專利名稱：再絮凝斜板、管沉淀裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及水處理設(shè)備類，特別涉及一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，尤指一種 使剩余的細小絮體之間再發(fā)生碰撞，絮凝生成大的絮凝顆粒，從而被清除的再絮凝斜板、管 沉淀裝置。
背景技術(shù)：
自二十世紀六十年代以來，斜板、管沉淀裝置作為一種固液分離技術(shù)廣泛應(yīng)用于 水處理技術(shù)中。如附圖1所示，為已有上向流斜板、管沉淀池組成結(jié)構(gòu)示意圖，由圖中看出， 其由斜板、管沉淀裝置1、集水槽2、絮凝池3、穿孔配水墻4、排池管5、支架6和出水管7組 成。其工作原理是來自于水源投藥后的水在絮凝池3里凝聚成顆粒后，經(jīng)由穿孔配水墻4 進入斜板、管沉淀裝置1的底部，斜板、管沉淀裝置1安裝在沉淀池底面的支架6上，水流由 沉淀裝置1的下部向上流穿過斜板、管沉淀裝置1，使大的絮凝顆粒沉淀到沉淀裝置1斜板、 管的斜面上，并滑落到池底而被去除。經(jīng)過去除污泥顆粒后的水經(jīng)集水槽2，由出水管7被 輸送到下部處理工序。已有斜板、管沉淀裝置1的結(jié)構(gòu)如附圖2和附圖3所示，其由若干長度為L的斜 板或斜管11所組成，其斜板、管和水平面構(gòu)成了 (2夾角，其尺寸L 一般在700 1200毫米 之間，傾角<2 —般在50-60度之間。已有的斜板、管沉淀裝置有兩種型式，一種如附圖2所 示，為現(xiàn)有斜板沉淀裝置1的示意圖，其是由若干片長度為L、與水平面構(gòu)成傾角<2的斜板 構(gòu)成；另一種如附圖3所示，為現(xiàn)有斜管裝置Ia示意圖，斜管沉淀裝置Ia的本體1由若干 根的長度為L、與水平面構(gòu)成一定角度的斜管構(gòu)成。待處理的水沿進水方向從每斜板、管11 或Ia的下部向上流入沉淀裝置。斜板、管沉淀裝置的工作原理如附圖4所示，斜板、管沉淀裝置1，待處理的水沿水 流方向A向上流進入沉淀裝置，水中較大的顆粒，亦即沉淀的污泥等雜質(zhì)D在重力作用下， 沿著污泥下滑方向C逐漸沉于斜板、管11的表面下滑，落入池底；而一些細小的顆粒隨水流 上升方向B流出斜板、管，而不能沉淀，形成剩余濁度。和平流沉淀池相比，斜板、管沉淀裝置改善了水力條件，增大了沉淀面積，故具有 沉淀效率高、占地面積小的特點。但是此種裝置仍然存在不能完全沉淀，而存在剩余濁度的 問題。有人曾試驗想通過增加斜板、管的長度L的方法來提高沉淀的效率和出水質(zhì)量，但效 果不明顯。分析其原因，是斜板、管中的流體在上升一段距離后，慢慢變成穩(wěn)定的流態(tài)，大顆 粒沉淀后，水中剩余的細小的絮體由于體積小、重量輕，被穩(wěn)定的水流攜帶很難沉淀去除， 所以即使增加斜板、管的長度L效果也不明顯。上述已有斜板、管沉淀裝置存在的問題需要進一步加以改進。

實用新型內(nèi)容為了解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，以 使剩余的細小絮體之間再發(fā)生碰撞，絮凝生成大的絮凝顆粒，從而被清除。[0008]本實用新型在已有結(jié)構(gòu)的斜板、管沉淀裝置上加設(shè)污泥回流孔和擾流板、柱，而使 該裝置從下至上按不同作用和功能形成四個區(qū)域初沉區(qū)I、二沉區(qū)II、擾流區(qū)III和三沉 區(qū)IV，其工作原理為在絮凝池凝聚成顆粒的水從底部進入再絮凝斜板、管沉淀裝置，較大 的顆粒在初沉區(qū)就能沉淀到斜面并沿斜面下滑而被去除；較小的顆粒隨水流一起上升，經(jīng) 擾流板、柱使流體形成多個漩流，使初沉區(qū)未沉淀的小絮體發(fā)生碰撞，再絮凝形成較大絮體 顆粒在三沉區(qū)沉淀；三沉區(qū)沉淀后的污泥沿斜板、管下滑到污泥回流孔落入下一層沉淀區(qū)， 在二沉區(qū)發(fā)生沉淀；同時從污泥回流孔落入下一層沉淀區(qū)的污泥在下落過程中與本層的未 沉淀的絮體又發(fā)生碰撞，再絮凝形成大的顆粒被去除。再絮凝斜板、管沉淀裝置的構(gòu)成如下在每片斜板、管沉淀斜面的適當位置交錯開設(shè)一到三排污泥回流孔；在回流孔的 上方加設(shè)二到五排擾流板、柱；根據(jù)水體實際情況和要求，采用單獨開設(shè)污泥回流孔或單獨加設(shè)擾流板、柱的結(jié) 構(gòu)形式；根據(jù)水體實際情況和要求，設(shè)計加工成多組擾流板和多組擾流柱的結(jié)構(gòu)形式；在每片斜板斜面交錯開設(shè)一到三排污泥回流孔；在回流孔的上方加設(shè)一到五排擾 流板、柱。污泥回流孔可為多種形狀圓形、橢圓形、方形或長方形。采用同樣的方法采用側(cè)向流的水流方式，構(gòu)成另一再絮凝斜板沉淀裝置，亦即待 處理的水沿水平方向以側(cè)向流的水流方式移動，在其再絮凝沉淀裝置每片斜板上的適當位 置開設(shè)污泥回流孔和加設(shè)擾流板、柱，構(gòu)成再絮凝斜板沉淀裝置側(cè)向流的結(jié)構(gòu)形式，與上述 上向流再絮凝斜板沉淀裝置的原理相同，同樣達到提高沉淀效率和提高出水質(zhì)量的效果。本實用新型的優(yōu)點在于在斜板內(nèi)部，通過污泥回流和加設(shè)擾流板、柱的方法，使 原來在斜板、管中不易沉淀的細小絮體發(fā)生再絮凝而沉淀，提高了沉淀效率，提高了出水質(zhì) 量，它賦予斜板、管沉淀裝置新的作用和內(nèi)涵，是斜板、管沉淀裝置創(chuàng)造性的改進。

圖1為已有上向流絮凝斜板、管沉淀池裝置示意圖。圖2為已有斜板沉淀裝置的示意圖。圖3為已有斜管沉淀裝置示意圖。圖4為已有的斜板、管沉淀裝置原理示意圖。圖5為本實用新型斜板沉淀裝置原理示意圖。圖6為本實用新型斜板沉淀裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7為本實用新型斜管沉淀裝置的結(jié)構(gòu)示意圖圖8為再絮凝斜板沉淀裝置側(cè)向流的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
如附圖5至附圖7所示，并參見附圖1，在再絮凝斜板沉淀裝置1的每片斜板11斜 面的適當位置交錯開設(shè)孔徑15毫米的二排污泥回流孔13，并在回流孔13的上方加設(shè)三排 擾流板12，多件斜板11采用角鋼14固定在用于支撐再絮凝斜板、管沉淀裝置的支架6上，多片斜板采用連接板15連接成整體裝置1。如附圖7所示，由斜管組成的再絮凝斜管沉淀 裝置la，由多根斜管Ila組成，在每根斜管Ila的適當位置交錯開設(shè)孔徑為20毫米的一排 污泥回流孔13a，并在回流孔13a的上方加設(shè)三排擾流柱12a，并使多根斜管組成的再絮凝 斜管沉淀裝置Ia通過角鋼14a固定在支撐該裝置的支架6上。再絮凝斜板沉淀裝置從下至上的上向流水流方式，按不同作用和功能如附圖5 所示分成四個沉淀區(qū)初沉區(qū)I、二沉區(qū)II、擾流區(qū)III、三沉區(qū)IV。在絮凝池凝聚成微小顆 粒的水從斜板、管底部沿進水方向A進入再絮凝斜板、管沉淀裝置1或la，較大的顆粒D沿 水流方向C在初沉區(qū)I就能沉淀到斜面而被去除；較小的顆粒隨水流一起上升，經(jīng)擾流板 12或12a使流體形成多個漩流，使初沉區(qū)未沉淀的小絮體在擾流區(qū)III發(fā)生碰撞，再絮凝形 成較大絮體在三沉區(qū)IV沉淀，在三沉區(qū)沉淀后的污泥沿斜板下滑到污泥回流孔13或13a 落入下一層沉淀區(qū)，在二沉區(qū)發(fā)生沉淀被去除；同時從污泥回流孔落入下一層沉淀區(qū)的污 泥在下落過程中與本層的未沉淀的絮體又發(fā)生碰撞，絮凝形成大的絮凝顆粒被去除，再絮 凝后的水沿水流方向B流出該裝置進入下步處理程序。在每片斜板11斜面交錯開設(shè)一到三排污泥回流孔13 ；在回流孔的上方加設(shè)一到 五排擾流板、柱12。如附圖8所示，并參見附圖1，再絮凝斜板沉淀裝置的側(cè)向流水流方式的結(jié)構(gòu)示意 圖，再絮凝斜板沉淀裝置Ib的每片斜板lib斜面長度方向的適當位置交錯開設(shè)孔徑為15 毫米的多個污泥回流孔13b，并在回流孔13b的上方加設(shè)三排擾流板12b，多件斜板12b采 用角鋼14b固定在用于支撐再絮凝斜板沉淀裝置的支架6上，并構(gòu)成整體裝置lb。待處理 的水沿水平的進水方向A進入數(shù)個斜板構(gòu)成的再絮凝斜板沉淀裝置，并沿出水方向B流出 該裝置。再絮凝斜板沉淀裝置的側(cè)向流的水流方式，在絮凝池凝聚成微小顆粒的水從斜板 水平方向A進入由數(shù)個斜板構(gòu)成的再絮凝斜板沉淀裝置lb，較大的顆粒在流經(jīng)擾流板12b 前就能逐步沉淀到斜板的斜面而被去除；較小的顆粒隨水流一起水平移動，經(jīng)擾流板12b 使流體形成多個漩流，使未沉淀的小絮體在擾流板12b處發(fā)生碰撞，再絮凝形成較大絮體 顆粒沉淀；沉淀后的污泥沿斜板下滑到多個污泥回流孔13b被去除；同時未完全沉淀的微 小顆粒從一污泥回流孔流入前方下一污泥回流孔，并在在下落過程中與本處的未沉淀的絮 體又發(fā)生碰撞，絮凝形成大的絮凝顆粒被去除。
權(quán)利要求一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，其特征在于在已有的斜板、管沉淀裝置上加設(shè)污泥回流孔(13)和擾流板、柱(12)，而使該裝置從下至上按不同作用和功能形成四個區(qū)域初沉區(qū)I、二沉區(qū)II、擾流區(qū)III和三沉區(qū)IV。
2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，其特征在于在每片斜板、管(11)沉淀斜面交錯開設(shè)一到三排污泥回流孔(13)；在回流孔(13)的上方加設(shè)二到五排擾 流板、柱(12)。
3.依據(jù)權(quán)利要求2所述的一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，其特征在于擾流板、柱(12) 為多組結(jié)構(gòu)形式。
4.依據(jù)權(quán)利要求2所述的一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，其特征在于污泥回流孔(13) 可為多種形狀圓形、橢圓形、正方形或長方形。
5.一種再絮凝斜板沉淀裝置，其特征在于在其側(cè)向流再絮凝斜板沉淀裝置斜板上開 設(shè)污泥回流孔(13)和加設(shè)擾流板、柱(12)。
6.依據(jù)權(quán)利要求5所述的一種再絮凝斜板沉淀裝置，其特征在于在每片斜板斜面交 錯開設(shè)一到三排污泥回流孔(13)；在回流孔的上方加設(shè)一到五排擾流板、柱(12)。
7.依據(jù)權(quán)利要求5所述的一種再絮凝斜板沉淀裝置，其特征在于擾流板和擾流柱(12)為多組結(jié)構(gòu)型式。
8.依據(jù)權(quán)利要求5所述的一種再絮凝斜板沉淀裝置，其特征在于污泥回流孔(13)可 為多種形狀圓形、橢圓形、方形或長方形。
專利摘要一種再絮凝斜板、管沉淀裝置，屬于水處理設(shè)備類。本實用新型是在已有結(jié)構(gòu)的斜板、管裝置上加設(shè)污泥回流孔和擾流板、柱，而使該裝置從下至上或水平的水流方向按不同作用和功能形成四個區(qū)域初沉區(qū)、二沉區(qū)、擾流區(qū)、三沉區(qū)，其工作原理為在反應(yīng)池絮凝后的水從斜板、管底部或側(cè)部進入再絮凝斜板、管裝置，較大的顆粒在初沉區(qū)就能沉淀到斜面而被去除；較小的顆粒落入下一層沉淀區(qū)的污泥在下落過程中與本層的未沉淀的絮體又發(fā)生碰撞，絮凝形成大的絮凝顆粒被去除。使原來在斜板、管中不易沉淀的細小絮體發(fā)生再絮凝而沉淀，提高了沉淀效率，提高了出水質(zhì)量。
文檔編號B01D21/08GK201684443SQ20102004260
公開日2010年12月29日 申請日期2010年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月5日
發(fā)明者田德勇 申請人:廖一;田德勇