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一種用于絕緣材料的雙面電暈機的制作方法

文檔序號:9988947閱讀:511來源:國知局
一種用于絕緣材料的雙面電暈機的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用于絕緣材料的雙面電暈機。
【背景技術】
[0002]在制作絕緣材料時,電暈機是必不可少的一個設備。電暈處理是一種電擊處理,它使承印物的表面具有更高的附著性。其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表面電暈放電(高頻電流電壓高達5000— 15000V/m2),而產(chǎn)生低溫等離子體,使塑料表面產(chǎn)生游離基反應而使聚合物發(fā)生交聯(lián),表面變粗糙并增加其對極性溶劑的濕潤性,這些離子體由電擊和滲透進入被印體的表面破壞其分子結構,進而將被處理的表面分子氧化和極化,離子電擊侵蝕表面,以致增加承印物表面的附著能力。
[0003]但是現(xiàn)有的電暈機均采用的是單面電暈,只能增加絕緣材料一面的附著能力,降低了絕緣材料的附著效果,效率低,而且傳統(tǒng)的電暈機在電暈的過程中采用的是單極、雙極放電,其產(chǎn)生的低溫等離子濃度不夠、分布不夠均勻,達不到預期的電暈效果。另外電暈機的臺面在電暈的過程中容易產(chǎn)生過熱變形的情況,造成絕緣材料產(chǎn)生不良品,增加生產(chǎn)成本。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型主要解決現(xiàn)有技術所存在的技術缺陷及技術問題,從而提供一種結構簡單,效率高,電暈效果好,成本低和可實現(xiàn)雙面電暈的用于絕緣材料的雙面電暈機。
[0005]本實用新型是一種用于絕緣材料的雙面電暈機,包括機架、電暈箱、送料輥、收料輥和壓膜輥,所述電暈箱設置在機架的上方,所述電暈箱的底端設置有臺面,所述臺面內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),所述電暈箱內(nèi)設置有第一托輥和第二托輥,所述第一托輥的上方設置有正面放電極,所述第二托輥的下方設置有背面放電極,所述正面放電極和背面放電極均呈散熱片狀,所述正面放電極和背面放電極為多片均勻設置,所述送料輥設置在機架的一側(cè),所述收料輥設置在機架的另一側(cè),所述壓膜輥包括兩個,分別設置在送料輥與電暈箱之間和收料輥與電暈箱之間。
[0006]作為優(yōu)選,所述電暈箱的上端設置有排氣管,用于排出電暈過程中產(chǎn)生的毒氣。
[0007]作為優(yōu)選,所述壓膜輥的上端設置有高度調(diào)節(jié)旋鈕,用于調(diào)節(jié)壓膜輥的高度。
[0008]作為優(yōu)選,所述冷卻系統(tǒng)包括冷卻管道和風扇,所述冷卻管道內(nèi)設置有冷卻液,可以達到冷卻臺面的作用,另外也可以利用風扇促進毒氣的排出。
[0009]本實用新型的有益效果是:本實用新型所述的用于絕緣材料的雙面電暈機,由于正面放電極和背面放電極均是采用多個呈散熱片狀分布的電極,可以達到多極放電的目的,使低溫等離子體濃度高,分布均勻,提高電暈效果;由于本實用新型所述的電暈機同時采用兩個放電極,可以一次實現(xiàn)絕緣材料的雙面電暈,增加了絕緣材料的附著能力,提高了電暈效率;由于臺面內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),可以避免臺面因高溫而產(chǎn)生變形的情況,減少絕緣材料在電暈過程中產(chǎn)生不良品的幾率,降低生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0010]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0011]圖1為本實用新型一種用于絕緣材料的雙面電暈機的結構圖。
[0012]圖2為本實用新型一種用于絕緣材料的雙面電暈機的冷卻系統(tǒng)結構圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型的優(yōu)選實施例進行詳細闡述,以使本實用新型的優(yōu)點和特征能更易于被本領域技術人員理解,從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0014]如圖1和圖2所示的一種用于絕緣材料的雙面電暈機,包括機架1、電暈箱2、送料輥3、收料輥4和壓膜輥5,所述電暈箱2設置在機架I的上方,所述電暈箱2的底端設置有臺面6,所述臺面6內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),所述電暈箱2內(nèi)設置有第一托輥7和第二托輥8,所述第一托輥7的上方設置有正面放電極9,所述第二托輥8的下方設置有背面放電極10,所述正面放電極9和背面放電極10均呈散熱片狀,所述正面放電極9和背面放電極10為多片均勻設置,所述送料輥3設置在機架I的一側(cè),所述收料輥4設置在機架I的另一側(cè),所述壓膜輥5包括兩個,分別設置在送料輥3與電暈箱2之間和收料輥4與電暈箱2之間。
[0015]所述電暈箱2的上端設置有排氣管11,用于排出電暈過程中產(chǎn)生的毒氣。
[0016]所述壓膜輥5的上端設置有高度調(diào)節(jié)旋鈕12,用于調(diào)節(jié)壓膜輥5的高度。
[0017]所述冷卻系統(tǒng)包括冷卻管道13和風扇14,所述冷卻管道13內(nèi)設置有冷卻液,可以達到冷卻臺面6的作用,另外也可以利用風扇14促進毒氣的排出。
[0018]本實用新型所述的電暈機,在對絕緣材料進行電暈處理的過程中,將絕緣材料從送料輥3輸入,經(jīng)過壓膜輥5到達第一托輥7,通過第一托輥7時,正面放電極9對其正面進行電暈處理,然后進入第二托輥8,經(jīng)過第二托輥8時,背面放電極10對其背面進行電暈處理,正面放電極9和背面放電極10均是采用多極放電的原理,可以增加低溫等離子體的濃度,并且分布均勻,提高電暈的效果,最后電暈過的絕緣材料再經(jīng)過壓膜輥5和收料輥4輸出,壓膜輥5上的高度調(diào)節(jié)旋鈕12可以調(diào)節(jié)壓膜輥5的高度,以達到更好的輸入輸出絕緣材料,排氣管11可以排出電暈過程中產(chǎn)生的有害氣體,保證使用者的安全。冷卻系統(tǒng)包括充滿冷卻液的冷卻管道13和多個風扇14,可以快速的給臺面6降溫,避免高溫使臺面6長生變形,影響電暈的效果。
[0019]本實用新型的有益效果是:本實用新型所述的用于絕緣材料的雙面電暈機,由于正面放電極和背面放電極均是采用多個呈散熱片狀分布的電極,可以達到多極放電的目的,使低溫等離子體濃度高,分布均勻,提高電暈效果;由于本實用新型所述的電暈機同時采用兩個放電極,可以一次實現(xiàn)絕緣材料的雙面電暈,增加了絕緣材料的附著能力,提高了電暈效率;由于臺面內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),可以避免臺面因高溫而產(chǎn)生變形的情況,減少絕緣材料在電暈過程中產(chǎn)生不良品的幾率,降低生產(chǎn)成本。
[0020]以上所述,僅為本實用新型的【具體實施方式】,但本實用新型的保護范圍并不局限于此,任何不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動想到的變化或替換,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此,本實用新型的保護范圍應該以權利要求書所限定的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種用于絕緣材料的雙面電暈機,其特征在于:包括機架(I)、電暈箱(2)、送料輥(3 )、收料輥(4)和壓膜輥(5 ),所述電暈箱(2 )設置在機架(I)的上方,所述電暈箱(2 )的底端設置有臺面(6),所述臺面(6)內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),所述電暈箱(2)內(nèi)設置有第一托輥(7)和第二托輥(8),所述第一托輥(7)的上方設置有正面放電極(9),所述第二托輥(8)的下方設置有背面放電極(10),所述正面放電極(9)和背面放電極(10)均呈散熱片狀,所述正面放電極(9)和背面放電極(10)為多片均勻設置,所述送料輥(3)設置在機架(I)的一側(cè),所述收料輥(4 )設置在機架(I)的另一側(cè),所述壓膜輥(5 )包括兩個,分別設置在送料輥(3)與電暈箱(2)之間和收料輥(4)與電暈箱(2)之間。2.根據(jù)權利要求1所述的一種用于絕緣材料的雙面電暈機,其特征在于:所述電暈箱(2)的上端設置有排氣管(11)。3.根據(jù)權利要求1所述的一種用于絕緣材料的雙面電暈機,其特征在于:所述壓膜輥(5)的上端設置有高度調(diào)節(jié)旋鈕(12)。4.根據(jù)權利要求1所述的一種用于絕緣材料的雙面電暈機,其特征在于:所述冷卻系統(tǒng)包括冷卻管道(13)和風扇(14),所述冷卻管道(13)內(nèi)設置有冷卻液。
【專利摘要】本實用新型涉及一種用于絕緣材料的雙面電暈機,包括機架、電暈箱、送料輥、收料輥和壓膜輥,所述電暈箱設置在機架的上方,所述電暈箱的底端設置有臺面,所述臺面內(nèi)部設置有冷卻系統(tǒng),所述電暈箱內(nèi)設置有第一托輥和第二托輥,所述第一托輥的上方設置有正面放電極,所述第二托輥的下方設置有背面放電極,所述送料輥設置在機架的一側(cè),所述收料輥設置在機架的另一側(cè),所述壓膜輥包括兩個,分別設置在送料輥與電暈箱和收料輥與電暈箱之間。本實用新型結構簡單,利用臺面內(nèi)部設置的冷卻裝置可以提高散熱功能,防止臺面在電暈的過程中產(chǎn)生變形,多電極的放電,使等離子濃度高,分布均勻,電暈效果好,并且能夠一次完成雙面電暈的效果。
【IPC分類】C08J7/12
【公開號】CN204897802
【申請?zhí)枴緾N201520529847
【發(fā)明人】閭傳臚, 王金俊
【申請人】南通中菱絕緣材料有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年7月21日
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