本公開至少一個(gè)實(shí)施例涉及一種顯示基板的制備方法、顯示基板母板。

背景技術(shù)：

當(dāng)前用戶對(duì)顯示產(chǎn)品的需求越來(lái)越高，顯示屏的尺寸也隨之增大。但是顯示屏中的顯示基板在制備過(guò)程中會(huì)使用蒸鍍工藝，大尺寸的顯示基板會(huì)產(chǎn)生下垂問(wèn)題，從而影響蒸鍍工藝的精度，影響產(chǎn)品的顯示良率。

公開內(nèi)容

本公開提供了一種顯示基板的制備方法、顯示基板母板以解決上述技術(shù)問(wèn)題。

本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法，包括：提供襯底基板，包括彼此相對(duì)的第一主表面和第二主表面，所述襯底基板被劃分為有效區(qū)和位于所述有效區(qū)域周圍的虛設(shè)區(qū)；在所述第二主表面和所述虛設(shè)區(qū)內(nèi)的所述第一主表面至少之一上形成磁性層；以及在所述第一主表面上沉積元件層。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，在所述第一主表面上沉積元件層包括：將形成所述磁性層的襯底基板放入蒸鍍?cè)O(shè)備，所述蒸鍍?cè)O(shè)備包括蒸發(fā)源和磁吸附層；對(duì)所述第一主表面進(jìn)行蒸鍍以沉積所述元件層；其中，所述襯底基板位于所述蒸發(fā)源和所述磁吸附層之間，所述磁吸附層位于所述襯底基板的所述第二主表面的一側(cè)。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法還可以包括：在進(jìn)行蒸鍍之前，在所述襯底基板的第一主表面的一側(cè)安裝掩模板。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，所述元件層包括發(fā)光器件的陽(yáng)極、陰極以及位于所述陽(yáng)極和所述陰極之間的有機(jī)層至少之一。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，所述元件層至少形成在所述有效區(qū)。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，所述襯底基板包括間隔排列的多個(gè)所述有效區(qū)，相鄰的所述有效區(qū)之間設(shè)置有所述虛設(shè)區(qū)。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，所述磁性層形成在所述虛設(shè)區(qū)內(nèi)的所述第二主表面上。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法還可以包括：切除所述襯底基板的所述虛設(shè)區(qū)。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，所述磁性層至少部分形成在所述有效區(qū)內(nèi)的所述第二主表面上，所述方法還包括：使用腐蝕液對(duì)所述第二主表面上的所述磁性層進(jìn)行處理以去除所述磁性層。

本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板母板，包括：襯底基板，包括彼此相對(duì)的第一主表面和第二主表面，所述襯底基板被劃分為有效區(qū)和位于所述有效區(qū)域周圍的虛設(shè)區(qū)；設(shè)置于所述第二主表面和所述虛設(shè)區(qū)內(nèi)的所述第一主表面至少之一上的磁性層；以及設(shè)置于所述第一主表面上的元件層。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板中，所述元件層至少形成在所述有效區(qū)內(nèi)。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板中，所述磁性層設(shè)置在所述虛設(shè)區(qū)內(nèi)的所述第二主表面上。

在本公開實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法中，在襯底基板的主表面上形成磁性層，通過(guò)磁吸附力，在蒸鍍過(guò)程中，可以緩解或者消除襯底基板的下垂，從而可以提升顯示基板的蒸鍍良率。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本公開實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實(shí)施例，而非對(duì)本公開的限制。

圖1a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的待加工的襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1b為圖1a所示襯底基板沿a-b的截面圖；

圖2a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第一主表面上的一種分布示意圖；

圖2b為圖2a所示形成有磁性層的襯底基板沿c-d的截面圖；

圖2c為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第一主表面上的另一種分布示意圖；

圖3a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第二主表面上的一種分布示意圖；

圖3b為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第二主表面上的另一種分布示意圖；

圖4為本公開實(shí)施例提供形成有磁性層的襯底基板安裝在蒸鍍?cè)O(shè)備中的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5b為圖5a所示顯示基板母板沿e-f的截面圖；

圖6a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的對(duì)顯示基板母板進(jìn)行切割工藝的結(jié)構(gòu)示意圖；以及

圖6b為圖6a所示顯示基板母板切割后得到的顯示基板子板的分布圖。

附圖標(biāo)記：

1-真空蒸鍍室；2-支撐部；100-襯底基板；101-第一主表面；102-第二主表面；110-有效區(qū)；120-虛設(shè)區(qū)；200-磁性層；300-磁吸附層；400-蒸發(fā)源；500-掩模板；600-元件層；700-顯示基板子板。

具體實(shí)施方式

為使本公開實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本公開實(shí)施例的附圖，對(duì)本公開實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本公開的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；谒枋龅谋竟_的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無(wú)需創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本公開保護(hù)的范圍。

除非另外定義，本公開使用的技術(shù)術(shù)語(yǔ)或者科學(xué)術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)為本公開所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語(yǔ)并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來(lái)區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語(yǔ)意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語(yǔ)并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的?！吧稀薄ⅰ跋隆?、“左”、“右”等僅用于表示相對(duì)位置關(guān)系，當(dāng)被描述對(duì)象的絕對(duì)位置改變后，則該相對(duì)位置關(guān)系也可能相應(yīng)地改變。

本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法和顯示基板母板。在該顯示基板的制備方法中，通過(guò)在襯底基板上形成磁性層，可以通過(guò)磁吸附力緩解或者消除顯示基板母板(顯示基板母板切割后可以得到多個(gè)顯示基板子板)下垂的問(wèn)題。

下面將結(jié)合附圖對(duì)根據(jù)本公開實(shí)施例的顯示基板的制備方法和顯示基板母板進(jìn)行詳細(xì)的描述。

本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法，該方法包括：提供襯底基板，包括彼此相對(duì)的第一主表面和第二主表面，襯底基板被劃分為有效區(qū)和位于有效區(qū)域周圍的虛設(shè)區(qū)；在第二主表面和虛設(shè)區(qū)內(nèi)的第一主表面至少之一上形成磁性層；以及在第一主表面上沉積元件層。關(guān)于該制備方法中的襯底基板、磁性層以及元件層等結(jié)構(gòu)的具體化結(jié)構(gòu)及功能可以參考下述內(nèi)容，本公開在此不做贅述。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法包括：提供襯底基板，圖1a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的待加工的襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖1b為圖1a所示襯底基板沿a-b的截面圖。例如圖1a和圖1b所示，襯底基板100包括彼此相對(duì)的第一主表面101和第二主表面102，并且襯底基板100被劃分為有效區(qū)110(圖1a和圖1b所示襯底基板100中虛線所限定的部分)和位于有效區(qū)100周圍的虛設(shè)區(qū)120(襯底基板100中有效區(qū)100以外的部分)。需要說(shuō)明的是，有效區(qū)110和虛設(shè)區(qū)120是對(duì)襯底基板100的設(shè)計(jì)區(qū)域，圖1a和圖1b中用于限定有效區(qū)110范圍的虛線不是實(shí)際存在的，該設(shè)計(jì)區(qū)域的具體劃分可以根據(jù)實(shí)際需求決定，本公開的實(shí)施例在此不做贅述。

例如，襯底基板100可以為透明襯底，例如可以為玻璃或透明樹脂等。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的制備方法中，如圖1a和圖1b所示，襯底基板100包括間隔排列的多個(gè)有效區(qū)110，相鄰的有效區(qū)110之間設(shè)置有虛設(shè)區(qū)120。如此，對(duì)襯底基板100加工后可以得到顯示基板母板，顯示基板母板中與有效區(qū)110對(duì)應(yīng)的部分可以為制作顯示面板的顯示基板。本公開的實(shí)施例對(duì)襯底基板100中的有效區(qū)110和虛設(shè)區(qū)120的具體分布位置不做限制，可以根據(jù)實(shí)際需求決定。關(guān)于對(duì)襯底基板100加工以形成顯示基板母板的過(guò)程可以參考下述實(shí)施例(例如下述圖5a和圖5b所示的實(shí)施例)中的相關(guān)內(nèi)容。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法還包括：在襯底基板100的第二主表面102和虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一主表面101至少之一上形成磁性層。該磁性層在襯底基板100上的形成位置為多種，下面分別對(duì)其進(jìn)行說(shuō)明。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，磁性層形成在襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一主表面101上，圖2a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第一主表面上的一種分布示意圖，圖2b為圖2a所示形成有磁性層的襯底基板沿c-d的截面圖。例如圖2a和圖2b所示，當(dāng)磁性層200形成在襯底基板100的第一主表面101上時(shí)，磁性層200僅形成在與襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120對(duì)應(yīng)的區(qū)域。如此，磁性層200的設(shè)置不會(huì)影響顯示基板的后續(xù)加工工藝，而且在切割工藝過(guò)程中，位于虛設(shè)區(qū)120位置上的磁性層200會(huì)被一同切割掉，所以磁性層200也不會(huì)對(duì)最終形成的產(chǎn)品(顯示基板)產(chǎn)生影響。

磁性層200可以如圖2a所示的覆蓋虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一表面101的全部區(qū)域，也可以覆蓋虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一表面101的部分區(qū)域，圖2c為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第一主表面上的另一種分布示意圖。例如圖2c所示，磁性層200形成在虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一表面101的部分區(qū)域上，例如可以形成虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一表面101的中間區(qū)域上。本公開實(shí)施例對(duì)磁性層200的形成位置不做限定，只要磁性層200可以將對(duì)襯底基板100的下垂即可。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，磁性層形成在襯底基板100的第二主表面102上。例如，磁性層可以形成在襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第二主表面102上，圖3a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第二主表面上的一種分布示意圖。如圖3a所示，磁性層200形成在襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第二主表面102上。磁性層200可以覆蓋虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第二主表面102的全部區(qū)域或者部分區(qū)域。上述情況下的磁性層200的形成方式，可以參考前述實(shí)施例(關(guān)于磁性層200形成在襯底基板100的第一主表面101上的實(shí)施例)中的相關(guān)描述，本公開的實(shí)施例在此不做贅述。

在磁性層200形成在襯底基板100的第二主表面102上的情況下，本公開的實(shí)施例對(duì)磁性層200形成的具體位置不做限定，圖3b為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的磁性層在襯底基板的第二主表面上的另一種分布示意圖。例如圖3b所示，磁性層200設(shè)置在襯底基板100的第二主表面102上時(shí)，磁性層200也可以覆蓋襯底基板100的有效區(qū)110內(nèi)的第二主表面102，并且磁性層200可以覆蓋襯底基板100的第二主表面102的全部區(qū)域或者部分區(qū)域，本公開的實(shí)施例對(duì)此不做限制。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，磁性層200的制備材料可以為具有導(dǎo)磁的金屬材料也可以為帶有磁性的金屬材料，該金屬材料例如鐵、鈷或者鎳等的金屬或者合金；磁性層200的制備材料也可以為其它帶有磁性的材料。本公開的實(shí)施例對(duì)磁性層200的具體制備材料不做限定，只要磁性層200具有導(dǎo)磁能力即可。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，對(duì)磁性層200的形成方式不做限定。以圖2a所示的磁性層200的設(shè)置位置為例，在襯底基板100上形成磁性層200的方法可以包括如下過(guò)程：在襯底基板100的第一主表面101上形成磁性材料層；然后在該磁性材料層上涂覆光刻膠層，使用掩模板對(duì)光刻膠層進(jìn)行曝光；對(duì)曝光的光刻膠層進(jìn)行顯影以得到光刻膠圖案，該光刻膠圖案暴露與有效區(qū)110對(duì)應(yīng)的磁性材料層，并且覆蓋與虛設(shè)區(qū)120對(duì)應(yīng)的磁性材料層；使用光刻膠圖案作為掩模對(duì)該磁性材料層進(jìn)行蝕刻，然后去除光刻膠圖案。例如，在襯底基板100上形成磁性材料層的方式可以包括電鍍或者蒸鍍等，本公開的實(shí)施例對(duì)磁性材料層的形成方式不做限定。

為便于解釋本公開的實(shí)施例的技術(shù)方案，在本公開下述實(shí)施例中，以圖2a所示的磁性層200的設(shè)置方式為例進(jìn)行說(shuō)明。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法還包括：在襯底基板100的第一主表面101上沉積元件層，圖4為本公開實(shí)施例提供形成有磁性層的襯底基板安裝在蒸鍍?cè)O(shè)備中的結(jié)構(gòu)示意圖。例如圖4所示，蒸鍍?cè)O(shè)備可以包括蒸發(fā)源400和磁吸附層300。例如，蒸鍍?cè)O(shè)備可以為真空蒸鍍?cè)O(shè)備，可以包括真空室1和支撐部2等結(jié)構(gòu)，支撐部2可以支撐磁吸附層300。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，在襯底基板100的第一主表面101上沉積元件層的過(guò)程可以包括如下過(guò)程：如圖4所示，將形成有磁性層200的襯底基板100放入蒸鍍?cè)O(shè)備，其中，形成有磁性層200的襯底基板100設(shè)置在磁吸附層300和蒸發(fā)源400之間，并且磁吸附層300位于襯底基板100的第二主表面102的一側(cè)；對(duì)襯底基板100的第一主表面101進(jìn)行蒸鍍以沉積形成元件層600。

蒸發(fā)源400中可以包括蒸發(fā)材料。在蒸鍍過(guò)程中，蒸發(fā)源400加熱蒸發(fā)材料并使之變?yōu)闅鈶B(tài)，氣態(tài)的蒸發(fā)材料接觸襯底基板100后沉積形成相應(yīng)材料的結(jié)構(gòu)層。

在上述蒸鍍過(guò)程中，磁性層300可以與蒸鍍?cè)O(shè)備中的磁吸附層300產(chǎn)生磁吸附力，該磁吸附力可以緩解或者消除襯底基板100的下垂；而且在當(dāng)前的蒸鍍工藝中，待蒸鍍的基板因?yàn)閷?duì)位等操作會(huì)觸碰基板，使得基板容易產(chǎn)生破片，在本公開實(shí)施例中，磁性層200可以對(duì)襯底基板100的表面進(jìn)行保護(hù)，減少了破片的產(chǎn)生，提高產(chǎn)品良率，降低成本。例如，該磁吸附層300可以為剛性結(jié)構(gòu)。例如，磁吸附層300可以包括永磁體或者電磁體。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法還包括：在進(jìn)行蒸鍍之前，在襯底基板100的第一主表面101的一側(cè)安裝掩模板。如圖4所示，掩模板500可以設(shè)置在襯底基板100和蒸發(fā)源400之間。掩模板500可以為金屬掩模板(例如，精細(xì)金屬掩模板)，金屬掩模板500和磁吸附層300之間產(chǎn)生的磁吸附力可以提高金屬掩模板500和襯底基板100之間貼合的緊密度。

在襯底基板100上形成元件層600之后得到顯示基板母板，圖5a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5b為圖5a所示顯示基板母板沿e-f的截面圖。例如圖5a和圖5b為圖4所示完成蒸鍍過(guò)程后的顯示基板母板的結(jié)構(gòu)示意圖。

本公開實(shí)施例對(duì)顯示基板母板的類型不做限制。例如，該顯示基板母板可以為陣列基板母板。例如該顯示基板母板可以為有機(jī)發(fā)光二極管(oled)顯示基板母板。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，如圖5a和圖5b所示，該顯示基板母板可以為有機(jī)發(fā)光二極管(oled)顯示基板母板，元件層600包括發(fā)光器件的陽(yáng)極、陰極以及位于陽(yáng)極和陰極之間的有機(jī)層至少之一。例如，有機(jī)層包括有機(jī)發(fā)光層，還可以包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子注入層以及電子傳輸層中的任意一種或幾種。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法中，如圖5a和圖5b所示，元件層600至少形成在襯底基板100的有效區(qū)110。元件層600可以只形成在有效區(qū)110，也可以同時(shí)形成在虛設(shè)區(qū)120，本公開對(duì)元件層600的具體位置不做限定。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法還包括：去除設(shè)置在襯底基板100上的磁性層200。因?yàn)榇判詫?00在襯底基板100上的形成位置包括多種，相應(yīng)的磁性層200的去除方式也不同，下面分別對(duì)其進(jìn)行說(shuō)明。

例如，本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法還包括：在垂直于襯底基板100所在面的方向上，切割襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120部分。也就是說(shuō)，將虛設(shè)區(qū)切除。圖6a為本公開一個(gè)實(shí)施例提供的對(duì)顯示基板母板進(jìn)行切割工藝的結(jié)構(gòu)示意圖，以及圖6b為圖6a所示顯示基板母板切割后得到的顯示基板子板的分布圖。例如圖6a和圖6b所示，沿著虛線切割顯示基板母板，去除顯示基板母板中的與襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120對(duì)應(yīng)的部分，顯示基板母板剩余的部分(顯示基板母板中的與襯底基板100的有效區(qū)110對(duì)應(yīng)的部分)為顯示基板子板700。例如，顯示基板母板的切割方式可以包括刀輪切割或者激光切割等。

在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，可以在襯底基板100的第一主表面101上形成磁性層200(例如圖2a～圖2c所示的實(shí)施例)；也可以在在襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的第一主表面101上形成磁性層200(例如圖3a所示的實(shí)施例)。對(duì)于上述情況，磁性層200只位于襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120內(nèi)的表面上，在對(duì)顯示基板母板進(jìn)行切割工藝以獲得顯示基板子板的過(guò)程中，磁性層200會(huì)隨著襯底基板100的虛設(shè)區(qū)120一同切割掉，所以顯示基板子板700上不會(huì)有磁性層200。

在本公開至少一個(gè)實(shí)施例中，如圖3b所示，在襯底基板100的第二主表面102上形成磁性層200，并且磁性層200至少部分形成在襯底基板100的有效區(qū)110的部分第二主表面102上，本公開實(shí)施例的顯示基板的制備方法還包括：使用腐蝕液對(duì)襯底基板100的第二主表面102上的磁性層200進(jìn)行處理以去除磁性層200。例如，在顯示基板母板的減薄工藝過(guò)程中，利用腐蝕液對(duì)顯示基板母板的第二主表面102一側(cè)的部分進(jìn)行減薄，同時(shí)去除第二主表面102上的磁性層200。然后對(duì)顯示基板母板進(jìn)行切割工藝以獲得顯示基板子板700。

需要說(shuō)明的是，在前述實(shí)施例中，切割工藝不限于對(duì)顯示基板母板的切割，也可以將顯示基板母板加工為顯示面板母板之后，再對(duì)顯示面板母板進(jìn)行切割以得到多個(gè)顯示面板子板。

本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板母板，包括：襯底基板，包括彼此相對(duì)的第一主表面和第二主表面，襯底基板被劃分為有效區(qū)和位于有效區(qū)域周圍的虛設(shè)區(qū)；設(shè)置于第二主表面和虛設(shè)區(qū)內(nèi)的第一主表面至少之一上的磁性層；以及設(shè)置于第一主表面上的元件層。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板中，元件層至少形成在有效區(qū)內(nèi)。

例如，在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板母板中，磁性層設(shè)置在虛設(shè)區(qū)內(nèi)的第二主表面上。

該顯示基板母板的結(jié)構(gòu)可以參考圖5a和圖5b所示的結(jié)構(gòu)以及對(duì)該顯示基板母板的具體化結(jié)構(gòu)的說(shuō)明也可以參考前述實(shí)施例(與顯示基板的制備方法相關(guān)的實(shí)施例)中的相關(guān)內(nèi)容，本公開的實(shí)施例在此不做贅述。

需要說(shuō)明的是，在本公開的實(shí)施例中，如果顯示基板子板700的襯底基板100上允許磁性層200的存在，則不需要對(duì)磁性層200進(jìn)行單獨(dú)的清除工藝，而且磁性層200可以形成在襯底基板100的主表面上的任意位置。

本公開的實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法、顯示基板母板，并且可以具有以下至少一項(xiàng)有益效果：

(1)本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法，其中，顯示基板的襯底基板上形成磁性層，可以降低或消除襯底基板在蒸鍍工藝過(guò)程中的下垂，以提高顯示基板的蒸鍍良率。

(2)在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法中，磁性層覆蓋襯底基板的主表面并對(duì)其進(jìn)行保護(hù)，降低了操作過(guò)程中襯底基板出現(xiàn)破片的風(fēng)險(xiǎn)。

(3)在本公開至少一個(gè)實(shí)施例提供的顯示基板的制備方法中，磁性層形成在襯底基板的虛設(shè)區(qū)內(nèi)的主表面上，在切割工藝過(guò)程中，磁性層隨襯底基板的虛設(shè)區(qū)一同去除，簡(jiǎn)化了顯示基板的制備工藝，降低成本。

對(duì)于本公開，還有以下幾點(diǎn)需要說(shuō)明：

(1)本公開實(shí)施例附圖只涉及到與本公開實(shí)施例涉及到的結(jié)構(gòu)，其他結(jié)構(gòu)可參考通常設(shè)計(jì)。

(2)為了清晰起見，在用于描述本公開的實(shí)施例的附圖中，層或區(qū)域的厚度被放大或縮小，即這些附圖并非按照實(shí)際的比例繪制。

(3)在不沖突的情況下，本公開的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合以得到新的實(shí)施例。

以上，僅為本公開的具體實(shí)施方式，但本公開的保護(hù)范圍并不局限于此，本公開的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。