專利名稱：由背光板構成的痕跡背景照明底板的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種由LED或冷陰極背光板構成的痕跡分析底光光源板， 主要用于刑事、民事痕跡的物證照明，目的用于分析、鑒定及拍攝痕跡，屬痕 跡分析、鑒定器材制造領域。
背景技術：
現(xiàn)有的刑事、民事刑偵時一般將帶痕跡物品放在桌面上或單一顏色的平板 上，進行分析、鑒定、拍照等技術鑒定。照明光源來自于被分析、鑒定、拍照 痕跡的上方，在痕跡物品下面沒有光照，或只是單一的色調(diào)光照明，缺乏襯度 直接影響到痕跡的分析、鑒定及拍照效果。發(fā)明內(nèi)容設計目的避免背景技術的不足之處，將背光板直接轉用于痕跡分析、鑒 定及拍照的底光光源板。設計方案為了實現(xiàn)上述設計目的。1、將LED或冷陰極背光板作為痕跡分析、鑒定及拍照的照明光源，是本實用新型的特征之一。由于LED背光板自 身帶有光源且光源所產(chǎn)生的光通過擴散板能夠使光強均勻分布，且沒有光斑， 因此能夠很好地滿足痕跡分析、鑒定及拍照的需要。2、采用光增強薄膜增強光照效果，是本實用新型的特征之二。光增強薄膜的作用在于能夠將均勻照射到擴散薄膜面上向各個方向的光線循環(huán)利用，從特定的角度射出，達到成倍增強光效的目的。3、發(fā)光源LED (發(fā)光二極管)采用白色或紅、綠、藍、琥珀 色或紅、綠、藍、琥珀色混合布置，目的是通過光控制器不僅能夠有效地控制 底光光源板的亮度，而且還可以通過控制不同顏色LED的發(fā)光強度混光產(chǎn)生所 需的底光光源的色度，從而增加被分析物的襯度。其技術方案由背光板構成 的痕跡背景照明底板，光增強薄膜位于LED背光板中的擴散薄膜上。本實用新型與背景技術相比， 一是采甩背光板作為痕跡分析、鑒定及拍照 的照明光源，開創(chuàng)了痕跡分析、鑒定、拍照領域采用底(下)光源的先河，應光照均勻、亮度及光色調(diào)可調(diào)的特點極大地提高了痕跡分析、鑒定和拍照的水 準；二是攜帶極為方便，可以方便地帶到事發(fā)地現(xiàn)場就地分析、鑒定和拍照， 大大地提高了刑偵和民事鑒定手段。

圖1是由背光板構成的痕跡背景照明底板的剖視結構示意圖。
具體實施方式
實施例1:參照附圖1。由背光板構成的痕跡背景照明底板，痕跡分析底光光源板10采用LED背光板9， LED背光板9 (簡稱背光板)。光增強薄膜2系 現(xiàn)有產(chǎn)品且位于背光板9中的擴散薄膜8上，擴散薄膜8系現(xiàn)有產(chǎn)品，在此不 作敘述。透明保護玻璃1位于光增強薄膜2上，底板4位于反光薄膜5上，反 光薄膜5系現(xiàn)有產(chǎn)品，在此不作敘述。背光板9制作工藝系現(xiàn)有技術且由反光 薄膜5、 LED (發(fā)光二極管)6、導光板7、擴散薄膜8構成，反光薄膜5和擴 散薄膜8分別位于導光板7兩面，LED (發(fā)光二極管)位于導光板7側部?？?架3位于背光板9四周且用于支撐背光板9。 LED (發(fā)光二極管)為白色或紅、 綠、藍、琥珀色或紅、綠、藍、琥珀色混合。實施例2:在實施例1的基礎上，底光光源板電源引線接控制器，該控制 器系現(xiàn)有技術，可以控制LED背光板的亮度及色度。實施例3:在實施例1或2的基礎上，LED發(fā)光二極管采用冷陰極背光熒 光板取代，冷陰極背光熒光板系現(xiàn)有技術，在此不作敘述。需要理解到的是上述實施例雖然對本實用新型作了比較詳細的說明，但 是上述說明，只是對本實用新型的簡單說明，而不是對本實用新型的限制，任 何不超出本實用新型實質精神內(nèi)的發(fā)明創(chuàng)造，均落入本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權利要求1、一種由背光板構成的痕跡背景照明底板，其特征是光增強薄膜(2)位于LED背光板(9)中的擴散薄膜(8)上。
2、 根據(jù)權利要求1所述的由背光板構成的痕跡背景照明底板，其特征是透明 保護玻璃(1)位于光增強薄膜(2)上。
3、 根據(jù)權利要求l所述的由背光板構成的痕跡背景照明底板，其特征是LED 背光板(9)由反光薄膜(5)、 LED (6)、導光板(7)、擴散薄膜(8)構成， 反光薄膜(5)和擴散薄膜(8)分別位于導光板(7)兩面，LED位于導光板(7)側部的體內(nèi)。
4、 根據(jù)權利要求3所述的由背光板構成的痕跡背景照明底板，其特征是LED 背光板(9)的LED采用光控制器控制。
專利摘要本實用新型涉及一種由背光板構成的痕跡分析底光光源板，光增強薄膜位于LED背光板中的擴散薄膜上，LED背光板由反光薄膜、LED、導光板、擴散薄膜構成，反光薄膜和擴散薄膜分別位于導光板兩面，LED位于導光板側部的體內(nèi)。優(yōu)點一是采用背光板作為痕跡分析、鑒定及拍照的照明光源，開創(chuàng)了痕跡分析、鑒定、拍照領域采用底(下)光源的先河，并且具有光照均勻、亮度及光色調(diào)可調(diào)的性能，極大地提高了痕跡分析、鑒定能力和拍照的水準。
文檔編號G01N21/84GK201028459SQ20062017551
公開日2008年2月27日 申請日期2006年12月31日 優(yōu)先權日2006年12月31日
發(fā)明者勇 蔡 申請人:勇 蔡