本發(fā)明涉及光學(xué)膜的評價方法。

背景技術(shù)：

1、以液晶顯示裝置及場致發(fā)光(el)顯示裝置(例如，有機el顯示裝置)為代表的圖像顯示裝置正在迅速普及。在圖像顯示裝置中，為了實現(xiàn)圖像顯示、提高圖像顯示的性能，一般而言使用的是相位差構(gòu)件、偏振構(gòu)件等光學(xué)構(gòu)件(例如，參照專利文獻1)。

2、近年來，已開發(fā)出了圖像顯示裝置的新用途。例如，用于實現(xiàn)virtual?reality(虛擬現(xiàn)實，vr)的帶顯示器的護目鏡(vr護目鏡)已開始產(chǎn)品化。伴隨著圖像顯示裝置的用途擴大，對于包含上述光學(xué)構(gòu)件的光學(xué)膜，期望具有與用途相應(yīng)的形狀。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特開2021-103286號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的問題

2、然而，根據(jù)形狀不同，有時難以實現(xiàn)光學(xué)膜的光學(xué)軸的準確把握。

3、鑒于上述情況，本發(fā)明的主要目的在于準確地對光學(xué)膜的光學(xué)軸進行評價。

4、解決問題的方法

5、1.?本發(fā)明的實施方式的評價方法是光學(xué)膜的評價方法，該方法包括：在外周具有直線部的基板上配置上述光學(xué)膜；以上述基板的上述直線部為基準，對上述光學(xué)膜的光學(xué)軸進行測定；以及基于上述基板與上述光學(xué)膜的位置關(guān)系對上述測定結(jié)果進行修正。

6、2.?在上述1所述的評價方法中，可以在上述基板的外周形成有沿著第一方向的第一直線部和沿著第二方向的第二直線部，上述基板可以具有上述第一直線部與上述第二直線部交叉的角部。

7、3.?在上述1或2所述的評價方法中，上述基板可以在光學(xué)上為各向同性。

8、4.?在上述1~3中任一項所述的評價方法中，上述基板的全光線透過率可以為85%以上。

9、5.?在上述1~4中任一項所述的評價方法中，上述基板的霧度可以為5%以下。

10、6.?在上述1~5中任一項所述的評價方法中，上述光學(xué)膜可以在外周不具有直線部。

11、7.?在上述1~6中任一項所述的評價方法中，上述光學(xué)膜可以具有對上述基板的定位部。

12、8.?本發(fā)明的另一實施方式的測定裝置是對光學(xué)膜的光學(xué)軸進行測定的測定裝置，該測定裝置具備：使上述光學(xué)膜配置的基板，其在外周具有直線部；樣品保持部，其具有載置上述基板的載置面、和相對于上述載置面直立的限制面；以及測定部，其對上述光學(xué)膜的光學(xué)軸進行測定，其中，在使上述基板的上述直線部與上述限制面對接的狀態(tài)下進行上述測定。

13、9.?本發(fā)明的又一實施方式的基板用于光學(xué)膜的光學(xué)軸的測定，該基板使上述光學(xué)膜配置，其中，上述基板在外周具有直線部。

14、發(fā)明的效果

15、根據(jù)本發(fā)明的實施方式的評價方法，能夠準確地對光學(xué)膜的光學(xué)軸進行評價。

技術(shù)特征：

1.一種光學(xué)膜的評價方法，該方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評價方法，其中，

8.一種測定裝置，其為對光學(xué)膜的光學(xué)軸進行測定的測定裝置，

9.一種基板，其用于光學(xué)膜的光學(xué)軸的測定，該基板使所述光學(xué)膜配置，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明準確地對光學(xué)膜的光學(xué)軸進行評價。本發(fā)明的實施方式的評價方法是光學(xué)膜的評價方法，該方法包括：在外周具有直線部的基板上配置上述光學(xué)膜；以上述基板的上述直線部為基準對上述光學(xué)膜的光學(xué)軸進行測定；以及基于上述基板與上述光學(xué)膜的位置關(guān)系對上述測定結(jié)果進行修正。

技術(shù)研發(fā)人員：野口光貴,德岡咲美,后藤周作
受保護的技術(shù)使用者：日東電工株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21