一種大視窗觸控面板及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種大視窗觸控面板及制造方法，所述面板包括觸控區(qū)和位于所述觸控區(qū)邊緣的布線區(qū)，所述觸控區(qū)上設置有：基膜；層疊于所述基膜上的ITO導電層,所述ITO導電層上布置有線路，所述線路位于所述布線區(qū)，通過在ITO導電層上涂覆厚度小于20μm的干膜層，做出線寬最窄為20μm線路的sensor。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明大視窗觸控面板及其制造方法，其TP視窗區(qū)域較大，周邊線路窄，從而手機邊框較小，美觀性好。
【專利說明】
一種大視窗觸控面板及其制造方法
技術領域
[0001 ]本發(fā)明涉及觸控屏領域，尤其涉及一種大視窗觸控面板及其制造方法。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有技術對手機屏邊框的做法是:金屬ITO材料先壓干膜(厚度20um左右)，經(jīng)過曝光、顯影&蝕刻&剝膜制得sensor線路。現(xiàn)有技術制得的線路偏寬，一般都是100/100、50/50的線寬，這樣做出的觸摸屏邊框會比較大，影響美觀，而使用現(xiàn)有的干膜又做不出窄線路。
[0003]隨著社會的發(fā)展，人們對手機的要求越來越高，不僅僅是功能上的，外觀上也希望越來越美觀，而手機屏的邊框過大會影響其美觀，這就要求我們要盡量縮小邊框，把視窗區(qū)做大。
[0004]因此，有必要對現(xiàn)有技術中的缺陷做進一步改進。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種大視窗觸控面板，其TP視窗區(qū)域較大，周邊線路窄，從而手機邊框較小，美觀性好。
[0006]本發(fā)明一種大視窗觸控面板，所述面板包括觸控區(qū)和位于所述觸控區(qū)邊緣的布線區(qū)，所述觸控區(qū)上設置有:
[0007]基膜；
[0008]層疊于所述基膜上的ITO導電層，
[0009]所述ITO導電層上布置有線路，所述線路位于所述布線區(qū)，通過在ITO導電層上涂覆厚度小于20μηι的干膜層，做出線寬最窄為20μηι線路的sensor感應層。
[0010]作為本發(fā)明一個優(yōu)選的實施例，所述基膜為PET基材。
[0011 ]本發(fā)明還提供一種制作上述的大視窗觸控面板的方法，該制造方法包括如下步驟:
[0012]S1、壓干膜，在ITO導電層上覆蓋一層用于紫外線曝光的感光樹脂，形成一層厚度小于20μηι的干膜層；
[0013]S2、曝光固化干膜層，采用紫外線照射感光樹脂，被紫外線照射到的位置感光樹脂發(fā)生聚合反應固化形成一保護層；
[0014]S3、顯影、刻蝕ITO導電層，采用顯影液將未被紫外線照射的感光樹脂沖洗掉后，再采用刻蝕液將非保護層區(qū)域的ITO導電層刻蝕掉；
[0015]S4、去掉干膜，將刻蝕完ITO導電層的上的固化的干膜沖洗掉；
[0016]S5、經(jīng)過二次壓干膜、曝光、顯影、蝕刻、剝膜，將視窗區(qū)的最上層不透明導電物質刻蝕掉，形成視窗區(qū)透明，布線區(qū)分布導電線路的感應層。
[0017]進一步的，所述干膜層的厚度為12_18um0
[0018]進一步的，步驟S5中的導電線路的線寬最窄為20um。
[0019]進一步的，所述步驟S5之后還包括印刷絕緣油墨層步驟，將ITO導電層上的電路覆蓋在觸控面板中間層內。
[0020]本發(fā)明的有益效果:與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明大視窗觸控面板及其制造方法，其TP視窗區(qū)域較大，周邊線路窄，從而手機邊框較小，美觀性好。
【附圖說明】
[0021]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。其中:
[0022]圖1是本發(fā)明大視窗觸控面板的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0023]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細的說明。
[0024]此處所稱的“一個實施例”或“實施例”是指可包含于本發(fā)明至少一個實現(xiàn)方式中的特定特征、結構或特性。在本說明書中不同地方出現(xiàn)的“在一個實施例中”并非均指同一個實施例，也不是單獨的或選擇性的與其他實施例互相排斥的實施例。
[0025]請參閱圖1，其為本發(fā)明大視窗觸控面板的結構示意圖。如圖1所示，大視窗觸控面板，所述面板包括觸控區(qū)和位于所述觸控區(qū)邊緣的布線區(qū)，所述觸控區(qū)上設置有基膜101;層疊于所述基膜101上的ITO(銦錫氧化物)導電層102。所述ITO導電層102上布置有線路，所述線路位于所述布線區(qū)，其中，線路的線寬為20um。所述基膜為PET基材。
[0026]本發(fā)明還提供一種制作大視窗觸控面板的方法，其特征在于:該制造方法包括如下步驟:
[0027]通過壓干膜在ITO導電膜上覆蓋一層感光樹脂，通過在紫外線曝光使感光樹脂被光線照射到的位置發(fā)生聚合反應固化，而未被光線照射到的位置因沒有固化而容易被弱堿性的顯影液沖洗掉，ITO導電膜上的感光樹脂被沖洗掉后經(jīng)過蝕刻液的沖洗將不需要的區(qū)域的導電層蝕刻掉，而需要保留的位置因為有已經(jīng)發(fā)生固化的干膜的保護而保留下來形成我們需要的導電線路，之后再經(jīng)過脫膜段將固化的干膜沖洗掉。經(jīng)過二次壓干膜、曝光、顯影、蝕刻、剝膜，將其余產(chǎn)品視窗區(qū)的最上層不透明導電物質蝕刻掉，形成視窗區(qū)透明可視，周邊非視窗區(qū)分布導電線路的觸控sensor感應層。本發(fā)明的步驟還包括大板貼合、sensor沖切、FPC熱壓和CG貼合步驟。
[0028]本發(fā)明通過降低干膜厚度，增大干膜附著力，做出20/20窄線路的sensor，增大視窗區(qū)域，通常普通干膜厚度在20μπι以上，這種厚度的干膜在生產(chǎn)40μπι以上的導電線路是沒有問題的，但是當線路減低到30μπι甚至更細的得時候，干膜厚度對生產(chǎn)穩(wěn)定性影響很大，干膜較厚，蝕刻藥液無法有效浸濕到需要蝕刻的區(qū)域，從而容易帶來線路短路或者線路蝕刻過度等生產(chǎn)異常；干膜厚度降低后，附著力增強后，蝕刻藥液有效侵蝕掉不需要的導電物質，而不會侵蝕干膜覆蓋下的導電層，可以制得20μπι的細線路。線路變細后可以減少周邊線路區(qū)域占用的面板空間，增大可視區(qū)域，也就提高了屏占比。
[0029]與現(xiàn)有技術相比，與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明大視窗觸控面板及其制造方法，其TP視窗區(qū)域較大，周邊線路窄，從而手機邊框較小，美觀性好。
[0030]上述說明已經(jīng)充分揭露了本發(fā)明的【具體實施方式】。需要指出的是，熟悉該領域的技術人員對本發(fā)明的【具體實施方式】所做的任何改動均不脫離本發(fā)明的權利要求書的范圍。相應地，本發(fā)明的權利要求的范圍也并不僅僅局限于前述【具體實施方式】。
【主權項】
1.一種大視窗觸控面板，其特征在于:所述面板包括觸控區(qū)和位于所述觸控區(qū)邊緣的布線區(qū)，所述觸控區(qū)上設置有: 基月旲; 層疊于所述基膜上的ITO導電層， 所述ITO導電層上布置有線路，所述線路位于所述布線區(qū)，通過在ITO導電層上涂覆厚度小于20μηι的干膜層，做出線寬最窄為20μηι線路的sensor感應層。2.如權利要求1所述的大視窗觸控面板，其特征在于:所述基膜為PET基材。3.一種制作如權利要求1或2所述的大視窗觸控面板的方法，其特征在于:該制造方法包括如下步驟: 51、壓干膜，在ITO導電層上覆蓋一層用于紫外線曝光的感光樹脂，形成一層厚度小于20μηι的干膜層； 52、曝光固化干膜層，采用紫外線照射感光樹脂，被紫外線照射到的位置感光樹脂發(fā)生聚合反應固化形成一保護層； 53、顯影、刻蝕ITO導電層，采用顯影液將未被紫外線照射的感光樹脂沖洗掉后，再采用刻蝕液將非保護層區(qū)域的ITO導電層刻蝕掉； 54、去掉干膜，將刻蝕完ITO導電層的上的固化的干膜沖洗掉； 55、經(jīng)過二次壓干膜、曝光、顯影、蝕刻、剝膜，將視窗區(qū)的最上層不透明導電物質刻蝕掉，形成視窗區(qū)透明，布線區(qū)分布導電線路的感應層。4.如權利要求3所述的方法，其特征在于:所述干膜層的厚度為12-18um。5.如權利要求3所述的方法，其特征在于:步驟S5中的導電線路的線寬最窄為20um。6.如權利要求3所述的方法，其特征在于:所述步驟S5之后還包括印刷絕緣油墨層步驟，將ITO導電層上的電路覆蓋在觸控面板中間層內。
【文檔編號】G06F3/041GK105824467SQ201610146903
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月16日
【發(fā)明人】張靜, 田園, 姚益明
【申請人】牧東光電科技有限公司