專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻法的半導體微型制造的光致抗蝕劑組合物含有酸生成劑，該酸生成 劑包含通過輻照產(chǎn)生酸的化合物。US 2003/0194639A1公開了一種包含2，6_ 二異丙基苯胺或氫氧化四丁基銨的光 致抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及下列內(nèi)容<1> 一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(Cl)表示的化合物
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(Cl)表示的化合物
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rc"是由式(2)表示的基團 -CH2-Rc6 (2)其中Re6表示具有一個或多個取代基的C6-C18芳族烴基，并且所述取代基中的至少一 個是吸電子基團。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述吸電子基團是硝基。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rc"是硝基苯基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中Rcl是由式(1-1)，(1-2)或(1-3) 表示的基團
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述由式(Cl)表示的化合物是由式 (Cl-1-1)，(Cl-2-1)，(Cl-2-2)，(C1-2-3)或(C1-3-1)表示的化合物
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂在堿水溶液中不溶或難 溶，但是通過酸的作用變得在堿水溶液中可溶。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂，酸生成劑和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一個或多個取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基團，在式(1)中，Rc3和Rc4各自獨立地表示氫原子或直鏈，支鏈或環(huán)狀C1-C12脂族烴基，Rc5表示C1-C30二價有機基團，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此結(jié)合以與Rc3和Rc4或Rc5結(jié)合的氮原子一起形成環(huán)。
文檔編號C08F222/14GK101995769SQ20101024739
公開日2011年3月30日 申請日期2010年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月11日
發(fā)明者增山達郎, 畑光宏 申請人:住友化學株式會社