本發(fā)明涉及被配置為用于校準(zhǔn)相位對(duì)比成像系統(tǒng)的體模主體，涉及用于校準(zhǔn)相位對(duì)比成像系統(tǒng)的體模主體系統(tǒng)和體模主體的使用。

背景技術(shù)：

電磁輻射(例如，X射線輻射)在經(jīng)過(guò)物質(zhì)時(shí)經(jīng)歷三種類(lèi)型的擾動(dòng)：吸收、折射(也就是，輻射波前的相位經(jīng)歷偏移)并且還有一種類(lèi)型的散射，也稱作“小角散射”。

傳統(tǒng)的放射成像只集中于吸收擾動(dòng)。近來(lái)，己經(jīng)設(shè)計(jì)出差分相位對(duì)比技術(shù)和相關(guān)的成像器，其允許對(duì)所有三個(gè)這種擾動(dòng)進(jìn)行成像并在單獨(dú)圖像中捕捉各自對(duì)比。相位對(duì)比圖像提供比傳統(tǒng)僅基于吸收成像更優(yōu)的軟組織區(qū)分。還已經(jīng)觀察到，盡管有優(yōu)良的成像前景，但是尤其在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域中，攝取沒(méi)有像人們期望的那樣熱烈。對(duì)此的一個(gè)原因可能是校準(zhǔn)過(guò)程證明差分相位對(duì)比成像系統(tǒng)因?yàn)樾枰缮嬖O(shè)備(尤其是多個(gè)光柵)所以是非常繁瑣的。一些校準(zhǔn)過(guò)程基于所謂的“體模”，如US 2011/0243305中所描述的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

因此可能存在對(duì)用于更有效地引導(dǎo)差分相位對(duì)比成像系統(tǒng)中的校準(zhǔn)過(guò)程的體模的需要。

本發(fā)明的目的由獨(dú)立權(quán)利要求的主題所解決，其中，在從屬權(quán)利要求中并入了進(jìn)一步的實(shí)施例。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種被配置為校準(zhǔn)相位對(duì)比成像系統(tǒng)的體模主體，所述系統(tǒng)能夠發(fā)出X射線束，所述體模主體包括至少三個(gè)相互不同的部分，所述至少三個(gè)相互不同的部分被配置為當(dāng)X射線束經(jīng)過(guò)所述體模主體時(shí)相對(duì)于所述X射線束一起引起多個(gè)擾動(dòng)，所述多個(gè)擾動(dòng)包括i)相移，ii)吸收和iii)去相干，其中，所述擾動(dòng)i)、ii)和iii)中的任一項(xiàng)確切地由所述至少三個(gè)相互不同的部分的一個(gè)部分引起的程度大于所述擾動(dòng)中的所述任一項(xiàng)由所述至少三個(gè)相互不同的部分中的各自兩個(gè)其他部分引起的其他程度。三個(gè)擾動(dòng)i)、ii)和iii)表明它們自己是三個(gè)不同的物理效應(yīng)，每個(gè)能夠通過(guò)能夠例如分析在探測(cè)器的像素處的變化強(qiáng)度信號(hào)而恢復(fù)的三個(gè)各自的成像量/參數(shù)來(lái)測(cè)量，所述變化可以通過(guò)使用干涉相位對(duì)比成像設(shè)備引起。本文提出了一種體模主體，其中，其不同的部分專用于(至少)三個(gè)物理效應(yīng)中的不同的物理效應(yīng)。換句話說(shuō)，這些部分中的每一個(gè)對(duì)三個(gè)效應(yīng)中的確切的一個(gè)相比于其他兩個(gè)部分針對(duì)相同效應(yīng)將以更高的程度或量進(jìn)行響應(yīng)。換句話說(shuō)，體模主體允許同時(shí)針對(duì)三個(gè)成像參數(shù)中的每個(gè)來(lái)校準(zhǔn)相位對(duì)比成像系統(tǒng)，所述三個(gè)成像參數(shù)可通過(guò)對(duì)探測(cè)器信號(hào)的信號(hào)處理來(lái)導(dǎo)出。例如可以通過(guò)根據(jù)由干涉設(shè)備對(duì)干涉圖樣進(jìn)行采樣而計(jì)算出的數(shù)值量的幅度來(lái)測(cè)量擾動(dòng)的程度或量。此外，所述至少三個(gè)相互不同的部分的至少一個(gè)部分包括至少三個(gè)不同的子部分，所述至少三個(gè)不同的子部分被配置為對(duì)由所述部分引起的擾動(dòng)的各自的程度分度為三個(gè)不同的子程度。換句話說(shuō)，由任意給定部分的三個(gè)不同子部分引起的擾動(dòng)的三個(gè)不同程度彼此可以不同，然而，其每一個(gè)仍高于由剩余兩個(gè)部分的任意部分或子部分引起的相同類(lèi)型的擾動(dòng)。例如，吸收部分的三個(gè)子部分可以分別引起高、中和低水平的吸收。然而，高、中和低吸收中的每個(gè)仍高于由剩余兩個(gè)部分或其子部分引起的任意吸收。針對(duì)每個(gè)擾動(dòng)具有(所述擾動(dòng)的)單獨(dú)和不同的水平或程度允許在處理在探測(cè)器像素處接收到的探測(cè)器信號(hào)時(shí)在輻射經(jīng)過(guò)體模主體之后更穩(wěn)定的曲線擬合。相同類(lèi)型的三個(gè)不同程度的擾動(dòng)中的每一個(gè)每像素提供三個(gè)或更多個(gè)擬合變量的本地“池”，所述擬合變量能夠更魯棒地?cái)M合到在各個(gè)探測(cè)器像素處觀察到的信號(hào)。在本文中使用的子部分和部分在以下意義上是不同的：由那些部分中的每個(gè)引起的各個(gè)擾動(dòng)水平?jīng)]有從一個(gè)部分平滑地過(guò)渡到另一個(gè)，而是在從一個(gè)部分過(guò)渡到另一個(gè)時(shí)存在不連續(xù)性。這提供了更準(zhǔn)確的校準(zhǔn)，因?yàn)榭梢栽跊](méi)有(或至少是極小的)相互交叉影響的情況下準(zhǔn)確地校準(zhǔn)三個(gè)擾動(dòng)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的至少一個(gè)部分由一個(gè)或多個(gè)立方體形成。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的至少一個(gè)部分由一個(gè)或多個(gè)旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的固體形成。

定義體模主體的各個(gè)部分和子部分的固體的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱布置在計(jì)算斷層掃描(CT)成像系統(tǒng)中是有用的，從而可以在X射線源圍繞檢查區(qū)域時(shí)沿著每個(gè)投影方向進(jìn)行校準(zhǔn)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，體模主體是對(duì)稱的。對(duì)稱地(例如，鏡面對(duì)稱方式)布置體模主體允許單獨(dú)校準(zhǔn)差分相位對(duì)比干涉儀中網(wǎng)格的不同網(wǎng)格部分的在軸的左或右側(cè)的各自的側(cè)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的至少一個(gè)部分的三個(gè)或更多個(gè)子部分被分組到一起。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的至少一個(gè)部分的三個(gè)或更多個(gè)子部分與來(lái)自所述至少三個(gè)相互不同的部分的兩個(gè)其他部分的至少另一個(gè)的一個(gè)或多個(gè)子部分交錯(cuò)。

三種部分的各個(gè)子部分可以單獨(dú)分組成三個(gè)單獨(dú)的組或者可以是交錯(cuò)的。這允許更好地將體模主體針對(duì)要校準(zhǔn)的成像系統(tǒng)的空間要求來(lái)調(diào)整。子部分可以永久性地固定到底板上，或者能夠不破壞地從其移除以允許從容地進(jìn)行重新分組。例如，體模主體可以看上去并且感覺(jué)上是校準(zhǔn)套件，其中部分或子部分可以卡入或者否則扣入適配到底板，以定義適應(yīng)當(dāng)前要求的體模的物理結(jié)構(gòu)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的引起最高程度的相位對(duì)比擾動(dòng)的部分由多個(gè)楔形形成，每個(gè)所述楔形具有不同的楔形斜率梯度，所述梯度被配置為引起不同的相位梯度，并且每個(gè)楔形形成所述部分的子部分中的一個(gè)。

所述多個(gè)楔形可以通過(guò)切割來(lái)整體地形成或者通過(guò)從單個(gè)塊研磨其而形成。替代地，楔形可以形成為單獨(dú)的部分并且既不是粘合到一起也不并排的(在垂直于入射X射線輻射的傳播方向的平面中)，或者可以根據(jù)要求沿著由所述傳播方向定義的軸堆疊在彼此的頂部。楔形可以定位為彼此接觸或離散地放置，以在特定或任意兩個(gè)相鄰楔形之間留有空隙。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述楔形中的至少一個(gè)被形成為具有相反斜率梯度的雙楔形。在一個(gè)實(shí)施例中，存在多個(gè)這樣的雙楔形，其彼此相鄰布置(連續(xù)或在任意兩個(gè)雙楔形之間中具有空隙)或放置在彼此之上。

在彼此之上堆疊楔形(無(wú)論它們是否是雙楔形)允許形成“相移提升器”，以按照需要增加相移，因?yàn)橥ㄟ^(guò)的波前將經(jīng)歷從堆疊的(雙)楔形的每個(gè)的相移貢獻(xiàn)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述部分中的至少一個(gè)由i)聚碳酸酯ii)聚甲基丙烯酸甲酯iii)鋁和iv)環(huán)氧樹(shù)脂中的任一種形成。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述至少三個(gè)相互不同的部分的引起最高程度的去相干擾動(dòng)的部分由具有多個(gè)空氣腔的結(jié)構(gòu)形成。

優(yōu)選地，針對(duì)吸收和/或相移部分使用聚碳酸酯(例如PMMA)或鋁。優(yōu)選地，為被標(biāo)記以引起高程度散射的部分使用具有空氣腔(例如，氣泡或其他多孔結(jié)構(gòu))的環(huán)氧樹(shù)脂。如果將空氣腔的平均直徑選擇為足夠大，則所述多孔材料還可以用于相移部分。

在一個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)不同的體模主體“基元”一起安裝在公共底板上，以形成“復(fù)雜”體模，其可以用于跨相對(duì)大的光柵系統(tǒng)進(jìn)行校準(zhǔn)，例如用于要求相對(duì)較大視場(chǎng)的成像系統(tǒng)的光柵堆疊。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，在每個(gè)部分和/或其子部分之間存在縫隙或安全裕量，從而增加校準(zhǔn)過(guò)程的準(zhǔn)確性。這允許例如確保底下的探測(cè)器像素接收僅經(jīng)過(guò)一個(gè)部分的信號(hào)。

根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，體模主體的部分定義或安裝在公共底板上。

根據(jù)一個(gè)方面，提供一種包括如前所述的多個(gè)體模主體的體模主體系統(tǒng)，所述體模主體被安裝到公共底板上。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，所述多個(gè)體模主體以對(duì)稱的方式被布置在所述底板上。

總之，本文提出了一種體模主體，更確切地，一種包括至少三個(gè)不同部分的單個(gè)體模主體，每個(gè)部分專用于輻射-物質(zhì)相互作用的三個(gè)擾動(dòng)或物理效應(yīng)中單個(gè)一個(gè)，換句話說(shuō)，并非具有每個(gè)專用于這些部分中的僅一個(gè)的三個(gè)不同的單獨(dú)體模，在本文采用組合方法，從而能夠同時(shí)為三個(gè)圖像通道的每個(gè)來(lái)校準(zhǔn)給定的差分相位對(duì)比成像器。不同的部分及其子部分組合到單個(gè)體模主體(例如，通過(guò)安裝在所述公共底板)，以方便容易地使用并增強(qiáng)實(shí)用性。所述體模主體、所述體模主體系統(tǒng)以及所述體模主體或報(bào)楸體模主體系統(tǒng)的使用尤其允許成功應(yīng)用于醫(yī)療成像中，包括但不限于乳房攝影和CT。

附圖說(shuō)明

現(xiàn)在將參考不一定按比例繪制的以下附圖來(lái)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，其中：

圖1示出了相位對(duì)比成像系統(tǒng)的部件；

圖2示出了校準(zhǔn)體模的平面圖；

圖3示出了圖1的校準(zhǔn)體模的側(cè)視圖；

圖4示出了圖1的校準(zhǔn)體模的第二側(cè)視圖；

圖5示出了圖1的體模的部分的側(cè)視圖；

圖6示出了如由相位對(duì)比成像系統(tǒng)所記錄的圖1的體模的圖像。

具體實(shí)施方式

圖1示出了具有相位對(duì)比成像能力(尤其是差分相位對(duì)比成像(DPCI))的成像系統(tǒng)IM的基本部件。具有用于生成X射線輻射波XB的X射線源XR，該所述X射線輻射波XB在穿過(guò)檢查區(qū)域之后由探測(cè)器D的探測(cè)器像素px探測(cè)到。通過(guò)在X射線源XR和輻射敏感探測(cè)器D之間布置干涉儀來(lái)實(shí)現(xiàn)相位對(duì)比成像能力。

干涉儀(在一個(gè)非限制性實(shí)施例中是Lau-Talbot類(lèi)型)包括兩個(gè)或更多個(gè)(優(yōu)選是三個(gè))光柵G₀、G₁和G₂。在X射線源側(cè)的第一衰減光柵G₀具有周期p0，以匹配并引起在X射線源XR處發(fā)出的X射線輻射波前的空間相干性。

吸收光柵G₁(具有周期p1)放置在離X射線源的距離D處，并引起在進(jìn)一步在下游的具有周期p2的干涉圖樣。所述干涉圖樣可以由探測(cè)器D檢測(cè)到?，F(xiàn)在，當(dāng)將樣本引入到X射線源和探測(cè)器之間的檢查區(qū)域時(shí)，干涉圖樣的相位將被移位。該干涉圖樣偏移(如在別處報(bào)告的，例如在F M Epple等人在OPTICS EXPRESS,2December 2013,Vol 21,No 24的Unwrapping differential X-ray phase contrast images through phase estimation from multiple energy data)與由于沿著通過(guò)樣本的各自路徑的累積折射(因此命名為DCPI)的相移ΦΔ的梯度成比例。換句話說(shuō)，如果人們?nèi)缓笠獪y(cè)量干涉的相變，則這可以允許提取由樣本中的折射引起的相移的偏移(或梯度)。

遺憾的是，干涉圖樣的相移通常太小而不能被直接空間分辨。大部分X射線探測(cè)器的分辨能力不允許這樣。因此，為了對(duì)該干涉圖樣相移進(jìn)行“采樣”，將具有與干涉圖像相同的周期p2的第二衰減光柵G₂放置在離光柵G₁的距離l處?？梢砸愿鶕?jù)不同實(shí)施例的多種方式實(shí)現(xiàn)干涉圖樣相移的實(shí)際提取(以及由此由樣本引起的相位梯度)，均在本文中被設(shè)想。

一般而言，針對(duì)差分相位提取所需要的是在探測(cè)器D和至少一個(gè)光柵之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中，這通過(guò)使用致動(dòng)器來(lái)橫向地(也就是沿著與光柵平行的x方向)跨不同的離散光柵位置移動(dòng)例如分析光柵G₂并隨后在每個(gè)光柵位置測(cè)量每個(gè)像素px的強(qiáng)度而實(shí)現(xiàn)。將發(fā)現(xiàn)在每個(gè)像素處的強(qiáng)度以正弦方式震蕩。換句話說(shuō)，在分析儀光柵G₂的運(yùn)動(dòng)期間，每個(gè)像素記錄(在各個(gè)像素處的)不同強(qiáng)度的時(shí)間序列作為時(shí)間函數(shù)(或更好地作為不同光柵位置的函數(shù))。該方法(“相位躍階”)已經(jīng)由F.Pfeiffer等人在Nature Phys.Lett.2,258–261(2006)的“Phase retrieval and differential phase-contrast imaging with low-brilliance X-ray sources”中描述。

例如在29104頁(yè)所描述的，在先前引用的Epple中的等式(1a)、(1b)，在每個(gè)像素px處的振蕩強(qiáng)度信號(hào)“編碼”干涉圖樣的期望相移以及由樣本引起的吸收以及由樣本引起的去相干(也己知為“小角散射”)。在這個(gè)意義上，差分相位對(duì)比成像是誤稱，因?yàn)樵摷夹g(shù)不僅產(chǎn)生差分相位對(duì)比而且產(chǎn)生吸收信號(hào)(傳統(tǒng)上在影像學(xué)中測(cè)量)和第三量、去相干信號(hào)，其涉及X射線經(jīng)受的散射度(也稱作小角散射)。換句話說(shuō)，像素信號(hào)提供三個(gè)不同的圖像信號(hào)通道，每個(gè)針對(duì)三個(gè)物理效應(yīng)i)吸收、ii)去相干和iii)折射中的單獨(dú)一個(gè)。換句話說(shuō)，樣本的存在將在進(jìn)入的X射線波前上引入三倍擾動(dòng)，并且差分相位對(duì)比成像允許通過(guò)三個(gè)量或參數(shù)A(吸收)、V(去相干)、來(lái)捕捉這些擾動(dòng)中的每個(gè)。三個(gè)量可以通過(guò)由數(shù)據(jù)采集電路(未示出)將每像素px的探測(cè)器信號(hào)處理為數(shù)字形式而獲得，所述數(shù)據(jù)采集電路尤其包括A/D轉(zhuǎn)換電路。然后通過(guò)傅里葉分析器FA或通過(guò)曲線擬合操作來(lái)處理所述數(shù)字而獲得每像素的參數(shù)A、V、然后，可以通過(guò)處理單元PR處理這些(成像)參數(shù)的集合。例如，一些或所有參數(shù)可以映射為顏色或灰度值調(diào)色板，然后被呈現(xiàn)以在屏幕MT上分別作為吸收?qǐng)D像、去相干圖像(“暗場(chǎng)圖像”)或相位對(duì)比圖像以供查看。三個(gè)物理效應(yīng)(吸收、去相干和差分相位對(duì)比)中的每一個(gè)的擾動(dòng)度或量分別由可從傅里葉分析或模塊FA執(zhí)行的其他曲線擬合操作導(dǎo)出的三個(gè)量進(jìn)行測(cè)量。

如前面簡(jiǎn)略提到地，干涉圖樣的采樣不必通過(guò)相對(duì)于彼此移動(dòng)光柵G₁、G₂來(lái)實(shí)現(xiàn)。在其他實(shí)施例中，例如，在乳房攝影成像系統(tǒng)中，兩個(gè)光柵G₁和G₂(一個(gè)在另一個(gè)之上)剛性安裝在探測(cè)器上。然后，探測(cè)器與這兩個(gè)光柵一起在經(jīng)過(guò)樣本的掃描運(yùn)動(dòng)中橫向移動(dòng)，并且該運(yùn)動(dòng)然后可以用于(取代上述相位步進(jìn))獲得三個(gè)成像量/參數(shù)A、V、

(如所提及的)在一個(gè)實(shí)施例中，如上所述的差分相位對(duì)比成像系統(tǒng)IM可以是槽或縫設(shè)計(jì)的乳房攝影系統(tǒng)，或者其可以是CT成像系統(tǒng)或可以是旋轉(zhuǎn)C型臂放射成像系統(tǒng)。

為了差分相位對(duì)比成像工作，上述(Talbot-)距離D和l必須被準(zhǔn)確觀察。例如可以如E Roessl等人在“Clinical boundary conditions for grating-based differential phase-contrast mammography”,Philosophical Transactions of The Royal Society(A)Mathematical,Physical and Engineering Sciences,6March 2014,Vol 372No 2010中描述地計(jì)算上述(Talbot-)距離D和l。另外，上述信號(hào)處理假設(shè)完美的對(duì)齊以及所包括的硬件(尤其是光柵和探測(cè)器)的完美的制造。然而，作為實(shí)際的現(xiàn)實(shí)問(wèn)題，總是存在不準(zhǔn)確性來(lái)破壞測(cè)量的準(zhǔn)確性，并因此破壞上述信號(hào)處理以及因此破壞涉及的計(jì)算。例如，像素可能被破壞或可能不以它們應(yīng)該的方式進(jìn)行響應(yīng)，或者光柵可能稍微翹曲或傾斜。為了解決在所使用的特定成像系統(tǒng)的程度中變化的這些缺點(diǎn)，需要校準(zhǔn)過(guò)程。對(duì)于校準(zhǔn)過(guò)程，在本文中提出了專門(mén)設(shè)計(jì)的校準(zhǔn)體模主體。體模主體PB放置在檢查區(qū)域中，然后當(dāng)其是實(shí)際的感興趣對(duì)象(例如，乳房或其他解剖部分或者人們想要成像的任何對(duì)象)時(shí)被成像。

將在下文詳細(xì)描述的體模主體PB被設(shè)計(jì)成在已知像素位置關(guān)于上面介紹的物理效應(yīng)i)-iii)引起已知程度的擾動(dòng)。因?yàn)槊總€(gè)擾動(dòng)的程度是已知的，因而在傅里葉分析儀FA處的響應(yīng)理論上是可以預(yù)測(cè)的。然而，一般而言，因?yàn)橛布毕?，將存在與該期望的理論值的偏差。該偏差可以表達(dá)為如根據(jù)實(shí)際測(cè)量到的探測(cè)器信號(hào)計(jì)算出的成像量與理論上預(yù)測(cè)的成像量之間的比率。該比率可以存儲(chǔ)為每像素校準(zhǔn)校正值A(chǔ)’、V’、

然后，在將來(lái)的成像會(huì)話中，當(dāng)感興趣樣本被引入到檢查區(qū)域中且如上所述地被成像時(shí)，存儲(chǔ)的校正值A(chǔ)’、V’、隨后可以應(yīng)用于依照所述對(duì)象在處理探測(cè)器信號(hào)時(shí)導(dǎo)出的成像量以校正成像系統(tǒng)的缺陷。換句話說(shuō)，校準(zhǔn)校正值用于圖像校正。將不時(shí)地需要重復(fù)校準(zhǔn)過(guò)程，然后因?yàn)橛布毕荻ǔ２皇庆o態(tài)的而是經(jīng)受由于熱變化等引起的改變。

現(xiàn)在參考圖2-4，示出了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的體模主體的不同視圖。一般而言，體模主體被設(shè)計(jì)為允許同時(shí)校準(zhǔn)三個(gè)成像量A、V、或通道中的每個(gè)。

圖2提供了沿著體模主體PB上的z軸的平面圖。z軸被看作是X射線波(或波前)XB的傳播方向。圖2中的z軸延伸到紙平面。在使用中，也就是當(dāng)放置在探測(cè)器和X射線源之間的檢查區(qū)域中時(shí)，體模主體由延伸到檢查區(qū)域中的檢查臺(tái)支撐(圖中未示出)。

如圖2的平面視圖所示，體模主體PB至少包括(在一些例子中準(zhǔn)確的是三個(gè))不同的部分P1-P3。本文中將這三個(gè)部分P1、P2、P3分別稱作相位對(duì)比部分P1、吸收部分P2和去相干部分P3。在圖2的實(shí)施例中，部分P1、P2、P3中的每個(gè)形成為各個(gè)塊或一組塊。塊P1、P2、P3通過(guò)適當(dāng)?shù)母浇訂卧惭b在底板GP上。體模主體PB的實(shí)施例關(guān)于x-y平面的對(duì)稱軸(虛線表示)具有鏡面對(duì)稱，形成體模主體PB的兩個(gè)“葉片”，在所述對(duì)稱軸的每側(cè)上一個(gè)。以下描述因此將集中于在體模主體的一個(gè)葉片上的塊P1-P3，并且理解以下描述同樣地適用于布置在另一葉片上的塊。雖然具有三個(gè)子部分/塊SP2的塊P2示出延伸跨過(guò)對(duì)稱軸，但是這不是必須的。例如，塊P2可以僅沿著軸伸延半途(或更少)，如塊P3、P1的塊SP3、SP1那樣。事實(shí)上，根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，其是對(duì)獨(dú)立地形成(較小)體模主體PB的兩個(gè)葉片中的僅一個(gè)的塊的限制。

塊P1、P2、P3中的每個(gè)被配置為使得三個(gè)擾動(dòng)(吸收、相移、去相干)中單個(gè)比其他兩個(gè)部分處于較高程度。例如，吸收塊P2由這種材料形成：由該塊P2引起的吸收擾動(dòng)高于由剩余的兩個(gè)塊類(lèi)型P1和P3引起的吸收。相反地，該塊P2關(guān)于其他兩個(gè)擾動(dòng)以比其他兩個(gè)塊P1、P3各自進(jìn)行的低的程度表現(xiàn)。相同地適用于關(guān)于其他兩個(gè)塊的任何其他物理效應(yīng)或擾動(dòng)上。例如，由專門(mén)相移塊P1引起的相移以比由任意其他塊類(lèi)型P2和P3引起的折射高的程度發(fā)生。對(duì)于去相干也是這樣的。換句話說(shuō)，塊P1、P2、P3中的每個(gè)專用于三個(gè)擾動(dòng)類(lèi)型中的特定單個(gè)，關(guān)于三個(gè)擾動(dòng)中的不同的單個(gè)擾動(dòng)，每個(gè)塊更顯著地表現(xiàn)。簡(jiǎn)言之，三個(gè)塊P1-P3關(guān)于它們引起的各個(gè)擾動(dòng)的程度或有多強(qiáng)而互補(bǔ)地表現(xiàn)。該補(bǔ)充性允許準(zhǔn)確且同時(shí)采集校準(zhǔn)參數(shù)A、V、

專用于物理效應(yīng)/擾動(dòng)的不同的單個(gè)的各個(gè)部分P1、P2、P3空間上跨x-y平面(也就是，垂直于沿著z軸的波傳播方向的平面)分布，并因此在體模主體放置在檢查區(qū)域時(shí)位于探測(cè)器像素px和/或光柵G₁、G₂的不同部分。因?yàn)轶w模主體的不同部分專用于三種類(lèi)型的物理擾動(dòng)的不同擾動(dòng)，所以體模主體的各個(gè)部分可以在空間上配準(zhǔn)并與探測(cè)器和光柵的各個(gè)基礎(chǔ)部分相關(guān)聯(lián)。因?yàn)槭褂锰綔y(cè)器和體模主體的維度，所以可以使用探測(cè)器的不同部分來(lái)采集不同校準(zhǔn)參數(shù)。例如，由探測(cè)器像素的準(zhǔn)確位于吸收塊P2之下(或者情況可以是在吸收塊P2之上)的那些部分拾取到的信號(hào)將排它地用于確定吸收校正或校準(zhǔn)參數(shù)。同樣地可以分別應(yīng)用于位于其他體模主體部分P1或P3的一個(gè)之下(或例如當(dāng)在CT中使用體模時(shí)，情況可以是在P1或P3中的一個(gè)之上)的剩余像素。因?yàn)榧俣ㄒ阎摽臻g體模主體-探測(cè)器配準(zhǔn)和各種探測(cè)器像素位置，所以可以針對(duì)每個(gè)像素(例如，通過(guò)布置在傅里葉分析儀FA上游的邏輯電路)確定其是否是為所述特定像素保留的A、V、值，這取決于所述像素恰巧與哪個(gè)體模主體P1-P3在空間上相關(guān)聯(lián)。各個(gè)像素坐標(biāo)被轉(zhuǎn)發(fā)給傅里葉分析儀，以通知這些從而針對(duì)所述像素提供作為僅輸出圖像校準(zhǔn)參數(shù)A、V、的各個(gè)參數(shù)。

如可以在圖2中看出的，各個(gè)專用塊P1、P2、P3不是整體的，而是通過(guò)多個(gè)子部分SP1、SP2和SP3分別整體形成。但是這不是說(shuō)本文沒(méi)有想到整體實(shí)施例。在非整體實(shí)施例中，吸收部分P2由三個(gè)單獨(dú)的子塊或子部分SP2形成。這對(duì)于由三個(gè)子部分SP1形成的微分相位塊P1也是適用的。例如在一個(gè)實(shí)施例中，差分相位對(duì)比塊由沿著x軸彼此鄰近的三個(gè)或更多個(gè)(例如，在圖2中示出準(zhǔn)確地是五個(gè))楔形元件或棱鏡形成。類(lèi)似地，由三個(gè)塊SP3形成去相干塊P3。

圖3中的側(cè)視圖提供了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例各個(gè)塊P1、P2、P3如何由其各自的子部分SP1、SP2、SP3構(gòu)建的更詳細(xì)的視圖。

例如，每個(gè)吸收塊P2由三個(gè)子塊SP1形成，每個(gè)子塊具有不同高度。

還根據(jù)圖3的側(cè)視圖，去相干塊P3由三個(gè)子部分SP3形成。在一個(gè)實(shí)施例中，一些或所有子部分SP3形成為堆疊在彼此之上的去相干條310的甲板。條的數(shù)量允許單獨(dú)調(diào)整去相干子塊SP3的高度，并因此允許調(diào)整造成輸入的X射線輻射波XB的去相干的程度或量。

最后，相位對(duì)比塊P1(如上簡(jiǎn)述)由沿著延伸到圖3給予的視圖的x軸放置的多個(gè)雙楔形元件SP1組成。雙楔形元件SP1中的每個(gè)相對(duì)于水平和垂直對(duì)稱軸對(duì)稱。然而，每個(gè)雙楔形元件具有不同的斜率，以引起不同程度的折射。更具體地，從包括具有相反梯度(tan(+α)和tan(+α))的2對(duì)斜率的意義上說(shuō)，每個(gè)楔形是“雙重的”。每個(gè)元件可以由立方體形成，所述立方體具有四個(gè)傾斜的邊以形成4個(gè)斜率的平行邊緣。對(duì)角相對(duì)的任何兩個(gè)斜率是相等的，而任意兩個(gè)相鄰斜率具有相反的梯度。相位對(duì)比塊P1可以具有整體結(jié)構(gòu)，由此其元件SP1由沿著塊P1的縱向軸傾斜的分段形成。替代地，每個(gè)子部分SP1由單獨(dú)的立方體形成，所述立方體要么并排放置以便如圖2-4所示彼此接觸，要么離散放置而在一些或任意兩個(gè)相鄰元件SP1之間存在縫隙。在一個(gè)實(shí)施例中，可以將額外的楔形SP1堆疊在塊P1之上(即，在z軸上)，或者兩個(gè)完整的塊P1可以堆疊在z方向上。以這種方式，可以構(gòu)造相移提升器，因?yàn)閭鞑ネㄟ^(guò)相位對(duì)比塊的堆疊的波前在經(jīng)過(guò)兩個(gè)或更多個(gè)(雙)楔形SP1時(shí)將經(jīng)歷折射的和。

具有由三個(gè)或更多子部分SP1-SP3組成的塊P1、P2、P3的優(yōu)點(diǎn)在于可以增加校準(zhǔn)的準(zhǔn)確性。在每個(gè)塊中具有針對(duì)三個(gè)不同的效應(yīng)i)-iii)中的每個(gè)的至少三個(gè)不同類(lèi)型的梯度允許將三個(gè)或更多變量擬合到由探測(cè)器像素記錄的各個(gè)測(cè)量值。更具體地，在一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)曲線擬合操作來(lái)計(jì)算校正參數(shù)A、V、當(dāng)人們記錄以不同程度三個(gè)或更多次發(fā)生的各個(gè)擾動(dòng)i)-iii)時(shí)所述曲線擬合操作變得更穩(wěn)定。例如，使吸收塊P2包括具有不同高度的三個(gè)子塊SP2將允許記錄三種不同程度的吸收，高吸收塊是最高的塊，具有低吸收的塊是最低的塊SP2，中間尺寸的塊的高度在最高和最低之間以記錄在兩個(gè)極值之間的吸收水平。雖然跨各個(gè)子部分的分度并不突出，但仍保證由一個(gè)塊的子部分引起的各個(gè)類(lèi)型的擾動(dòng)(雖然不同)仍比由兩個(gè)其他塊的任意子部分引起的同一類(lèi)型的擾動(dòng)i)、ii)或iii)處于較高程度。通過(guò)范例的方式，在相位對(duì)比塊P1中，雖然其部件(雙楔形SP1)引起不同的折射，但是這些折射中的每個(gè)仍然比剩余的其他塊P2和P3(也就是由其子部分SP2、SP3)引起的任何折射都大。類(lèi)似情形對(duì)于其他塊P2、P3關(guān)于由這些塊引起的主導(dǎo)擾動(dòng)是適用的。

然而，如圖2和3所示在每個(gè)塊中的分度的數(shù)量只是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，并且每個(gè)其他數(shù)量(優(yōu)選至少為三)在本文中也被預(yù)想。然而，優(yōu)選地，每個(gè)塊的分度的數(shù)量是三個(gè)或更多，例如，是五個(gè)、七個(gè)或甚至更大。

如圖2和圖3可見(jiàn)，各個(gè)塊或子塊具有孔，每個(gè)塊至少兩個(gè)孔，所述孔在波傳播方向Z延伸通過(guò)各個(gè)塊。所述孔是螺紋的以容納各自的螺栓或螺釘305，其用于將各個(gè)塊附接到底板GP上。在一個(gè)實(shí)施例中，螺栓305由與各個(gè)塊相同的材料形成，但是不必如此。

圖4提供了這次沿著體模主體PB的y方向并“通過(guò)”塊P1、P3之間的透明子塊SP1的側(cè)視圖。

雖然圖2-4示出了非整體形成的每個(gè)部分P1-P3，但這不是限制性的，因?yàn)椴糠諴1-P3中的一些或所有在替代實(shí)施例中可以被布置為具有本文定義的子部分的單個(gè)整體塊。例如，吸收塊可以被布置為具有臺(tái)階面的單個(gè)塊，每個(gè)臺(tái)階定義子部分SP1-3中的一個(gè)。

如圖2-4所示，各個(gè)塊或塊組P1-P3被示出為交錯(cuò)實(shí)施例。例如，差分相位對(duì)比塊P1被布置在兩個(gè)相鄰吸收塊SP2之間。然而，該交錯(cuò)只根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，并且預(yù)想其他實(shí)施例，其中，組不是交錯(cuò)的而是各個(gè)子塊P1、P2、P3嚴(yán)格分組到一起而形成非交錯(cuò)的去相干相位對(duì)比和吸收塊P1、P2、P3。如可以從圖2、3、4中得出的，在各個(gè)塊P1-P3之間和/或在各個(gè)子部分SP1-SP3之間存在間隙。另外，如圖2所示的特定交錯(cuò)(也就是，塊P1和P2的交錯(cuò))是示例性的，并且本文中也預(yù)想其他的交錯(cuò)組合。換句話說(shuō)，塊P1-P3(在y方向上)的特定序列是示例性實(shí)施例，并且也預(yù)想其他塊/子塊序列。根據(jù)圖2的特定順序排列提供了良好的校準(zhǔn)結(jié)果。

然而，預(yù)想替代實(shí)施例，其中，各個(gè)塊P1-P3或子塊SP1-SP3中的所有或一些彼此直接接觸放置在底板上或在單個(gè)塊中形成或以其他方式定義。

參考圖5A、B，相位對(duì)比塊P1包括幫助關(guān)于光軸OX來(lái)對(duì)齊體模PB的機(jī)構(gòu)。

圖5A)示出了很好對(duì)齊的系統(tǒng)的情形，而圖5B)示出了稍微未對(duì)齊的系統(tǒng)的例子，所述未對(duì)齊能夠由相對(duì)于光軸OX的角度位移δ來(lái)描述。已經(jīng)觀察到，當(dāng)在檢查時(shí)相對(duì)于X射線源XR和/或探測(cè)器D和/或光柵G₀-G₂對(duì)齊校準(zhǔn)體模PB時(shí)需要特別的小心。對(duì)于相位對(duì)比信號(hào)本身的情況，相對(duì)與X射線束垂直的方向過(guò)渡的材料的密度梯度是最影響DPCI中微分相位的因素。在圖5A)中，由楔形的角度α[或更好的tan(α)]表示密度梯度。對(duì)于非常陡的梯度(大α)，楔形的小角度未對(duì)齊δ將導(dǎo)致顯著的誤差。為了對(duì)其糾正，使用如上所述的具有相反梯度的一對(duì)楔形。如可以從圖5B)看出的，有效梯度的幅度之和幾乎對(duì)小的未對(duì)齊角度δ不敏感。換句話說(shuō)，雙楔形的特殊對(duì)稱提供了“蹺蹺板”效果(也就是，圍繞雙楔形中央點(diǎn)樞轉(zhuǎn))，因?yàn)樵谝粋?cè)上的梯度的增加由在另一側(cè)上的梯度的減少(相同的量但是在相反的方向)抵消。

如前所述，體模主體PB沿著圖2的虛線所示的對(duì)稱軸具有鏡面對(duì)稱。換句話說(shuō)，該雙葉片實(shí)施例具有一對(duì)相位對(duì)比塊P1和一對(duì)去相干塊P3(每個(gè)如前所述)，并且每個(gè)布置在對(duì)稱軸的周?chē)?，吸收塊P2的三個(gè)子部分SP2延伸跨越對(duì)稱軸。還設(shè)想其他布置，其中塊P1、P2中任一個(gè)(或兩者)延伸跨越軸，代替或額外于吸收塊P2。

上述對(duì)稱考慮并不暗示非對(duì)稱塊布置被排除在本文外。它們沒(méi)有被排除。在成像器的檢查區(qū)域中的特定空間限制下，需要非對(duì)稱布置。

圖2的左手或右手側(cè)形成基元體模主體，其可以一起安裝到單個(gè)底板以構(gòu)造更復(fù)雜的對(duì)稱或非對(duì)稱體模主體，其由兩個(gè)(如圖2所示)或更多個(gè)基元體模主體形成，例如對(duì)于對(duì)稱布置的情形，由4、6、8或任意其他數(shù)量的基元體模主體形成。利用包括多個(gè)基元體模主體(例如在圖2的左手側(cè)或右手側(cè))的這種復(fù)雜體模主體，優(yōu)點(diǎn)在于可以將校準(zhǔn)操作“局部化”到探測(cè)器平面和/或光柵的不同部分。事實(shí)上，在一些成像系統(tǒng)中，例如在乳腺攝像中，不能將干涉儀光柵制造成任何期望的視場(chǎng)尺寸。通常，所需要的視場(chǎng)遠(yuǎn)大于不同光柵G₁、G₂或G₀的尺寸。在這些上下文中，一個(gè)解決方案是使用個(gè)體光柵的拼接來(lái)構(gòu)建所需要的視場(chǎng)尺寸。對(duì)于具有光柵拼接的成像系統(tǒng)，所以復(fù)雜體模是有益的，因?yàn)闃?gòu)成復(fù)雜體模的每個(gè)基元體?？梢杂糜谛?zhǔn)光柵拼接中的光柵中的不同光柵。

雖然根據(jù)圖2-4在實(shí)施例中將不同的體模主體部分P1、P2、P3示出為塊或立方體，但在本文中還預(yù)想其他幾何形狀。也就是說(shuō)，不同部分P1、P2、P3不必要僅具有沿著一個(gè)軸的鏡面對(duì)稱，而是可以具有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，所述部分可以形成為圓柱體或類(lèi)似的。更特別地，體模主體由多個(gè)嵌套的中空?qǐng)A柱體形成，以形成不同層P1、P2、P3，其中每層專用于如上所述針對(duì)圖2-4中塊的三個(gè)物理擾動(dòng)中單獨(dú)的一個(gè)。對(duì)于不同于剛描述的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的實(shí)施例還預(yù)想分層結(jié)構(gòu)(即，部分P1-P3堆疊到彼此之上)。例如，在圖2-4中的塊可以按層堆疊到彼此之上而不是在底板GP的平面表面上展開(kāi)的并排布置中。當(dāng)需要小的體模的整體覆蓋區(qū)時(shí)，該堆疊或分層布置是有利的。在分層實(shí)施例中，不同的部分優(yōu)選配置為高度可區(qū)分的，因?yàn)獒槍?duì)任意給定部分P1-P3各個(gè)擾動(dòng)應(yīng)該比其他兩個(gè)擾動(dòng)更加主導(dǎo)(如以下將在圖6中更詳細(xì)解釋的超出能夠關(guān)于圖像對(duì)比表達(dá)的一個(gè)因子)，以確保校準(zhǔn)測(cè)量的準(zhǔn)確性。在這個(gè)意義上，期望關(guān)于圖2-4的“展開(kāi)”并排布局更易控制，因?yàn)殛P(guān)于三個(gè)擾動(dòng)i)-iii)在三個(gè)部分P1-P3上的區(qū)分要求比堆疊實(shí)施例更低。

如從以上可理解的，各個(gè)部分P1-P3和/或其各自的子部分SP1-SP3是永久固定(例如，粘合)到底板，或通過(guò)例如放松或移除圖3所示的螺釘或螺栓305或通過(guò)使用可釋放附接單元、卡入配合維可牢等而非破壞地移除。

預(yù)想另一實(shí)施例，其中體模主體實(shí)質(zhì)上形成包括底板的體模主體套件，所述底板包括跨底板的表面以適當(dāng)?shù)目臻g間隔(例如，以規(guī)律的網(wǎng)格布局)布置的適當(dāng)?shù)目ㄈ肱浜?。根?jù)空間和形狀要求，各個(gè)部分P1-P3的各自的子部分SP1-SP3中的每個(gè)被卡入配合到底板的位置中。這提供了在調(diào)整體模主體(例如，待校準(zhǔn)成像器的空間要求)上更高的靈活性。

底板GP一般與各個(gè)塊P1-P3的組合覆蓋區(qū)共同延伸，但是還預(yù)想其他實(shí)施例，其中底板如圖2所示延伸超過(guò)塊的覆蓋區(qū)，以確保良好的覆蓋。底板可以具有矩形形狀，尤其是正方形，但是還預(yù)想其他形狀，所述形狀主要取決于檢查臺(tái)或在校準(zhǔn)測(cè)量期間放置體模的支撐件的尺寸和形狀。

優(yōu)選地，由(優(yōu)選地同質(zhì)的)適當(dāng)?shù)木厶妓狨?例如PMMA)塊制造吸收塊P2，并且通過(guò)使得塊的子塊SP2布置在不同高度而實(shí)現(xiàn)不同的吸收分度。在一些實(shí)施例中替代地使用鋁。在一個(gè)實(shí)施例中，吸收塊的適當(dāng)高度是2、10、20和50mm，但是自然可以取決于吸收要求類(lèi)似地想到其他高度。這些具有很好定義的吸收的塊包括不同的高度，即10、20和50mm，并且用作可以校準(zhǔn)或評(píng)估衰減信號(hào)的區(qū)域。

優(yōu)選地，用微小玻璃氣泡環(huán)氧樹(shù)脂(如在申請(qǐng)人的EP 2283089中公開(kāi)的Araldite)制造去相干塊。在一個(gè)實(shí)施例中，去相干塊的高度是1、2和4mm，其分別由在彼此的頂部堆疊適當(dāng)數(shù)量的如結(jié)合圖3在前描述的去相干條310而實(shí)現(xiàn)。具有空氣腔的適當(dāng)平均尺寸的任意其他多孔或海綿狀或泡沫結(jié)構(gòu)可以是適當(dāng)?shù)男纬扇ハ喔蓧K的材料。具有大量或空氣腔的這種結(jié)構(gòu)將僅展示出微弱的吸收，但是由于小的玻璃氣泡引起相對(duì)強(qiáng)的散射，并因此用作可以校準(zhǔn)去相干信號(hào)的區(qū)域。如果空氣腔的平均結(jié)構(gòu)足夠大(也就是大于去相干塊)，則這種多孔材料還可以有利地用于相位對(duì)比塊。在這種情況下，不需要如圖2-4所示的不同楔形的序列，但是在這種情況下，子部分SP1被定義為具有不同平均尺寸的空間附件的段。

在一個(gè)實(shí)施例中，由同質(zhì)PMMA塊制造不同的相位塊P1，在所述同質(zhì)PMMA塊中通過(guò)切割、碾磨或其他適當(dāng)處理技術(shù)形成斜率。根據(jù)前述一個(gè)實(shí)施例，存在具有不同斜率或梯度的五對(duì)楔形。在不損失一般性且僅作為實(shí)施例的例子的情況下，在一個(gè)實(shí)施例中，斜角分別是1.5、3、4.5、6和7°。由于這些楔形展示了相對(duì)強(qiáng)的相位對(duì)比，并且塊具有相對(duì)弱的衰減并且?guī)缀鯖](méi)有去相干，所以楔形塊用作校準(zhǔn)微分相位信號(hào)的區(qū)域。在替代實(shí)施例中，類(lèi)似于去相干塊，吸收塊也可以包括堆疊在彼此的之上以實(shí)現(xiàn)各種高度的多個(gè)條或子塊。

如前所述，如圖1的平面圖所示，在各個(gè)塊和/或其子部分之間存在特定的安全縫隙或裕量。這些裕量確保更準(zhǔn)確的校準(zhǔn)結(jié)果，因?yàn)檩^容易地將探測(cè)器的各個(gè)像素與上方或下方塊相關(guān)聯(lián)。為了確保準(zhǔn)確的校準(zhǔn)結(jié)果，優(yōu)選在各個(gè)塊和子塊之間存在5-10mm的縫隙。

參考圖6，示出了已經(jīng)繪制為圖像的校準(zhǔn)參數(shù)的典型集合的重建結(jié)果。為了簡(jiǎn)潔，在圖6中，使用先前用于表示圖2-4中的塊的相同附圖標(biāo)記P1-P3來(lái)表示各個(gè)圖像。從左到右的三行對(duì)應(yīng)于吸收?qǐng)D像、差分相位對(duì)比圖像和去相干圖像。圖像的三行清楚地示出了三個(gè)塊類(lèi)型P1-P3的補(bǔ)充特性。在每行中，最高的對(duì)比是準(zhǔn)確地通過(guò)P1或P2或P3塊之一實(shí)現(xiàn)的。例如，中間行示出了針對(duì)相位對(duì)比塊P2的最高對(duì)比，而剩余的塊P1或P3示出了僅針對(duì)折射信號(hào)的可忽略對(duì)比?？梢院芎玫赜^察由楔形塊SP2的不同斜率引起的相位對(duì)比(還存在來(lái)自吸收塊的邊沿的貢獻(xiàn)，但是這可能接著通過(guò)使用適當(dāng)?shù)腦射線束XB形狀而被避免，例如平行波束而不是例如扇形波束)。另外，參見(jiàn)示出了去相干圖像的最右欄，去相干塊P1示出了良好的對(duì)比，而其他塊沒(méi)有。類(lèi)似地，針對(duì)左欄中的吸收?qǐng)D像：可以觀察到三個(gè)吸收塊示出了相對(duì)強(qiáng)且不同的吸收，而Araldite塊只展示出弱的吸收。對(duì)于圖6的圖像，已經(jīng)使用了“基元”或單個(gè)葉片體模主體，其對(duì)應(yīng)于圖2-4的雙體模實(shí)施例的右葉片或左葉片。在跨圖6中的3欄比較時(shí)，每個(gè)塊或子塊的不同圖像對(duì)比可以用于量化引起的不同擾動(dòng)的程度或顯著性(或者針對(duì)子部分的情況，分度量)。例如，吸收塊(在左欄中)的“覆蓋區(qū)”出現(xiàn)在比所述欄中其他兩個(gè)塊的覆蓋區(qū)更高的對(duì)比處。類(lèi)似的觀察適用于其他塊/子塊的各自覆蓋區(qū)。圖像對(duì)比可以用允許比較的任意適當(dāng)形式來(lái)表達(dá)，例如在圖6的給定欄中跨每個(gè)覆蓋區(qū)的各個(gè)塊覆蓋區(qū)中的圖像像素強(qiáng)度上取的RMS(均方根)度量。

必須指出，本發(fā)明的實(shí)施例是參考不同的主題來(lái)描述的。特別的，一些實(shí)施例是通過(guò)參考方法型權(quán)利要求描述的，而其他實(shí)施例是通過(guò)參考設(shè)備型權(quán)利要求描述的。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)以上描述得知，除非另行指出，除了屬于一種類(lèi)型的主題的特征的任意組合外，同樣在屬于不同主題的特征之間的任意組合被認(rèn)為是被該申請(qǐng)所公開(kāi)。然而，所有的特征可以被組合，以提供比特征的簡(jiǎn)單相加更多的協(xié)同效應(yīng)。

雖然在附圖和前述描述中已經(jīng)詳細(xì)圖示和描述了本發(fā)明，但是這種圖示和描述被認(rèn)為是說(shuō)明性或示例性的而非限制性的。本發(fā)明不限于所公開(kāi)的實(shí)施例。實(shí)踐所要求保護(hù)的方面的技術(shù)人員通過(guò)研究附圖、公開(kāi)內(nèi)容和從屬權(quán)利要求，可以理解和實(shí)現(xiàn)對(duì)所公開(kāi)實(shí)施例的其他變型。

在權(quán)利要求中，詞語(yǔ)“包括”并不排除其他元件或步驟，并且詞語(yǔ)“一”或“一個(gè)”并不排除多個(gè)。單個(gè)處理器或其他單元可以實(shí)現(xiàn)在權(quán)利要求中記敘的若干項(xiàng)目的功能。盡管在相互不同的從屬權(quán)利要求中記載了特定措施，但是這不指示不能有利地使用這些措施的組合。在權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記都不應(yīng)被解釋為對(duì)范圍的限制。