本實(shí)用新型涉及磁共振成像裝置，尤其涉及被檢測體橫臥于床上并送入攝像空間的頂板的支撐結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

磁共振成像裝置具有：在攝像空間生成均勻的磁場的超導(dǎo)磁鐵等靜磁場發(fā)生裝置；為了在攝像截面附加位置信息，在攝像空間生成脈沖狀的傾斜磁場的傾斜磁場發(fā)生裝置；產(chǎn)生高頻的電磁波的照射線圈，該電磁波用于使構(gòu)成被檢測體的原子核產(chǎn)生磁共振；以及檢測由磁共振產(chǎn)生的回波信號(磁共振信號)的接收線圈等，使用回波信號再構(gòu)成圖像而得到斷層圖像。

在這種磁共振成像裝置中，通過靜磁場與驅(qū)動傾斜磁場的電流的相互作用，傾斜磁場發(fā)生裝置進(jìn)行振動，包含支撐傾斜磁場發(fā)生裝置的靜磁場發(fā)生裝置等的磁鐵裝置進(jìn)行振動。另一方面，插入到攝像空間內(nèi)的被檢測體，橫臥于行走自如地設(shè)置于床上的頂板并送入攝像空間。該頂板載置成在配置于攝像空間內(nèi)的頂板承受部件的上方行走自如。頂板承受部件支撐于磁鐵裝置，或者經(jīng)由頂板支撐柱支撐于地板上進(jìn)行設(shè)置。這種頂板及頂板支撐柱等有時受到傾斜磁場發(fā)生裝置的振動而進(jìn)行振動。若頂板通過磁鐵裝置的振動或者傾斜磁場發(fā)生裝置的振動而進(jìn)行振動，則產(chǎn)生不良影響，例如對被檢測體帶來不適感，并且在攝像圖像上產(chǎn)生偽影等。

因此，以往為了抑制頂板的振動，如專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2所公開，以不與磁鐵裝置接觸的方式通過非接觸來設(shè)置頂板、頂板承受部件及頂板支撐柱，從而切斷振動的傳遞。另外，提出了通過由非導(dǎo)電性材料形成頂板、頂板承受部件及頂板支撐柱從而減少勞倫茲力的方案。例如，在專利文獻(xiàn)1中，通過從地板支撐包含靜磁場發(fā)生裝置及傾斜磁場裝置的磁鐵裝置，并且與磁鐵裝置獨(dú)立地從地板或頂棚支撐頂板承受部件及頂板支撐柱，從而切斷振動。另一方面，在專利文獻(xiàn)2中提出了如下方案，由非導(dǎo)體性材料構(gòu)成頂板、頂板承受部件及 頂板支撐柱，并且從地板面利用氣壓使頂板支撐柱浮起而進(jìn)行支撐。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平10-118043號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特開2010-284233號公報

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

實(shí)用新型要解決的問題

另外，振動頻率涉及廣泛的頻帶，但使被檢測體感到不快的振動大部分是可聽頻帶的低頻振動。另外，若將支撐頂板承受部件的頂板支撐柱固定于地板，則能夠使振動幾乎衰減。另一方面，為了準(zhǔn)確把握被檢測體相對于攝像空間的中心的位置，要求作為頂板的行走面的頂板承受部相對于磁共振成像裝置準(zhǔn)確設(shè)置于預(yù)定的位置。由此，需要將頂板支撐柱的位置高精度地固定于地板。

但是，為了將頂板支撐柱固定于地板，除了在地板面埋入地腳螺栓之外，還需要打入機(jī)械錨固等的工程。如此在地板面埋入地腳螺栓等的工程，存在難以確保地腳螺栓的位置精度的問題。即，根據(jù)靜磁場發(fā)生裝置等磁場裝置而決定的相對于攝像空間的頂板乃至頂板承受部的相對位置精度例如要求±0.5mm左右。另外，希望避免在設(shè)置磁共振成像裝置的攝像室內(nèi)的地板面進(jìn)行用于將頂板支撐柱固定于地板的特別的工程。

本實(shí)用新型想要解決的問題是：在攝像室內(nèi)的地板面不進(jìn)行特別的工程，就能夠從地板面支撐頂板承受部，且確保相對于攝像空間的頂板承受部的相對位置精度。

用于解決問題的方案

為了解決上述問題，本實(shí)用新型的磁共振成像裝置的特征在于，具有：在攝像空間產(chǎn)生靜磁場和傾斜磁場的磁鐵裝置；行走自如地設(shè)置于床上并且將橫臥的被檢測體送入上述攝像空間的頂板；配置于上述攝像空間內(nèi)并具有上述頂板的行走面的頂板承受部件；支撐該頂板承受部件的頂板支撐柱；以及支撐該頂板支撐柱的下端的頂板支撐臺座，上述頂板支撐臺座設(shè)置于經(jīng)由磁鐵支撐腳設(shè)置有上述磁鐵裝置的地板面上，并且設(shè)置成以能夠進(jìn)行至少沿地板面方向的移動的方式受上述磁鐵支撐腳限制。

實(shí)用新型的效果

根據(jù)本實(shí)用新型，不需要在攝像室內(nèi)的地板面進(jìn)行特別的工程，就能夠從地板面支撐頂板承受部，且能夠確保相對于攝像空間的頂板承受部的相對位置精度。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的磁共振成像裝置的實(shí)施例1的側(cè)面的剖視圖。

圖2是實(shí)施例1的磁共振成像裝置的主視圖。

圖3是實(shí)施例1的頂板支撐臺座的俯視圖。

圖4是實(shí)施例1的頂板支撐臺座的在圖3的線Ⅳ-Ⅳ上的剖視圖。

圖5是將實(shí)施例1的頂板支撐柱固定于頂板支撐臺座上的固定部的剖視圖。

圖6是本實(shí)用新型的磁共振成像裝置的實(shí)施例2的側(cè)面的剖視圖。

圖7是實(shí)施例2的磁共振成像裝置的主視圖。

圖8是實(shí)施例2的頂板支撐臺座的俯視圖。

圖9是實(shí)施例2的頂板支撐臺座的在圖8的線Ⅸ-Ⅸ上的剖視圖。

圖10(a)、圖10(b)是實(shí)施例2的副支撐腳的詳細(xì)圖。

圖11是實(shí)施例3的磁共振成像裝置的主視圖。

符號的說明

1-靜磁場發(fā)生裝置，2-傾斜磁場線圈，3-照射線圈，4-頂板，4a-車輪，5-床，6-地板面，7-頂板承受部件，8-頂板支撐柱，9-柱高調(diào)整部，10-凸緣，11-減振材料，12-頂板支撐臺座，14、15、30-凹處，18-彈性墊圈，22-頂板支撐臺座，19-金屬墊圈，24-副支撐腳，25-副腳固定部件，26-副腳桿，27-螺母，28-腳座，29-基板。

具體實(shí)施方式

下面，基于實(shí)施例對本實(shí)用新型的磁共振成像裝置進(jìn)行說明。

實(shí)施例1

如圖1及圖2所示，實(shí)施例1的磁共振成像裝置構(gòu)成為超導(dǎo)磁鐵方式的水平型的磁共振成像裝置。但是，本實(shí)用新型不限于此，還適用于超導(dǎo)磁鐵方式的垂直型或者常電導(dǎo)磁鐵方式的水平型或者垂直型的磁共振成像裝置。

圖1是將實(shí)施例1的磁共振成像裝置用與紙面平行的yz平面切斷的剖視 圖，圖2是從圖1的線Ⅱ-Ⅱ觀察的主視圖。將鉛垂方向作為y軸、將體軸方向作為z軸、將與y軸和z軸正交的方向作為x軸而表示坐標(biāo)系。原點(diǎn)一般取攝像空間的中心。

如這些圖所示，實(shí)施例1的磁共振成像裝置具有形成為水平的圓筒形狀的靜磁場發(fā)生裝置1，在靜磁場發(fā)生裝置1的圓筒內(nèi)形成攝像空間。

而且，為了對攝像空間附加位置信息，構(gòu)成以脈沖狀產(chǎn)生傾斜磁場的傾斜磁場裝置的圓筒形狀的傾斜磁場線圈2包圍攝像空間而配置，上述傾斜磁場具有使空間性的磁場強(qiáng)度傾斜的斜度。此外，雖然未圖示，但是傾斜磁場線圈2與圓筒形狀的靜磁場發(fā)生裝置1同軸地，且牢固地支撐并設(shè)置于靜磁場發(fā)生裝置1。由這些靜磁場發(fā)生裝置1和傾斜磁場線圈2形成磁鐵裝置。

并且，為了使構(gòu)成被檢測體的生物體組織的原子核產(chǎn)生核磁共振，對被檢測體照射高頻信號的圓筒形狀的照射線圈3支撐于靜磁場發(fā)生裝置1上并以同軸配置。照射線圈3利用未圖示的發(fā)送系統(tǒng)來驅(qū)動。并且，雖然省略了圖示，但是具備接收系統(tǒng)，該接收系統(tǒng)具備檢測來自被檢測體的回波信號的接收線圈等。如此，在照射線圈3的圓筒形狀的內(nèi)部空間形成有攝像空間。

另一方面，床5位于與磁鐵裝置的攝像空間相對應(yīng)的外部而進(jìn)行設(shè)置，在床5上行走自如地載置頂板4，頂板4使被檢測體橫臥并將其送入攝像空間內(nèi)。床5經(jīng)由減振材料5a設(shè)置于地板面6。在床5的延長線上的攝像空間內(nèi)配置有具有頂板4的行走面的頂板承受部件7。在頂板4的下表面設(shè)置有多個車輪4a，頂板4能夠經(jīng)由車輪4a在頂板承受部件7的行走面上沿體軸方向(z方向)順滑地移動。此外，頂板4的送入位置能夠通過手動或者自動來調(diào)整。頂板承受部件7使長度方向的兩端從靜磁場發(fā)生裝置1的軸向的兩端突出而設(shè)置。而且，頂板承受部件7的兩端分別經(jīng)由兩根頂板支撐柱8，即在實(shí)施例1中經(jīng)由四根頂板支撐柱8，保持于規(guī)定的位置。

在此，對作為實(shí)施例1的特征部的支撐頂板承受部件7的頂板支撐柱8及相關(guān)部件的詳細(xì)內(nèi)容進(jìn)行說明。頂板支撐柱8經(jīng)由調(diào)整鉛垂方向(y方向)的柱高的柱高調(diào)整部9在下端形成矩形的凸緣10，凸緣10隔著減振材料11載置于頂板支撐臺座12的上表面。頂板支撐臺座12與頂板承受部件7的兩端的位置相對應(yīng)而設(shè)置兩個。頂板支撐柱8分割成上部支撐柱8a和下部支撐柱 8b。上部支撐柱8a和下部支撐柱8b在對置的端部形成切割成互相相反的螺紋的螺紋孔，在這些螺紋孔中螺紋配合螺桿9a，通過旋轉(zhuǎn)螺桿9a，形成調(diào)整頂板支撐柱8的柱高的柱高調(diào)整部9。通過調(diào)整頂板支撐柱8的柱高，不僅能夠調(diào)整頂板承受部件7的高度，而且能夠調(diào)整頂板4的高度。

各個頂板支撐臺座12形成為平板形狀的同一形狀，并且與頂板承受部件7的兩端的位置相對應(yīng)地分別載置于地板面6。另外，在頂板支撐臺座12的上表面載置磁鐵支撐腳13的下端，磁鐵支撐腳13支撐包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置。在實(shí)施例1中，磁鐵支撐腳13在圓筒形狀的靜磁場發(fā)生裝置1的兩端的下部分別各設(shè)置兩個，這些磁鐵支撐腳13的包含下端在內(nèi)的截面形成為矩形，用四根磁鐵支撐腳13在攝像室內(nèi)的地板面6支撐包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的總重量(例如幾噸)。但是，當(dāng)然磁鐵支撐腳13的根數(shù)及截面形狀能夠任意設(shè)定。

參照圖3及圖4，說明頂板支撐臺座12的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。圖3是從上面觀察一方的頂板支撐臺座12的俯視圖。如圖所示，頂板支撐臺座12形成為圖1的x軸方向較長的長方形，并且設(shè)有容納頂板支撐柱8的下端的凸緣10的凹處14和容納磁鐵支撐腳13的下端部的凹處15。兩個頂板支撐臺座12以使凹處14和凹處15隔著磁鐵裝置對稱的方式配置。在凹處14的底部穿設(shè)有多個(在圖示例中為兩個)螺紋孔16。圖4表示沿著圖3的線Ⅳ-Ⅳ切斷的剖視圖。凹處14形成為供頂板支撐柱8的矩形的凸緣10能夠嵌入的矩形，凹處15形成為供磁鐵支撐腳13的下端能夠嵌入的矩形。各凹處14和凹處15的深度能夠適當(dāng)設(shè)定。

如圖5所示，頂板支撐柱8的凸緣10經(jīng)由減振材料11嵌入到頂板支撐臺座12的凹處14的底部，插通于穿設(shè)在凸緣10上的貫通孔10a中而將螺栓17螺紋配合于螺紋孔16。此時，使具有彈性的彈性墊圈18和金屬墊圈19介于螺栓17的頭部與凸緣10之間，利用螺栓17將頂板支撐柱8牢牢地固定于頂板支撐臺座12。如此，通過使橡膠制等的彈性墊圈18介于其間，能夠使經(jīng)由凸緣10從頂板支撐臺座12傳遞到頂板支撐柱8上的振動切斷或者衰減。此外，螺栓17及金屬墊圈19考慮到在磁場中的使用，最好是不銹鋼或黃銅等非磁性金屬。另一方面，磁鐵支撐腳13的下端分別只嵌入到凹處15中進(jìn)行設(shè)置。由 此，在實(shí)施例1中包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的全重量負(fù)載于頂板支撐臺座12。

如上所述，根據(jù)實(shí)施例1，由于將支撐頂板承受部件7的頂板支撐臺座12載置于攝像室的地板面6，在該頂板支撐臺座12的上表面載置包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的磁鐵支撐腳13，因此頂板支撐臺座12被磁鐵裝置的重量推壓到地板面6。由此，頂板支撐臺座12牢固地固定于地板面6。另外，由于將頂板支撐柱8的下端的凸緣10嵌入到形成于頂板支撐臺座12的上表面的凹處14，并載置于頂板支撐臺座12，因此能夠較高地保持被頂板支撐承受部件7支撐的頂板4與攝像空間的相對位置精度。即，由于包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置為高重量(例如、幾噸)，因此負(fù)載于實(shí)施例1的頂板支撐臺座12的載荷也極大。由此，在磁共振成像裝置的驅(qū)動過程中頂板支撐臺座12不會向鉛垂方向(y方向)運(yùn)動。

尤其，在實(shí)施例1中，由于將磁鐵支撐腳13的下端部嵌入到頂板支撐臺座12的凹處15，因此能夠防止頂板支撐臺座12向水平方向(x方向及z方向)運(yùn)動。從而，能夠防止包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置與頂板支撐臺座12的相對位置、以及磁鐵裝置的攝像空間與頂板4的相對位置的變動。其結(jié)果，不進(jìn)行在攝像室內(nèi)的地板面埋入地腳螺栓等的特別的工程，就能夠使頂板4及頂板承受部件7支撐于地板面6，且能夠容易確保相對于攝像空間的頂板承受部件7的相對位置精度。

另外，根據(jù)實(shí)施例1，在磁鐵支撐腳13的下端部的截面為矩形的情況下，與之相應(yīng)地將頂板支撐臺座12的凹處15的截面設(shè)為矩形，將磁鐵支撐腳13的下端部嵌入到凹處15。由此，能夠防止頂板支撐臺座12在磁鐵支撐腳13的周圍進(jìn)行水平旋轉(zhuǎn)。其結(jié)果，能夠進(jìn)一步容易確保相對于攝像空間的頂板承受部件7的相對位置精度。此外，由于經(jīng)由磁鐵支撐腳13負(fù)載于頂板支撐臺座12上的包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的載荷較大，因此不需要設(shè)置用于將磁鐵支撐腳13固定于頂板支撐臺座12上的螺栓及螺紋孔等。

另外，根據(jù)實(shí)施例1，由于頂板支撐柱8及床5從地板面6及頂板支撐臺座12利用減振材料5a及減振材料11進(jìn)行振動絕緣，因此能夠抑制或者衰減來自作為振動發(fā)生源的靜磁場發(fā)生裝置1及傾斜磁場線圈2的振動向頂板承受 部件7及頂板4傳遞。由此，頂板4的振動減少，能夠減少被檢測體的不適感，還能夠減少混入圖像的振動引起的偽影。

此外，為了可靠地進(jìn)行振動絕緣，優(yōu)選設(shè)置減振材料5a及減振材料11，但是在利用其他辦法預(yù)先知道振動非常小的情況下，也可以省略這些減振材料。相反，在存在包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的振動傳遞到地板面6及頂板支撐臺座12上的危險的情況下，還能夠在磁鐵支撐腳13與頂板支撐臺座12之間設(shè)置減振材料。

實(shí)施例2

參照圖6～圖10，對實(shí)施例2的磁共振成像裝置進(jìn)行說明。實(shí)施例2與實(shí)施例1的不同點(diǎn)在于：磁鐵裝置的磁鐵支撐腳的形狀、頂板支撐臺座的結(jié)構(gòu)及形狀、頂板支撐臺座的載荷負(fù)載方法等。下面，以與實(shí)施例1的不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明，相同的結(jié)構(gòu)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。

如圖6及圖7所示，支撐靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵支撐腳23分別一體地設(shè)置于靜磁場發(fā)生裝置1的兩端的下部，并直接載置于地板面6。在實(shí)施例2中特征在于：在靜磁場發(fā)生裝置1的圓筒端面分別固定設(shè)置有一對副支撐腳24。副支撐腳24具有:固定設(shè)置于靜磁場發(fā)生裝置1的圓筒端面的副腳固定部件25；插入到穿設(shè)于副腳固定部件25的鉛垂方向(y方向)的貫通孔中的副腳桿26；與形成于副腳桿26的外周的外螺紋螺紋配合的螺母27；以及設(shè)置于副腳桿26的下端的倒傘形狀的腳座28。

從而，副支撐腳24通過轉(zhuǎn)動螺母27而沿著副腳桿26在上下方向上移動，并且在與副腳固定部件25抵接的狀態(tài)下，進(jìn)一步沿著副腳桿26升降，從而能夠調(diào)整副支撐腳24的腳高。另外，如圖10(b)所示，在腳座28的下表面設(shè)置有橢圓形的基板29。

如此形成的副支撐腳24經(jīng)由腳座28的基板29載置于頂板支撐臺座22。如圖8的俯視圖所示，頂板支撐臺座22設(shè)有供基板29嵌入的凹處30。圖9表示在圖8的線Ⅸ-Ⅸ切斷的頂板支撐臺座22的截面。實(shí)施例2的頂板支撐臺座22與實(shí)施例1的頂板支撐臺座12不同點(diǎn)在于：供腳座28的基板29嵌入的凹處30的開口截面按照基板29的外形形成為橢圓形。由此，即使轉(zhuǎn)動螺母27而調(diào)整副支撐腳24的高度，也能夠防止基板29相對于頂板支撐臺座22旋 轉(zhuǎn)。此外，頂板支撐柱8及凸緣10與實(shí)施例1同樣地形成，經(jīng)由凸緣10載置于頂板支撐臺座22。

由于如此構(gòu)成，因此根據(jù)實(shí)施例2，尤其在包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置設(shè)置于地板面6的狀態(tài)下，不移動靜磁場發(fā)生裝置1就能夠設(shè)置頂板支撐臺座22，這一點(diǎn)與實(shí)施例1相比非常有意義。

另外，根據(jù)實(shí)施例2，在副支撐腳24的螺母27松開的狀態(tài)下，處于從副腳固定部件25的下表面分離的狀態(tài)時，包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置的重量全部負(fù)載于地板面6。若從轉(zhuǎn)動螺母27而與副腳固定部件25的下表面抵接的位置，進(jìn)一步向上升的方向轉(zhuǎn)動螺母27，則磁鐵裝置的重量負(fù)載于地板面6與頂板支撐臺座22這雙方。若進(jìn)一步向上升的方向轉(zhuǎn)動螺母27，則負(fù)載于頂板支撐臺座22上的載荷逐漸變大，將頂板支撐臺座22固定于地板面6的力量增大。

實(shí)施例2的負(fù)載于頂板支撐臺座22上的磁鐵裝置的重量比實(shí)施例1更小，但是包含靜磁場發(fā)生裝置1的磁鐵裝置為重物，通過相對于副腳固定部件25充分?jǐn)Q緊螺母27，在磁共振成像裝置的驅(qū)動過程中頂板支撐臺座22不會向鉛垂方向(y方向)運(yùn)動。

另外，由于按照副支撐腳24的腳部28的基板29的橢圓形，將形成于頂板支撐臺座22上的凹處30的開口截面的形狀設(shè)為橢圓形，因此能夠防止向水平方向(x方向及z方向)運(yùn)動，并且能夠防止頂板支撐臺座22沿水平方向旋轉(zhuǎn)。另外，在轉(zhuǎn)動副支撐腳24的螺母27而調(diào)整高度時，能夠防止副腳桿26一起轉(zhuǎn)動，能夠穩(wěn)定地進(jìn)行副支撐腳24的腳高調(diào)整。

此外，不必將副支撐腳24的腳座28螺紋緊固于頂板支撐臺座22，這一點(diǎn)與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例3

參照圖11，對實(shí)施例3的磁共振成像裝置進(jìn)行說明。實(shí)施例3與實(shí)施例2的不同點(diǎn)在于：磁鐵裝置的磁鐵支撐腳的形狀、頂板支撐臺座的結(jié)構(gòu)及形狀、頂板支撐臺座的載荷負(fù)載方法等。下面，以與實(shí)施例2的不同點(diǎn)為中心進(jìn)行說明，相同的結(jié)構(gòu)部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。

實(shí)施例3的磁鐵支撐腳13與實(shí)施例1同樣地，在靜磁場發(fā)生裝置1的圓 筒形狀的兩端分別設(shè)置兩根，并載置于地板面6。實(shí)施例3在靜磁場發(fā)生裝置1的兩端的圓筒形狀端面的中央部分別設(shè)置一根副支撐腳24。其他與實(shí)施例2相同。

即，副支撐腳24具有：固定設(shè)置于靜磁場發(fā)生裝置1的圓筒端面的中央部的副腳固定部件25；插入到沿副腳固定部件25的鉛垂方向(y方向)穿設(shè)的貫通孔中的副腳桿26；與形成于副腳桿26的外周的外螺紋螺紋配合的螺母27；以及設(shè)置于副腳桿26的下端的倒傘形狀的腳座28。

從而，副支撐腳24通過轉(zhuǎn)動螺母27而相對于副腳桿26沿上下方向移動，并在與副腳固定部件25抵接的位置，進(jìn)一步相對于副腳桿26升降，從而能夠調(diào)整副支撐腳24的腳高。另外，如圖10(b)所示，在腳座28的下表面設(shè)置有橢圓形的基板29。

實(shí)施例3的頂板支撐臺座33與實(shí)施例2的頂板支撐臺座22相同。只是，由于副支撐腳24是一根，因此將供副支撐腳24的腳座28的基板29嵌入的凹處30在中央部設(shè)置一處即可。

根據(jù)實(shí)施例3，能夠得到與實(shí)施例1、2相同的效果。

以上基于實(shí)施例1～3對本實(shí)用新型進(jìn)行了說明，本實(shí)用新型不限于這些實(shí)施例，即使附加各種變形，也能夠解決本實(shí)用新型的問題。即，磁共振成像裝置具有：在攝像空間產(chǎn)生靜磁場和傾斜磁場的磁鐵裝置；行走自如地設(shè)置于床上并且將橫臥的被檢測體送入攝像空間的頂板；配置于上述攝像空間內(nèi)并具有頂板的行走面的頂板承受部件；支撐該頂板承受部件的頂板支撐柱；以及支撐該頂板支撐柱的下端的頂板支撐臺座。特別地，頂板支撐臺座設(shè)置于經(jīng)由磁鐵支撐腳設(shè)置有磁鐵裝置的地板面上，并且能夠設(shè)置成使至少沿地板面方向的移動受磁鐵支撐腳限制。

如此，若使頂板支撐臺座在至少沿地板面方向的移動受磁鐵支撐腳限制，則頂板支撐臺座不會沿著地板面移動。具體而言，例如通過將能夠卡定或者卡合于磁鐵支撐腳的周圍的突出部設(shè)置于頂板支撐臺座而能夠?qū)?yīng)。另外，從磁鐵支撐腳向頂板支撐臺座設(shè)置突出部，在該突出部螺紋緊固頂板支撐臺座，從而能夠?qū)㈨敯逯闻_座限制于磁鐵支撐腳。根據(jù)這種變形例，也能夠防止被頂板支撐臺座支撐的頂板與攝像空間的相對位置沿水平方向偏移。

另外，由于包含頂板的頂板承受部件及頂板支撐柱具有一定的重量，而且在頂板上橫臥有被檢測體，因此頂板難以在鉛垂方向上產(chǎn)生錯位，因此能夠充分確保頂板與攝像空間的相對位置精度。并且，通過以使突出部限制上下方向的運(yùn)動的方式使頂板支撐臺座與磁鐵支撐腳配合，形成某一方的突出部，從而能夠防止頂板支撐臺座乃至頂板的上浮，即使與地板面垂直的方向的移動受磁鐵支撐腳限制。

另外，在實(shí)施例1～3中，在頂板支撐臺座的上表面形成多個凹處，將磁鐵支撐腳的下端部及頂板支撐柱的下端部嵌入到這些凹處，但是能夠采用不設(shè)置凹處而只將磁鐵支撐腳載置于頂板支撐臺座的上表面的結(jié)構(gòu)。此外，在頂板支撐柱的情況下，即使在不嵌入凹處的情況下，也優(yōu)選將下端部螺紋緊固于頂板支撐臺座上進(jìn)行固定。

實(shí)施例1～3所示的頂板支撐臺座的上表面的凹處的形狀不限于矩形或者橢圓形，而是能夠按照磁鐵支撐腳的下端部及頂板支撐柱的下端部的形狀，采用圓形、四邊形、多邊形。

關(guān)于實(shí)施例1～3所示的頂板支撐臺座，表示了相對于靜磁場發(fā)生裝置1的軸向兩側(cè)的兩根頂板支撐柱8共通設(shè)置的例子，但是也可以與各頂板支撐柱8相對應(yīng)而分割設(shè)置。

以上，基于一實(shí)施方式對本實(shí)用新型進(jìn)行了說明，但是本實(shí)用新型不限于此，而是能夠用在本實(shí)用新型的宗旨的范圍內(nèi)變形或者變更的方式來實(shí)施，這對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見的，這種變形或者變更的方式當(dāng)然屬于本申請要求專利保護(hù)的范圍。