一種新型密封圈的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及密封圈技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]密封圈一般采用丁腈橡膠、天然橡膠、乙丙橡膠、氟橡膠、硅橡膠以及共混膠制造?，F(xiàn)有技術(shù)的密封圈用于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)密封時(shí)，僅限于低速回轉(zhuǎn)密封裝置，且在旋轉(zhuǎn)摩擦、高溫作用下，密封圈快速失效，破壞其密封性。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型為克服上述現(xiàn)有技術(shù)所述的至少一種缺陷，提供一種新型圈，該密封圈不僅能用于高速回轉(zhuǎn)密封裝置，而且能在長(zhǎng)期高溫環(huán)境下保持密封圈性能或密封圈功會(huì)K。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0005]提供一種新型密封圈，包括包括密封圈本體，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈內(nèi)圓側(cè)，所述密封圈本體設(shè)有密封圈外圓側(cè)，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)之間設(shè)有切口，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)分別設(shè)置有切口間隙，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈頂面?zhèn)?，所述密封圈本體設(shè)有密封圈底面?zhèn)取?br>[0006]所述的一種新型密封圈，其密封圈本體設(shè)有高壓室和背壓室。
[0007]所述的一種新型密封圈，其密封圈本體設(shè)有波形彈性墊圈。
[0008]所述的一種新型密封圈，其密封圈本體設(shè)有密封槽和固定件。
[0009]所述的一種新型密封圈，其密封圈本體設(shè)有回轉(zhuǎn)件。
[0010]所述的一種新型密封圈，其密封圈本體設(shè)置為矩形密封圈。
[0011 ]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0012]本實(shí)用新型，密封圈的形狀為矩形，在軸向切取階梯狀的切口，密封圈安裝后，切口存有一定的間隙。工作中，密封圈的外圓側(cè)以切口向外延伸形成外圓側(cè)密封；同時(shí)，切口間隙也可緩容密封圈的熱膨脹量。
[0013]本實(shí)用新型，密封圈先利用波形彈性墊圈上彈形成端面?zhèn)阮A(yù)密封，再高壓室增壓將密封圈上壓浮形成端面?zhèn)让芊?，則可完成高速回轉(zhuǎn)密封。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型，提供了如下一種矩型密封圈，在工作溫度-40?260°C，工作壓力<5.0MPa，回轉(zhuǎn)速度高達(dá)6000轉(zhuǎn)/分鐘的回轉(zhuǎn)密封裝置，其結(jié)果是能夠保持密封圈性能或密封圈功能。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0016]圖2是本實(shí)用新型的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。其中，附圖僅用于示例性說(shuō)明，表示的僅是示意圖，而非實(shí)物圖，不能理解為對(duì)本專利的限制；為了更好地說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖某些部件會(huì)有省略、放大或縮小，并不代表實(shí)際產(chǎn)品的尺寸;對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，附圖中某些公知結(jié)構(gòu)及其說(shuō)明可能省略是可以理解的。
[0018]在本實(shí)用新型中，除非另有規(guī)定或者限定，需要說(shuō)明的是，若有“安裝”、“連接”、“相連”等術(shù)語(yǔ)應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機(jī)械連接或者電連接或者氣路連接，也可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通，可以是直接連接，也可以是通過(guò)中間媒介間接相連，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)的具體含義。
[0019]如圖1和圖2所示，一種新型密封圈，包括包括密封圈本體I，所述密封圈本體I設(shè)置有密封圈內(nèi)圓，1 2，所述密封圈本體I設(shè)有密封圈外圓側(cè)103，所述密封圈內(nèi)圓，102與密封圈外圓側(cè)1 3之間設(shè)有切口 106，所述密封圈內(nèi)圓，1 2與密封圈外圓側(cè)1 3分別設(shè)置有切口間隙1I，所述密封圈本體I設(shè)置有密封圈頂面?zhèn)?04，所述密封圈本體I設(shè)置有密封圈底面?zhèn)?05。所述密封圈本體I設(shè)有高壓室5和背壓室6。所述密封圈本體I設(shè)有波形彈性墊圈2。所述密封圈本體I設(shè)有密封槽7和固定件3。所述密封圈本體I設(shè)有回轉(zhuǎn)件4。所述密封圈本體I設(shè)置為矩形密封圈。
[0020]密封圈的安裝:在圖2中，先將波形彈性墊圈2裝于固定件3的密封槽7，再裝密封圈I于密封槽7，然后裝回轉(zhuǎn)件4壓著密封圈I。
[0021]密封圈的工作:在圖2中，高壓室5增壓前，波形彈性墊圈2將密封圈I彈起，使頂面?zhèn)纱?4與回轉(zhuǎn)體4相貼，形成預(yù)密封。當(dāng)高壓室5增壓時(shí)，如圖1所示，密封圈I的內(nèi)圓側(cè)102受壓，切口間隙106向外延伸，使外圓側(cè)103與固定件3緊貼形成外圓側(cè)密封;密封圈I的底面?zhèn)?05受壓上浮，使頂面?zhèn)?04與回轉(zhuǎn)件4緊貼形成頂面?zhèn)让芊?；以形成高速回轉(zhuǎn)的密封圈性能或密封圈功能。
[0022]本實(shí)用新型，密封圈的材料采用新型的聚合物材料。該材料的化學(xué)成份含有聚四氟乙烯(85%)、氧化鐵(8%)、玻纖粉(12%)，邵氏硬度HD50?55，耐磨性(磨擦系數(shù)/磨損數(shù):
0.038g，測(cè)驗(yàn)方法:樣品作為上式樣，60號(hào)氧化鋁紗布為下式樣，做往復(fù)摩擦，載荷10N，速度1001111]1/8，時(shí)間71]1；[11)，線性熱膨脹系數(shù)8.3\10—5/°(3(30?150°0，保證密封圈的耐高溫耐磨損性能。
[0023]顯然，本實(shí)用新型的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型所作的舉例，而并非是對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種新型密封圈，包括包括密封圈本體，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈內(nèi)圓側(cè)，所述密封圈本體設(shè)有密封圈外圓側(cè)，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)之間設(shè)有切口，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)分別設(shè)置有切口間隙，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈頂面?zhèn)?，所述密封圈本體設(shè)有密封圈底面?zhèn)取?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型密封圈，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)有高壓室和背壓室。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型密封圈，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)有波形彈性墊圈。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型密封圈，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)有密封槽和固定件。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型密封圈，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)有回轉(zhuǎn)件。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型密封圈，其特征在于，所述密封圈本體設(shè)置為矩形密封圈。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及密封圈技術(shù)領(lǐng)域，一種新型密封圈，包括密封圈本體，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈內(nèi)圓側(cè)，所述密封圈本體設(shè)有密封圈外圓側(cè)，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)之間設(shè)有切口，所述密封圈內(nèi)圓側(cè)與密封圈外圓側(cè)分別設(shè)置有切口間隙，所述密封圈本體設(shè)置有密封圈頂面?zhèn)?，所述密封圈本體設(shè)有密封圈底面?zhèn)?。該密封圈不僅能用于高速回轉(zhuǎn)密封裝置，而且能在長(zhǎng)期高溫環(huán)境下保持密封圈性能或密封圈功能。
【IPC分類】F16J15/18
【公開(kāi)號(hào)】CN205173478
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520955301
【發(fā)明人】陳永光
【申請(qǐng)人】廣州派莎克流體設(shè)備技術(shù)有限公司
【公開(kāi)日】2016年4月20日
【申請(qǐng)日】2015年11月26日