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一種半主動激光目標探測裝置制造方法

文檔序號:6189474閱讀:268來源:國知局
一種半主動激光目標探測裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種半主動激光目標探測裝置。包括非成像光學系統(tǒng)和四象限探測器;非成像光學系統(tǒng)包括外殼、球罩、窄帶干涉濾光片、負透鏡、正膠合透鏡和正透鏡,外殼的前端中心孔內(nèi)固定球罩和窄帶干涉濾光片,緊靠窄帶干涉濾光片有負透鏡,負透鏡固定在支架的中心孔內(nèi),支架與外殼固定,靠近負透鏡支架的中心孔內(nèi)依次固定正膠合透鏡、正透鏡和四象限探測器;四象限探測器的光敏面直徑是10mm,四象限探測器并不位于光學系統(tǒng)的焦平面上,而是具有-3mm的離焦量。它視場較大,探測精度較高,結(jié)構(gòu)簡單,價格低,使用方便,具有很好的市場應用前景。
【專利說明】一種半主動激光目標探測裝置
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明屬于激光制導【技術(shù)領域】,特別涉及一種半主動的激光目標探測裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]本發(fā)明的光學系統(tǒng)屬于非成像系統(tǒng),目標信號經(jīng)光學系統(tǒng)后在四象限探測器靶面上形成一定大小且均勻的光斑,探測器通過分析光斑覆蓋在探測器4個不同區(qū)域的面積來判斷目標的方位。應用于武器系統(tǒng)可提高其打擊能力。專利CN102323590A—種半主動激光目標方位精確識別裝置的專利雖為相同領域,但是涉及的側(cè)重點不同。同時探測器類型不同。專利CN101672641A—種基于雙四象限探測器的光學精密跟蹤探測器隨同為激光制導領域,探測器類型不同,光學系統(tǒng)采用反射式。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點,本發(fā)明提供一種半主動激光目標探測裝置,它視場較大,探測精度較高,結(jié)構(gòu)簡單,價格低,使用方便,具有很好的市場應用前景。
[0004]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:包括非成像光學系統(tǒng)和四象限探測器;非成像光學系統(tǒng)包括外殼、球罩、窄帶干涉濾光片、負透鏡、正膠合透鏡和正透鏡,外殼的前端中心孔內(nèi)固定球罩和窄帶干涉濾光片,緊靠窄帶干涉濾光片有負透鏡,負透鏡固定在支架的中心孔內(nèi),支架與外殼固定,靠近負透鏡支架的中心孔內(nèi)依次固定正膠合透鏡、正透鏡和四象限探測器;四象限探測器的光敏面直徑是10_,四象限探測器并不位于光學系統(tǒng)的焦平面上,而是具有-3mm離焦量。
[0005]本發(fā)明視場較大,探測精度較高,結(jié)構(gòu)簡單,價格低,使用方便,具有很好的市場應用前景。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1為本發(fā)明示意圖;
[0007]圖2為本發(fā)明光路示意圖;
[0008]圖3為本發(fā)明光學系統(tǒng)光斑均勻性評價函數(shù)相對照度分布圖(從左至右依次為O、0.7、I 視場);
[0009]圖4為本發(fā)明光學系統(tǒng)光斑大小評價函數(shù)徑向能量曲線圖。
【具體實施方式】
[0010]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明。
[0011]如圖1所示,本發(fā)明包括非成像光學系統(tǒng)和四象限探測器;非成像光學系統(tǒng)包括外殼7、球罩1、窄帶干涉濾光片2、負透鏡3、正膠合透鏡4和正透鏡5,外殼7的前端中心孔內(nèi)固定球罩I和窄帶干涉濾光片2,緊靠窄帶干涉濾光片2有負透鏡3,負透鏡3固定在支架8的中心孔內(nèi),支架8與外殼7固定,靠近負透鏡3支架8的中心孔內(nèi)依次固定正膠合透鏡4、正透鏡5和四象限探測器6。
[0012]所述的四象限探測器6并不位于光學系統(tǒng)的焦平面上,而是具有一定的離焦量。探測裝置工作波長是1064nm的激光波段,具有較大視場。窄帶干涉濾光片的帶寬為15nm。
[0013]參看附圖2,光學系統(tǒng)所用材料全部為國產(chǎn)常用材料,包括K9、ZF6或BAK4,同時鍍有1064nm的增透膜,球罩I鍍有憎水層。系統(tǒng)面型均為球面鏡,沒有非球面,有利于降低加
工成本。本發(fā)明的光學設計參數(shù)如下:
[0014]
【權(quán)利要求】
1.一種半主動激光目標探測裝置,其特征在于:包括非成像光學系統(tǒng)和四象限探測器,非成像光學系統(tǒng)包括外殼(7)、球罩(I)、窄帶干涉濾光片(2)、負透鏡(3)、正膠合透鏡(4)和正透鏡(5 ),外殼(7 )的前端中心孔內(nèi)固定球罩(I)和窄帶干涉濾光片(2 ),緊靠窄帶干涉濾光片(2)有負透鏡(3),負透鏡(3)固定在支架(8)的中心孔內(nèi),支架(8)與外殼(7)固定,靠近負透鏡(3)支架(8)的中心孔內(nèi)依次固定正膠合透鏡(4)、正透鏡(5)和四象限探測器(6);四象限探測器的光敏面直徑是10_,四象限探測器并不位于光學系統(tǒng)的焦平面上,而是具有_3mm的離焦量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半主動激光目標探測裝置,其特征在于:所述的窄帶干涉濾光片(2)的帶寬為15nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半主動激光目標探測裝置,其特征在于:所述的光學系統(tǒng)所用材料為K9、ZF6或BAK4,同時鍍有1064nm的增透膜,球罩(I)鍍有憎水層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半主動激光目標探測裝置,其特征在于:光學設計參數(shù)如下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半主動激光目標探測裝置,其特征在于:所述四象限探測器的參數(shù)如下。
【文檔編號】G01S17/06GK103713291SQ201310712361
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年12月20日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月20日
【發(fā)明者】李金俠 申請人:河北漢光重工有限責任公司
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