用。隨著智能手機、平板電腦等消費類電子產品的產品升級和技術升級，導電布用于消耗類電子設備中防止元件之間的相互電磁干擾，防止外界的電磁干擾已經變得必不可缺。隨著人們對健康、對產品質量和功能的要求越來越高，導電布的使用場合變的越來越多，巨大的市場空間將使導電布產業(yè)得到飛速發(fā)展。
[0003]現有的導電布的制備工藝中，一般包括真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳幾個步驟，具體過程為利用真空電鍍使布表面沉積一層金屬，沉積后布面導電化，然后利用電鍍銅加厚，達到所需要的導電性能，最后完成電鍍一層鎳進行保護。也有采用化學鍍方法先在基材上鍍一層較薄的導電金屬再進行水電鍍加厚鍍銅、鍍鎳，從而達到產品技術要求。
[0004]現有技術中導電布制作時，普遍采用滌綸布作為導電布的基材，即在滌綸布表明進行真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳處理，從而得到導電布。滌綸布具有強度高、彈性好、耐熱性好、耐磨性好等優(yōu)點，但是滌綸布并不具有耐高溫性。采用滌綸布制作的導電布并不具有阻燃、防火以及隔熱的作用。
[0005]玻璃纖維(英文原名為:glass fiber或fiberglass)是一種性能優(yōu)異的無機非金屬材料，具有絕緣性好、耐熱性強、抗腐蝕性好、機械強度高等優(yōu)點，玻璃纖維通常用作復合材料中的增強材料、電絕緣材料和絕熱保溫材料，電路基板等國民經濟各個領域。玻璃纖維布是以玻璃球或廢舊玻璃為原料經高溫熔制、拉絲、絡紗、織布等工藝制造成的，其單絲的直徑為幾個微米到二十幾個微米，相當于一根頭發(fā)絲的1/20?1/5,每束纖維原絲都由數百根甚至上千根單絲組成。玻璃纖維布具有以下特點：1、用于低溫_196°C，高溫300°C之間，具有耐氣候性。2、非粘著性，不易粘附任何物質。2、耐化學腐蝕，能耐強酸、強堿、王水及各種有機溶劑的腐蝕。4、摩擦系數低，是無油自潤滑的最佳選擇。5、透光率達6?13%。6、具有高絕緣性能、防紫外線、防靜電。7、強度高，具有良好的機械特性。8、耐藥劑性。玻璃纖維布在工業(yè)上主要用于：隔熱、防火、阻燃。該材料在遭到火焰燃燒時吸收大量熱量并能阻止火焰穿過、隔絕空氣。因此若能夠將玻璃纖維布應用到導電布中，將使得導電布不僅僅有電磁干擾屏蔽功能，還具有不燃的特點，使得這種類型的導電布使用更加安全，但是由于玻璃纖維布具有非粘著性的特點，即在玻璃纖維布上沉積金屬導電層難度較大，這將阻礙以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發(fā)展。而且現有的這種電鍍方法中，會產生廢氣廢水等污染環(huán)境。

【發(fā)明內容】

[0006]本發(fā)明的目的在于克服現有技術的缺點與不足，提供一種導電布的專用生產設備，該生產設備具有結構簡單，能夠實現導電布基材連續(xù)鍍膜的優(yōu)點，通過該生產設備對導電布基材進行鍍膜時，能夠增加被鍍導電層的附著力，提高鍍膜效果，解決了現有技術中導電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導電層難度大的問題，能夠生產出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導電布，促進以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發(fā)展。
[0007]本發(fā)明的第二目的在于，提供一種導電布的生產方法。該生產方法可以使得導電布在生產過程中不產生廢氣、廢水和廢物，避免了生產導電布對環(huán)境污染的影響，解決了現有技術中由于導電布基材如玻璃纖維布具有非粘著性的特點而導致導電布基材上沉積金屬導電層難度較大的技術問題，能夠生產出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導電布，促進以玻璃纖維布作為導電布基材技術的發(fā)展。
[0008]本發(fā)明的第三目的在于，提供一種由上述生產方法得到的導電布。
[0009]本發(fā)明的第一目的通過下述技術方案實現:一種導電布的專用生產設備，包括鍍膜腔室、用于向鍍膜腔室內充入氣體的氣體壓強控制系統(tǒng)、用于控制鍍膜腔室內溫度的溫控系統(tǒng)、用于為鍍膜腔室提供陽極層型離子源的離子表面處理裝置以及控制鍍膜腔室內真空度的真空抽氣系統(tǒng);鍍膜腔室的其中兩端分別設置有放卷裝置和收卷裝置，其中放卷裝置和收卷裝置之間設置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩排鍍膜通道之間設置有冷卻輥，放卷裝置出來的導電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進行收卷，離子表面處理裝置設置在放卷裝置出來的鍍膜通道前端的兩偵U，向經過鍍膜通道的導電布基材提供陽極層型離子源。
[0010]優(yōu)選的，所述每排磁控濺射靶中包括3個以上磁控濺射靶。
[0011]優(yōu)選的，離子表面處理裝置包括外陰極、內陰極、磁鐵、陽極和氣體通道;其中外陰極為頂部開有口的方形結構，外陰極頂部開口處設置有內部陰極，在外陰極內底部與內陰極底部之間設置有磁鐵，陽極設置于外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中，氣體通道設置在外陰極底部，氣體通過外陰極底部進入到外陰極、內陰極和磁鐵圍成的空間中。
[0012]優(yōu)選的，所述放卷裝置包括放卷筒和第一引導輥，放卷裝置出來的導電布基材通過第一引導輥后傳入到鍍膜通道中，所述第一引導輥的個數為一個或多個。
[0013]優(yōu)選的，所述收卷裝置包括收卷筒和第二引導輥，導電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導輥收卷入收卷筒中，所述第二引導輥的個數為一個或多個。
[0014]優(yōu)選的，所述氣體壓強控制系統(tǒng)為氬氣、氮氣或氧氣氣體壓強控制系統(tǒng)，即氣體壓強控制系統(tǒng)充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮氣或氧氣。
[0015]優(yōu)選的，放卷裝置出來的鍍膜通道以及進入收卷裝置的鍍膜通道兩側的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶;其他鍍膜通道兩側的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。
[0016]本發(fā)明的第二目的通過下述技術方案實現:一種導電布的生產方法，步驟如下:
[0017]S1、將導電布基材投入到真空室中；
[0018]S2、控制真空室常壓加溫至80?120°C，保溫時間tl后將真空室抽真空至A，真空度到達A后破氣;然后執(zhí)行步驟S3;
[0019]S3、破氣完成后，將真空室加熱至130?170°C，保溫時間t2后抽真空至B，真空度到達B后破氣;然后執(zhí)行步驟S4 ；
[0020]S4、破氣完成后，將真空室加熱至180?220°C，保溫時間t3后抽真空至C，真空度到達C后破氣;然后執(zhí)行步驟S5 ；
[0021 ] S5、破氣完成后，將真空室加熱至230?270°C，保溫時間t4后抽真空至D，真空度到達D后破氣;然后執(zhí)行步驟S6 ；
[0022]S6、破氣完成后，將真空室抽真空E，同時加熱至280?320°C;保溫時間t5后，自然降溫到T;
[0023]S7、將步驟S6處理后的導電布基材從真空室取出后裝入鍍膜設備沉積導電層。
[0024]優(yōu)選的，時間tl為10?15分鐘，A為1?10Pa;時間t2為10?15分鐘，B為1?10Pa;時間t3為10?15分鐘，C為1?10Pa;時間t4為10?30分鐘，D為0.1?lPa;E為0.005?0.05Pa，t5為45-90分鐘；所述T為160?200°C。
[0025]本發(fā)明的第三目的通過下述技術方案實現:一種導電布，所述導電布基材為玻璃纖維布，所述玻璃纖維布采