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一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊的制作方法

文檔序號(hào):39724871發(fā)布日期:2024-10-22 13:22閱讀:1來(lái)源:國(guó)知局
一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊的制作方法

本發(fā)明涉及計(jì)量校準(zhǔn),尤其是涉及一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊。


背景技術(shù):

1、目前市面上的間隙、面差測(cè)量設(shè)備主要有間隙尺、面差尺和激光間隙面差測(cè)量?jī)x三種。涉及到該設(shè)備的計(jì)量溯源性問(wèn)題,目前還沒(méi)有直接的方法來(lái)校準(zhǔn)該類設(shè)備精度的準(zhǔn)確性。間隙尺和面差尺的校準(zhǔn)可以通過(guò)量塊組合拼接來(lái)校準(zhǔn)其量值的準(zhǔn)確性。這種校準(zhǔn)方式受人為因素的影響較大,在進(jìn)行校準(zhǔn)時(shí)通常需要借助不同類型的夾具來(lái)加持量塊,使量塊組合拼接成需要的標(biāo)準(zhǔn)尺寸來(lái)進(jìn)行測(cè)量。這種方式費(fèi)時(shí)費(fèi)力,每檢測(cè)一個(gè)校準(zhǔn)點(diǎn)都需要重新組合拼接量塊。激光間隙面差測(cè)量?jī)x或系統(tǒng)是基于激光三角測(cè)距法測(cè)量原理,采用量塊組合拼接的標(biāo)準(zhǔn)器來(lái)校準(zhǔn)該類儀器時(shí)會(huì)由于激光反射的原因?qū)е滦?zhǔn)結(jié)果極為不準(zhǔn)確,不能準(zhǔn)確地反應(yīng)出設(shè)備的精度。激光間隙面差測(cè)量?jī)x或系統(tǒng)在測(cè)量間隙或面差時(shí),會(huì)考慮被測(cè)物體邊界是直角還是卷邊,在卷邊模式下,根本不能識(shí)別量塊組合拼接的標(biāo)準(zhǔn)縫隙或標(biāo)準(zhǔn)面差,導(dǎo)致無(wú)法校準(zhǔn)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,能夠用于間隙尺、面差尺和激光間隙面差測(cè)量?jī)x器的校準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)塊提供的標(biāo)準(zhǔn)值能夠覆蓋間隙、面差測(cè)量設(shè)備的測(cè)量范圍,校準(zhǔn)時(shí)不需要組裝,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,校準(zhǔn)方便、準(zhǔn)確。

2、為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:

3、一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,包括長(zhǎng)方體本體,所述長(zhǎng)方體本體內(nèi)部設(shè)置方孔一和方孔二,所述方孔一頂部設(shè)置與其連通的通孔一,所述通孔一一側(cè)頂面為基準(zhǔn)面一,另一側(cè)頂面均勻布置臺(tái)階,所述方孔二側(cè)邊設(shè)置與其連通的通孔二,所述通孔二側(cè)面均勻設(shè)置多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)面。

4、進(jìn)一步的,所述方孔二與通孔二對(duì)應(yīng)的側(cè)面均勻設(shè)置多個(gè)通槽。

5、進(jìn)一步的,所述通孔一與臺(tái)階對(duì)應(yīng)的側(cè)面也均勻設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)面。

6、進(jìn)一步的,所述標(biāo)準(zhǔn)面橫截面為方形。

7、進(jìn)一步的,所述標(biāo)準(zhǔn)面與其相對(duì)應(yīng)的通孔二側(cè)面之間的距離為標(biāo)準(zhǔn)間隙,所述標(biāo)準(zhǔn)間隙從前至后依次為2mm、3mm、4.2mm、6.4mm、8.5mm、10mm、15mm、20mm、25mm。

8、進(jìn)一步的,每個(gè)臺(tái)階與基準(zhǔn)面之間的垂直距離為標(biāo)準(zhǔn)面差,所述標(biāo)準(zhǔn)面差從前至后依次為2mm、3mm、4.20mm、6.40mm、8.50mm、10mm、15mm、20mm、25mm。

9、進(jìn)一步的,所述標(biāo)準(zhǔn)面縱截面為半圓形,半徑為2.5mm。

10、進(jìn)一步的,所述臺(tái)階側(cè)面頂邊倒圓角,圓角半徑為2.5mm。

11、本發(fā)明的有益效果是:

12、1、本發(fā)明公開(kāi)一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,可以用于間隙尺、面差尺以及激光間隙面差測(cè)量?jī)x的間隙和面差校準(zhǔn),不需要進(jìn)行組裝,誤差小,準(zhǔn)確度更高,其中頂面可以同時(shí)用于激光間隙面差測(cè)量?jī)x的間隙和面差校準(zhǔn),使用靈活度高,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,攜帶方便。

13、2、不僅能夠用于校準(zhǔn)間隙尺和面差尺,更適用于帶有直邊和卷邊功能的激光間隙面差測(cè)量?jī)x,徹底解決激光間隙面差測(cè)量?jī)x示值無(wú)法溯源的問(wèn)題。

14、3、間隙和面差工作面大小設(shè)計(jì)合理,能夠直接提供(2~25)mm范圍內(nèi)9個(gè)標(biāo)準(zhǔn)間隙和9個(gè)標(biāo)準(zhǔn)面差,覆蓋了市面上間隙面差類設(shè)備的使用范圍。



技術(shù)特征:

1.一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:包括長(zhǎng)方體本體(1),所述長(zhǎng)方體本體(1)內(nèi)部設(shè)置方孔一(2)和方孔二(3),所述方孔一(2)頂部設(shè)置與其連通的通孔一(4),所述通孔一(4)一側(cè)頂面為基準(zhǔn)面一(9),另一側(cè)頂面均勻布置臺(tái)階(7),所述方孔二(3)側(cè)邊設(shè)置與其連通的通孔二(5),所述通孔二(5)側(cè)面均勻設(shè)置多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)面(6)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述方孔二(3)與通孔二(5)對(duì)應(yīng)的側(cè)面均勻設(shè)置多個(gè)通槽(8)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述通孔一(4)與臺(tái)階(7)對(duì)應(yīng)的側(cè)面也均勻設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)面(6)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)面(6)橫截面為方形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)面(6)與其相對(duì)應(yīng)的通孔二(5)側(cè)面之間的距離為標(biāo)準(zhǔn)間隙,所述標(biāo)準(zhǔn)間隙從前至后依次為2mm、3mm、4.2mm、6.4mm、8.5mm、10mm、15mm、20mm、25mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:每個(gè)臺(tái)階(7)與基準(zhǔn)面(9)之間的垂直距離為標(biāo)準(zhǔn)面差,所述標(biāo)準(zhǔn)面差從前至后依次為2mm、3mm、4.20mm、6.40mm、8.50mm、10mm、15mm、20mm、25mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述標(biāo)準(zhǔn)面(6)縱截面為半圓形,半徑為2.5mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征在于:所述臺(tái)階(7)側(cè)面頂邊倒圓角,圓角半徑為2.5mm。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)一種間隙面差測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)塊,包括長(zhǎng)方體本體,所述長(zhǎng)方體本體內(nèi)部設(shè)置方孔一和方孔二,所述方孔一頂部設(shè)置與其連通的通孔一,所述通孔一一側(cè)頂面為基準(zhǔn)面一,另一側(cè)頂面均勻布置臺(tái)階,所述方孔二側(cè)邊設(shè)置與其連通的通孔二,所述通孔二側(cè)面均勻設(shè)置多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)面。該標(biāo)準(zhǔn)塊提供的標(biāo)準(zhǔn)值能夠覆蓋間隙、面差測(cè)量設(shè)備的測(cè)量范圍,能夠用于校準(zhǔn)間隙尺、面差尺和激光間隙面差測(cè)量?jī)x器,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,校準(zhǔn)方便、準(zhǔn)確。

技術(shù)研發(fā)人員:熊俊,江昆,張莉,賀偉份,鄭靜,黃清菁
受保護(hù)的技術(shù)使用者:重慶市計(jì)量質(zhì)量檢測(cè)研究院
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/10/21
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