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基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置的制造方法

文檔序號(hào):8578829閱讀:881來(lái)源:國(guó)知局
基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]基坑是指為進(jìn)行建筑物基礎(chǔ)與地下室的施工所開(kāi)挖的地面以下的基礎(chǔ)空間,是一種典型的巖土工程結(jié)構(gòu),在土木建筑和交通工程中相當(dāng)普遍;基坑施工是對(duì)巖土體開(kāi)挖和加固的復(fù)雜過(guò)程。通常情況下,基坑的失穩(wěn)和塌方主要表現(xiàn)為側(cè)壁變形不斷增大而導(dǎo)致破壞,因此在施工中對(duì)基坑側(cè)壁位移的監(jiān)測(cè)對(duì)于確保安全具有至關(guān)重要的作用。現(xiàn)有技術(shù)中的基坑側(cè)壁位移的監(jiān)測(cè)手段主要采用測(cè)斜儀,這種手段一方面成本較高,另一方面需要通過(guò)在土層中鉆孔或者在圍護(hù)粧中預(yù)埋的方式來(lái)安裝測(cè)斜管,時(shí)常由于土質(zhì)體不能成孔或者測(cè)斜管堵塞而導(dǎo)致測(cè)斜過(guò)程無(wú)法進(jìn)行;現(xiàn)有技術(shù)中還有采用全站儀作為基坑側(cè)壁位移的監(jiān)測(cè)手段,設(shè)備昂貴、監(jiān)測(cè)時(shí)不方便;如何提供一種適用范圍廣、低成本、使用方便的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,目前現(xiàn)有技術(shù)中尚未存在有效的解決方案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型針對(duì)以上問(wèn)題的提出,而研制一種移動(dòng)靈活、成本低的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:
[0005]一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,包括:支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸安裝在基座上的豎向架、通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測(cè)距儀;所述豎向架能夠繞第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述橫向架能夠繞第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng);所述第一轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)與所述第二轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)垂直;
[0006]進(jìn)一步地,所述基座上布設(shè)有以豎向架軸線(xiàn)為中心的圓形刻度盤(pán);
[0007]進(jìn)一步地,在水平放置的橫向架上下兩側(cè)對(duì)稱(chēng)設(shè)置有扇形刻度盤(pán);
[0008]進(jìn)一步地,所述支撐框架包括一長(zhǎng)方形底框和4個(gè)與底框平面垂直連接的立柱;所述立柱上端部連接所述基座。
[0009]由于采用了上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型提供的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,本實(shí)用新型移動(dòng)靈活,成本低廉,操作簡(jiǎn)單,攜帶方便,完成基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)工作不需要通過(guò)在土層中鉆孔或者在圍護(hù)粧中預(yù)埋的方式來(lái)安裝測(cè)斜管等復(fù)雜操作;通過(guò)橫向架在豎直方向的轉(zhuǎn)動(dòng),以及豎向架在水平面上的周向轉(zhuǎn)動(dòng),可以實(shí)現(xiàn)激光測(cè)距儀大范圍的測(cè)點(diǎn)監(jiān)測(cè),尤其適合基坑短邊部位的變形和側(cè)壁深部的水平變形;本實(shí)用新型適用范圍廣,能夠快速地同時(shí)對(duì)基坑多部位的變形作出判斷,有助于分析基坑受力特點(diǎn)和變形趨勢(shì),進(jìn)而有利于較好的進(jìn)tx基坑安全評(píng)估。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0011]圖2是用于定位本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置的測(cè)站平臺(tái)示意圖;
[0012]圖3是本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置的使用示意圖。
[0013]圖中:1、支撐框架,2、基座,3、第一轉(zhuǎn)軸,4、豎向架,5、第二轉(zhuǎn)軸,6、橫向架,7、激光測(cè)距儀,8、圓形刻度盤(pán),9、扇形刻度盤(pán),10、鎖緊螺栓,11、底框,12、立柱,13、定位界線(xiàn),14、測(cè)站平臺(tái),15、定位點(diǎn),16、反光片,17、混凝土墻,18、圍護(hù)粧。
【具體實(shí)施方式】
[0014]如圖1所示的一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,包括:支撐框架1、置于所述支撐框架I上的基座2、通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸3安裝在基座2上的豎向架4、通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸5安裝在所述豎向架4上的橫向架6、以及固定在所述橫向架6上的激光測(cè)距儀7 ;所述豎向架4能夠繞第一轉(zhuǎn)軸3轉(zhuǎn)動(dòng),所述橫向架6能夠繞第二轉(zhuǎn)軸5轉(zhuǎn)動(dòng);所述第一轉(zhuǎn)軸3的軸線(xiàn)與所述第二轉(zhuǎn)軸5的軸線(xiàn)垂直;進(jìn)一步地,所述基座2上布設(shè)有以豎向架4軸線(xiàn)為中心的圓形刻度盤(pán)8 ;進(jìn)一步地,在水平放置的橫向架6上下兩側(cè)對(duì)稱(chēng)設(shè)置有扇形刻度盤(pán)9 ;進(jìn)一步地,所述支撐框架I包括一長(zhǎng)方形底框11和4個(gè)與底框11平面垂直連接的立柱12 ;所述立柱12上端部連接所述基座2 ;所述圓形刻度盤(pán)8用于確定繞第一轉(zhuǎn)軸3轉(zhuǎn)動(dòng)后的豎向架4的位置;所述扇形刻度盤(pán)9用于確定繞第二轉(zhuǎn)軸5轉(zhuǎn)動(dòng)后的橫向架6的位置;所述橫向架6和豎向架4可以根據(jù)測(cè)點(diǎn)位置進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),待位置確定后,固定橫向架6和豎向架4,然后進(jìn)行測(cè)距。
[0015]在利用本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置進(jìn)行基站側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)時(shí),首先設(shè)置基坑的測(cè)站位置,圖2示出了用于定位本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置的測(cè)站平臺(tái)14示意圖,該測(cè)站平臺(tái)14采用混凝土做成標(biāo)準(zhǔn)尺寸,置于基坑的圍護(hù)粧18上,并標(biāo)記好定位界線(xiàn)13,將支撐框架I邊沿與所述定位界線(xiàn)13重合,采用重錘定位確定定位點(diǎn)15,進(jìn)而保證每次監(jiān)測(cè)時(shí)支撐框架I位置不變。
[0016]如圖3所示,具體地,本實(shí)用新型所述位移監(jiān)測(cè)裝置使用時(shí)按照如下工作步驟進(jìn)行:
[0017]1、首先在基坑一側(cè)的混凝土墻17上,每隔一定間距修建圖2示出的測(cè)站平臺(tái)14,并標(biāo)記好定位界線(xiàn)13 ;
[0018]2、每次監(jiān)測(cè)時(shí),將所述位移監(jiān)測(cè)裝置的支撐框架I邊沿與定位界線(xiàn)13重合,采用重錘定位,保證每次監(jiān)測(cè)基座2位置不變;
[0019]3、根據(jù)測(cè)點(diǎn)位置轉(zhuǎn)動(dòng)橫向架6實(shí)現(xiàn)豎直方向的上下調(diào)整,通過(guò)扇形刻度盤(pán)9上布設(shè)的刻度實(shí)現(xiàn)定位(當(dāng)橫向架6向下轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),下側(cè)的扇形刻度盤(pán)用于定位,當(dāng)橫向架6向上轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),上側(cè)的扇形刻度盤(pán)用于定位),然后固定橫向架6的位置,具體可以通過(guò)鎖緊螺栓10將橫向架6固定到豎向架4上;
[0020]4、轉(zhuǎn)動(dòng)豎向架4實(shí)現(xiàn)其在水平面上的周向調(diào)整,通過(guò)圓形刻度盤(pán)8上布設(shè)的刻度實(shí)現(xiàn)角度定位,然后固定豎向架4的位置,具體可以通過(guò)鎖緊螺栓10將豎向架4固定到基座2上;
[0021]5、測(cè)點(diǎn)位置確定后,激光測(cè)距儀7對(duì)準(zhǔn)測(cè)點(diǎn)的反光片16,進(jìn)行測(cè)距;
[0022]6、尋找另一個(gè)測(cè)點(diǎn),重復(fù)3至5,直到所有范圍內(nèi)測(cè)點(diǎn)均測(cè)量完畢;
[0023]7、尋找下一個(gè)設(shè)站地點(diǎn),重復(fù)2至6,直到所有設(shè)站地點(diǎn)都監(jiān)測(cè)完畢,則本周期的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)結(jié)束。
[0024]本實(shí)用新型移動(dòng)靈活,成本低廉,操作簡(jiǎn)單,攜帶方便,完成基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)工作不需要通過(guò)在土層中鉆孔或者在圍護(hù)粧中預(yù)埋的方式來(lái)安裝測(cè)斜管等復(fù)雜操作;通過(guò)橫向架在豎直方向的轉(zhuǎn)動(dòng),以及豎向架在水平面上的周向轉(zhuǎn)動(dòng),可以實(shí)現(xiàn)激光測(cè)距儀大范圍的測(cè)點(diǎn)監(jiān)測(cè),尤其適合基坑短邊部位的變形和側(cè)壁深部的水平變形;本實(shí)用新型適用范圍廣,能夠快速地同時(shí)對(duì)基坑多部位的變形作出判斷,有助于分析基坑受力特點(diǎn)和變形趨勢(shì),進(jìn)而有利于較好的進(jìn)行基坑安全評(píng)估。
[0025]以上所述,僅為本實(shí)用新型較佳的【具體實(shí)施方式】,但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于包括:支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸安裝在基座上的豎向架、通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測(cè)距儀;所述豎向架能夠繞第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述橫向架能夠繞第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng);所述第一轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)與所述第二轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于所述基座上布設(shè)有以豎向架軸線(xiàn)為中心的圓形刻度盤(pán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于在水平放置的橫向架上下兩側(cè)對(duì)稱(chēng)設(shè)置有扇形刻度盤(pán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,其特征在于所述支撐框架包括一長(zhǎng)方形底框和4個(gè)與底框平面垂直連接的立柱;所述立柱上端部連接所述基座。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種基坑側(cè)壁位移監(jiān)測(cè)裝置,包括:支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸安裝在基座上的豎向架、通過(guò)第二轉(zhuǎn)軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測(cè)距儀;所述豎向架能夠繞第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng),所述橫向架能夠繞第二轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng);所述第一轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)與所述第二轉(zhuǎn)軸的軸線(xiàn)垂直;本實(shí)用新型能夠快速地同時(shí)對(duì)基坑多部位的變形作出判斷,有助于分析基坑受力特點(diǎn)和變形趨勢(shì),進(jìn)而有利于較好的進(jìn)行基坑安全評(píng)估。
【IPC分類(lèi)】G01B11-02, G01B11-16
【公開(kāi)號(hào)】CN204286365
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420857711
【發(fā)明人】姜泓任
【申請(qǐng)人】姜泓任
【公開(kāi)日】2015年4月22日
【申請(qǐng)日】2014年12月30日
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