本發(fā)明涉及一種用于沖擊試驗的低溫腔室，更具體地，本發(fā)明涉及一種能夠使用冷卻介質(zhì)在短時間內(nèi)將用于沖擊試驗的試樣冷卻到所需溫度的低溫腔室。

背景技術(shù)：

1、通常，用于沖擊試驗的低溫腔室包括被測設(shè)備(dut)以及用于在其中測試該設(shè)備的系統(tǒng)，并操作這些設(shè)備和系統(tǒng)以對被測設(shè)備(dut)進行高速測試。

2、韓國專利公開號10-2010-0000666公開了一種用于制備沖擊試樣的腔室。在常規(guī)腔室的情況下，在測試件(即試樣)的溫度通過汽化液氮冷卻試樣而降低并且達到目標溫度時，進行沖擊試驗。然而，在常規(guī)系統(tǒng)中，試樣的冷卻極限僅為-196℃。所確定的原因是由于從低溫腔室和連接管的內(nèi)部有很大熱損失，有些難以使試樣的溫度降低到使用溫度(液氫環(huán)境20k)。

3、此外，最近，對系統(tǒng)進行更改以實現(xiàn)在氫罐材料使用環(huán)境(20k，-253℃)下的材料評估的需求正在增加。因此，需要制造一種腔室，使得通過改變腔室設(shè)計，可以在超低溫環(huán)境下進行沖擊試驗。

4、另一方面，常規(guī)地，通過將腔室保持在真空氣氛中來減少冷卻介質(zhì)的使用。然而，由于制造真空腔室時制造和維護成本相對較高，因此需要制造一種能夠以廉價的方法對試樣進行低溫冷卻的腔室。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、待解決的技術(shù)問題

2、本發(fā)明用于解決包括上述問題在內(nèi)的各種問題，本發(fā)明的目的是提供一種用于沖擊試驗的低溫腔室，該低溫腔室可以有效地將試樣冷卻到低溫，同時腔室的制造成本和維護成本相對較低。然而，這些任務(wù)是說明性的，因此不限制本發(fā)明的范圍。

3、技術(shù)解決方案

4、根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案，提供了一種用于沖擊試驗的低溫腔室，所述低溫腔室包括矩形容器，所述矩形容器具有由至少兩個層形成的側(cè)壁以及開口的上側(cè)，其中所述側(cè)壁包括第一側(cè)壁和成形為圍繞所述第一側(cè)壁的第二側(cè)壁，所述第一側(cè)壁分隔出可放置試樣的第一空間；所述第二側(cè)壁分隔出第二空間以在所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁之間進行隔熱處理；所述第二空間具有上側(cè)封閉的結(jié)構(gòu)，并且將第一冷卻介質(zhì)連續(xù)供應(yīng)至所述第二空間，從而阻斷所述第一空間與外部之間的熱傳遞，同時將第二冷卻介質(zhì)連續(xù)供應(yīng)至所述第一空間，從而冷卻試樣。

5、用于沖擊試驗的低溫腔室可以包括第一冷卻介質(zhì)進料單元，所述第一冷卻介質(zhì)進料單元能夠?qū)⒌谝焕鋮s介質(zhì)供應(yīng)至第二側(cè)壁的一部分。

6、用于沖擊試驗的低溫腔室可以包括第一冷卻介質(zhì)排出單元，所述第一冷卻介質(zhì)排出單元配置為在第二側(cè)壁的一部分處排出第一冷卻介質(zhì)。

7、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，第一冷卻介質(zhì)排出單元的直徑的范圍可以為3mm至10mm。

8、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，為了將第二冷卻介質(zhì)供應(yīng)至第一空間，第二冷卻介質(zhì)進料單元可以在第一側(cè)壁的一部分上形成并同時穿透第二側(cè)壁的一部分。

9、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，容器的底表面可以通過滾花加工，以促進試樣的附著和分離。

10、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，第一冷卻介質(zhì)可以包括液化氮(ln2)。

11、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，第二冷卻介質(zhì)可以包括液化氦(lhe)。

12、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，為了密封第一空間，可在容器的頂部形成用于屏蔽的蓋。

13、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，容器可以包含sus?316材料。

14、在用于沖擊試驗的低溫腔室中，第一側(cè)壁和第二側(cè)壁分別可以具有2mm至10mm的厚度。

15、本發(fā)明的效果

16、根據(jù)如上所述完成的本發(fā)明的一個實施方案，可以實現(xiàn)用于沖擊試驗的低溫腔室，該低溫腔室可以有效地將測試件(“試樣”)冷卻到低溫，同時腔室的制造成本和維護成本是低的。當(dāng)然，本發(fā)明的范圍不受這些效果的限制。

技術(shù)特征：

1.一種用于沖擊試驗的低溫腔室，其包括矩形容器，所述矩形容器具有由至少兩個層形成的側(cè)壁以及開口的上側(cè)，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其進一步包括第一冷卻介質(zhì)進料單元，所述第一冷卻介質(zhì)進料單元能夠在所述第二側(cè)壁的一部分上供應(yīng)第一冷卻介質(zhì)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其進一步包括第一冷卻介質(zhì)排出單元，所述第一冷卻介質(zhì)排出單元能夠在所述第二側(cè)壁的一部分上排出第一冷卻介質(zhì)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低溫腔室，其中，所述第一冷卻介質(zhì)排出單元的直徑為3mm至10mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其進一步包括：用于將第二冷卻介質(zhì)供應(yīng)至所述第一空間的第二冷卻介質(zhì)進料單元，所述第二冷卻介質(zhì)進料單元形成在所述第一側(cè)壁的一部分上并同時穿透所述第二側(cè)壁的一部分。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，容器的底表面通過滾花加工以促進試樣的附著和分離。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，所述第一冷卻介質(zhì)包括液化氮(ln2)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，所述第二冷卻介質(zhì)包括液化氦(lhe)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，為了密封第一空間，在容器的頂部形成屏蔽蓋。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，容器包含sus?316材料。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫腔室，其中，所述第一側(cè)壁和所述第二側(cè)壁分別具有2mm至10mm的厚度。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于沖擊試驗的低溫腔室，所述低溫腔室包括矩形容器，所述矩形容器具有由至少兩個層形成的側(cè)壁以及開口的上側(cè)，其中所述側(cè)壁包括第一側(cè)壁和成形為圍繞所述第一側(cè)壁的第二側(cè)壁，所述第一側(cè)壁分隔出可放置試樣的第一空間，所述第二側(cè)壁分隔出第二空間以在所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁之間進行隔熱處理，所述第二空間具有上側(cè)封閉的結(jié)構(gòu)，并且將第一冷卻介質(zhì)連續(xù)供應(yīng)至所述第二空間，從而阻斷所述第一空間與外部之間的熱傳遞，同時將第二冷卻介質(zhì)連續(xù)供應(yīng)至所述第一空間，從而冷卻試樣。

技術(shù)研發(fā)人員：柳元孝,鄭商培,樸宰永,金定官
受保護的技術(shù)使用者：現(xiàn)代制鐵株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21