專利名稱：涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域，特別屬于一種涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
涂布顯影機(jī)MK8的傳送單元位于光阻涂布模組與光刻機(jī)之間，主要作用為硅片的中轉(zhuǎn)站。目前，現(xiàn)有傳送單元的定位導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)軸向截面，如圖1所示，該導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一豎直平面，該豎直平面的軸向截面為直線CD段，傳送距離短而且導(dǎo)軌沒有延伸到托盤表面，這樣會造成定位不良，即硅片會跨在定位導(dǎo)軌上，而不能準(zhǔn)確滑入位于導(dǎo)軌下方的托盤上，導(dǎo)致手臂在接片時硅片掉落。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，可以提聞定位效率，減少跨片情況的發(fā)生。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，所述硅片定位結(jié)構(gòu)為兩個對稱的弧形導(dǎo)軌，所述弧形導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一凹形曲面。在上述結(jié)構(gòu)中，所述凹形曲面的軸向截面為一凹形曲線，該凹形曲線的方程為f (x) = 6.5x4-23.4x3+30.3x2_20.5x+9。此外，所述弧形導(dǎo)軌具有若干凸塊，該凸塊的內(nèi)側(cè)面包括所述凹形曲面，該凹形曲面上方連接一平面 ，所述平面由下至上向外傾斜。優(yōu)選的，所述平面的軸向截面為一直線，該直線的方程為g(x) = -2.2x。在上述結(jié)構(gòu)中，所述弧形導(dǎo)軌通過螺釘固定在托盤上。本實(shí)用新型的硅片定位導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面是兩段式的，由一段斜平面和一段凹形曲面組成，距離長而且導(dǎo)軌延伸到工藝單元的托盤表面，這種設(shè)計增加了導(dǎo)軌和硅片的接觸時間，提聞了娃片的定位成功率。

圖1是現(xiàn)有的硅片定位結(jié)構(gòu)的軸向截面示意圖；圖2是本實(shí)用新型的硅片定位結(jié)構(gòu)的軸向截面示意圖；圖3是本實(shí)用新型的硅片定位結(jié)構(gòu)的立體示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。本實(shí)用新型提供的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)為兩個對稱的弧形導(dǎo)軌，弧形導(dǎo)軌通過螺釘和螺孔3固定在托盤上。如圖3所示，所述弧形導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一凹形曲面1，所述弧形導(dǎo)軌具有若干凸塊2，該凸塊2的內(nèi)側(cè)面包括所述凹形曲面，該凹形曲面上方連接一平面，所述平面由下至上向外傾斜，如圖3所示。如圖2所示，所述凹形曲面的軸向截面為一凹形曲線C’D’，該凹形曲線C’D’的方程為f (X) = 6.5χ4-23.4χ3+30.3χ2_20.5χ+9。平面的軸向截面為一直線B’C’，該直線B，C，的方程為g(x) = -2.2x。當(dāng)然，本實(shí)用新型中的凹形曲面也可以變換為傾斜平面，該傾斜平面的斜率小于等于其上方連接的平面斜率。本實(shí)用新型的硅片定位導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一段凹形曲面，距離長而且導(dǎo)軌延伸到工藝單元的托盤表面，這種設(shè)計增加了導(dǎo)軌和硅片的接觸時間，提高了硅片的定位成功率，避免了跨片的情況。以上通過具體實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但這些并非構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在不脫離本實(shí)用新型原理的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可對本實(shí)用新型的導(dǎo)軌內(nèi)側(cè)面的形狀等做 出許多變形和改進(jìn)，這些也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述硅片定位結(jié)構(gòu)為兩個對稱的弧形導(dǎo)軌，所述弧形導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一凹形曲面(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凹形曲面(I)的軸向截面為一凹形曲線，該凹形曲線的方程為f(x)=6.5χ4-23.4χ3+30.3χ2_20.5χ+9。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述弧形導(dǎo)軌具有若干凸塊(2)，該凸塊(2)的內(nèi)側(cè)面包括所述凹形曲面，該凹形曲面上方連接一平面，所述平面由下至上向外傾斜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述平面的軸向截面為一直線，該直線的方程 為g(x) = -2.2x。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述弧形導(dǎo)軌通過螺釘固定在托盤上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種涂布顯影機(jī)傳送單元的硅片定位結(jié)構(gòu)，所述硅片定位結(jié)構(gòu)為兩個對稱的弧形導(dǎo)軌，所述弧形導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為一凹形曲面，所述弧形導(dǎo)軌具有若干凸塊，該凸塊的內(nèi)側(cè)面包括所述凹形曲面，該凹形曲面上方連接一平面，所述平面由下至上向外傾斜。本實(shí)用新型的硅片定位導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)面為凹形曲面，距離長而且導(dǎo)軌延伸到工藝單元的托盤表面，這種設(shè)計增加了導(dǎo)軌和硅片的接觸時間，提高了硅片的定位成功率。
文檔編號H01L21/68GK203085506SQ20122070386
公開日2013年7月24日 申請日期2012年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月18日
發(fā)明者單忠飛, 陳群琦 申請人:上海華虹Nec電子有限公司