一種基板刻蝕監(jiān)測方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置一個EPS傳感器，在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置至少一個EPS傳感器。本發(fā)明利用多個EPS傳感器對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，能夠較準確的反映基板當(dāng)前的狀態(tài)，避免出現(xiàn)刻蝕不完全的情況。
【專利說明】
一種基板刻蝕監(jiān)測方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種對基板刻蝕進行監(jiān)測的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]TFT-1XD刻蝕時使用一個EPS對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，但是一個EPS只能監(jiān)測基板內(nèi)一個小范圍內(nèi)的刻蝕情況，隨著TFE-LCD制造工藝的進步，基板面積越來越大，基板內(nèi)膜厚分布難于控制，一個小范圍內(nèi)的刻蝕情況無法準確反應(yīng)整個基板內(nèi)的刻蝕情況?，F(xiàn)有技術(shù)只用一個EPS對基板內(nèi)一個小范圍內(nèi)的刻蝕情況進行監(jiān)測?？赡茉撔》秶鷥?nèi)EPS檢出時，基板內(nèi)其它區(qū)域還有膜未被完全刻蝕從而造成刻蝕殘留。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種監(jiān)測方法，能夠較準確的判斷基板的可視情況。
[0004]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置一個EPS傳感器，在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置至少一個EPS傳感器。
[0005]其中，各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域的擺動中心。且，各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案的外側(cè)的位置上。
[0006]當(dāng)各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
[0007]本發(fā)明的積極進步效果在于:利用多個EPS傳感器對基板的刻蝕情況進行監(jiān)測，能夠較準確的反映基板當(dāng)前的狀態(tài)，避免出現(xiàn)刻蝕不完全的情況。
【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明實施例的示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實施例，以詳細說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0010]—種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板I的一個側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置一個第一EPS傳感器2，在與被刻蝕基板I另一側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置一個第二EPS傳感器3。也可以設(shè)置多個該第一EPS傳感器2以及該第二EPS傳感器3。第一EPS傳感器和第二EPS傳感器是相同的裝置。
[0011]其中，各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域(如圖1中虛線所示)的擺動中心。且，各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案(如圖1中點劃線所示)的外側(cè)的位置上。
[0012]當(dāng)各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
【主權(quán)項】
1.一種基板刻蝕監(jiān)測方法，其在與被刻蝕基板的一個側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置一個EPS傳感器，其特征在于，在與被刻蝕基板另一側(cè)邊對應(yīng)的位置設(shè)置至少一個EPS傳感器。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，各該EPS傳感器設(shè)置在其所監(jiān)測的基板區(qū)域的擺動中心。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，各該EPS傳感器設(shè)在被刻蝕基板的圖案的外側(cè)的位置上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板刻蝕監(jiān)測方法，其特征在于，當(dāng)各個EPS傳感器獲得的信號值中的最小值大于或等于門限值時，則認為基板刻蝕完畢。
【文檔編號】H01L21/67GK105914172SQ201610419140
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年6月15日
【發(fā)明人】熊勇軍
【申請人】蘇州眾顯電子科技有限公司