一種原膜基材的清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及薄膜生產(chǎn)領域，尤其涉及一種原膜基材的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，PET廣泛運用在光學產(chǎn)品上，對基膜的潔凈度要求非常高。由于很難保證基膜的生產(chǎn)環(huán)境完全無塵以及基膜完全無靜電，故基膜在生產(chǎn)過程中，多多少少會吸附一些顆粒，另一方面在Β0ΡΕΤ基膜生產(chǎn)過程中由于高溫作用所產(chǎn)生的低分子量物質(zhì)易在膜面形成低聚物，基膜表面吸附的這些物質(zhì)會影響到后續(xù)加工工序，產(chǎn)生產(chǎn)品質(zhì)量問題，造成合格率低下，增加了產(chǎn)品成本，若沒及時發(fā)現(xiàn)問題則會影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0003]上述問題無法在PET生產(chǎn)線上得到完全解決，有公司采用觸媒的方式進行處理，但技術(shù)保密且成本昂貴。目前主要采用的是離線處理技術(shù)，大體分為三種方式:1、粘塵輥技術(shù):利用膠輥吸附細小粉塵的特點處理，但無法材料基膜表面幾個微米以下大小的粉塵；
2、超聲波技術(shù):利用超聲波振動，然后利用潔凈空氣排除，同樣無法處理小顆粒粉塵；3、光學處理方式:利用光學原理分解小分子成分的雜物，但無法分解顆粒稍大的粉塵，并且分解有一定局限性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種原膜基材的清洗裝置，以解決現(xiàn)有基膜生產(chǎn)中顆粒和低聚物影響后工序加工質(zhì)量的問題。
[0005]為了實現(xiàn)上述的目的，采用如下的技術(shù)方案。一種原膜基材的清洗裝置，包括清洗機和烘干機，所述烘干機設置在清洗機之后，所述清洗機包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構(gòu)，所述溶劑槽包括內(nèi)槽和外槽，所述內(nèi)槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內(nèi)槽壁，所述清洗輥為PVA海綿輥，下部浸泡在內(nèi)槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構(gòu)包括依次連接的入口、濾芯、水栗和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內(nèi)槽里。所述清洗輥為PVA海綿輥，下部吸取清洗溶劑，然后轉(zhuǎn)動到上部清洗原膜基材，清洗后將顆粒帶到清洗溶劑液面上。由于水栗的工作，內(nèi)槽的液面上升，顆粒隨著清洗溶劑流向外槽，由外槽底部進入過濾機構(gòu)被濾芯過濾，過濾后的清洗溶劑又通過水栗返回到內(nèi)槽里。而原膜基材經(jīng)過清洗后，進入烘干機進行烘干，避免殘留的清洗溶劑影響后續(xù)的電暈、上膠、復合等工作。PVA海綿輥吸取清洗溶劑的能力強，耐酸性堿性，有助于提高清洗效果。
[0006]所述清洗機還包括擠壓輥，所述擠壓輥設置在內(nèi)槽上方并與清洗輥接觸，接觸位置位于清洗輥轉(zhuǎn)出清洗溶劑之后、接觸原膜基材之前。擠壓輥主要用于擠出清洗輥表面過量的清洗溶劑，可調(diào)節(jié)對清洗輥的壓力。
[0007]所述清洗機還包括擦拭輥，所述擦拭輥設置在外槽的清洗溶劑液面上方，位于清洗輥之后，上部與原膜基材接觸。擦拭輥負責吸收清洗后殘留在基材表面的較大量清洗溶劑，可對擦拭輥輥芯施加一定的負壓，使得擦拭輥外表面的溶劑可以滲透入輥芯，保持擦拭輥的干燥效率。
[0008]所述擦拭輥為PVA海綿輥，有助于提高擦干效果，回收清洗溶劑。
[0009]所述過濾機構(gòu)的出口設置在清洗輥附近并對準清洗輥，此時出口除了將過濾后的清洗溶劑排入內(nèi)槽，還能借助水栗的沖力對清洗輥表面進行沖洗，有助于將粘在清洗輥表面的顆粒沖洗下來。
[0010]所述烘干機包括上風機和下風機，分別位于原膜基材的上方和下方并對準原膜基材。上下風機吹出熱風，下風機主要負責干燥原膜基材，上風機主要負責給原膜基材上方施加一定壓力，與下風機相對的上風機用于與下風機對抗，防止原膜基材在烘干機內(nèi)的張力異常，與導輥相對的上風機則用于使原膜基材貼合導輥表面，防止擦傷。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理，利用PVA海綿輥對原膜基材進行清洗，又利用內(nèi)外槽與過濾機構(gòu)配合使清洗溶劑保持清潔，不但可清除原膜基材上的大小粉塵，而且可處理原膜基材表面析出的小分子成分，同時還能降低原膜基材內(nèi)部的靜電，避免對后續(xù)工序的影響，減少質(zhì)量冋題的廣生，節(jié)約成本，將廣品成品率提尚8%以上，確保尚檔廣品品質(zhì)。
【附圖說明】
[0012]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步的描述。
[0014]本發(fā)明的結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括清洗機和烘干機6，烘干機6設置在清洗機之后。清洗機包括溶劑槽1、清洗輥2和過濾機構(gòu)3。溶劑槽1包括內(nèi)槽11和外槽12，內(nèi)槽11盛滿清洗溶劑，外槽12里的清洗溶劑液面低于內(nèi)槽11壁，清洗輥2采用PVA海綿輥，下部浸泡在內(nèi)槽11的清洗溶劑里。過濾機構(gòu)3包括入口 31、濾芯32、水栗33和出口 34，入口 31連接外槽12底部，出口 34設置在內(nèi)槽11里。烘干機6包括上風機61和下風機62。
[0015]工作時，清洗輥2下部吸取清洗溶劑，經(jīng)過擠壓輥4擠壓掉過多的清洗溶劑后轉(zhuǎn)動到上部，原膜基材8在多個導輥7的作用下傳動，與清洗輥2接觸時被清洗，然后經(jīng)過擦拭輥5吸干殘留的大部分清洗溶劑，還有殘留的清洗溶劑會在進入烘干機6內(nèi)被下風機62的熱風吹干，完成整個清洗過程。
【主權(quán)項】
1.一種原膜基材的清洗裝置，其特征在于，包括清洗機和烘干機，所述烘干機設置在清洗機之后，所述清洗機包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構(gòu)，所述溶劑槽包括內(nèi)槽和外槽，所述內(nèi)槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內(nèi)槽壁，所述清洗輥為PVA海綿輥，下部浸泡在內(nèi)槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構(gòu)包括依次連接的入口、濾芯、水栗和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內(nèi)槽里。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗機還包括擠壓輥，所述擠壓輥設置在內(nèi)槽上方并與清洗輥接觸，接觸位置位于清洗輥轉(zhuǎn)出清洗溶劑之后、接觸原膜基材之前。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗機還包括擦拭輥，所述擦拭輥設置在外槽的清洗溶劑液面上方，位于清洗輥之后，上部與原膜基材接觸。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗裝置，其特征在于，所述擦拭輥為PVA海綿輥。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述過濾機構(gòu)的出口設置在清洗輥附近并對準清洗輥。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述烘干機包括上風機和下風機，分別位于原膜基材的上方和下方并對準原膜基材。
【專利摘要】本發(fā)明涉及薄膜生產(chǎn)領域，尤其涉及一種原膜基材的清洗裝置，包括清洗機和烘干機，所述烘干機設置在清洗機之后，所述清洗機包括溶劑槽、清洗輥和過濾機構(gòu)，所述溶劑槽包括內(nèi)槽和外槽，所述內(nèi)槽盛滿清洗溶劑，所述外槽里的清洗溶劑液面低于內(nèi)槽壁，所述清洗輥為PVA海綿輥，下部浸泡在內(nèi)槽的清洗溶劑里，上部與原膜基材接觸，所述過濾機構(gòu)包括依次連接的入口、濾芯、水泵和出口，所述入口連接外槽底部，所述出口設置在內(nèi)槽里。本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理，不但可清除原膜基材上的大小粉塵，而且可處理原膜基材表面析出的小分子成分，同時還能降低原膜基材內(nèi)部的靜電，避免對后續(xù)工序的影響，減少質(zhì)量問題的產(chǎn)生，節(jié)約成本，確保高檔產(chǎn)品品質(zhì)。
【IPC分類】B01D65/02
【公開號】CN105413474
【申請?zhí)枴緾N201510932181
【發(fā)明人】尹峰, 劉煜純, 謝慶堅, 陳宏
【申請人】廣東可逸智膜科技有限公司
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年12月15日