一種高折射率室溫離子液體的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種高折射率室溫離子液體，結(jié)構(gòu)式如下：其中，R取代基為至少含有一個(gè)羥基或者烷氧基的有機(jī)官能團(tuán)；n＝1-3；陰離子X-為Br-或I-。本發(fā)明具有低蒸汽壓、優(yōu)良的高低溫性能和較高的折射率，能夠適合于光學(xué)儀器上的應(yīng)用；本發(fā)明制備原料易得，操作簡(jiǎn)便，易于控制，無(wú)污染，生產(chǎn)條件溫和，便于產(chǎn)業(yè)化。
【專利說明】一種高折射率室溫離子液體

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于離子液體領(lǐng)域，特別涉及一種高折射率室溫離子液體。

【背景技術(shù)】
[0002]用于光學(xué)顯微鏡研究中的高折射率材料(如金剛石)，它們需要浸泡在高折射率的液體中才能使用。同時(shí)，金剛石大的折射率(2.42)使得不具有天然平面的金剛石的光學(xué)檢測(cè)變得極其困難。因此很有必要制備一種低熔點(diǎn)，低毒性，高折射率的浸出液，用于輔助高折射率固體金剛石的光學(xué)檢測(cè)。然而，目前高折射率材料由于在室溫下為固體或本身具有高毒性，且會(huì)對(duì)顯微鏡設(shè)備造成一定的損害，應(yīng)用受到了限制。例如，錫(IV)化碘和砷(III)化碘折射率分別為2.106和2.23，其熔點(diǎn)均在140°C以上，且具有較高毒性。硫磺的飽和二碘甲烷溶液，雖然在室溫下折射率較高(1.78)，但毒性太大。
[0003]離子液體具有低蒸汽壓，熔點(diǎn)低，以及熱穩(wěn)定性高，毒性小等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛的應(yīng)用于催化、有機(jī)合成、電化學(xué)、材料科學(xué)等諸多領(lǐng)域?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)陰陽(yáng)離子來調(diào)節(jié)離子液體的物理化學(xué)性質(zhì)，因此可將它們作為高折射率浸出液來取代傳統(tǒng)的浸出液。目前，MaggelDeetlef等制備了一系列以多鹵素聚合體為陰離子的烷基取代咪唑型離子液體(NewJournal of Chemistry, 2006，30，317-326 以及 1nic Liquids III A:Fundamentals, Progress, Challenges, and Opportunities, Chapterl7, pp219 - 233)，雖然其折射率很高，但穩(wěn)定性較差，并且咪唑環(huán)還具有一定的毒性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種高折射率室溫離子液體，該離子液體具有低蒸汽壓、優(yōu)良的高低溫性能和較高的折射率，能夠適合于光學(xué)儀器上的應(yīng)用
[0005]本發(fā)明的一種高折射率室溫離子液體，所述離子液體的結(jié)構(gòu)式如下:
[0006]

【權(quán)利要求】
1.一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述離子液體的結(jié)構(gòu)式如下:
其中，R取代基為至少含有一個(gè)羥基或者烷氧基的有機(jī)官能團(tuán)；η = 1-3 ；陰離子X—為Br—或I-。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述R取代基為羥烷基、2，3- 二羥基丙基、(2-羥乙氧基)乙基或烷氧基取代的烷基。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述羥烷基為羥乙基、羥丙基、羥丁基、羥戊基或羥己基。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述烷氧基取代的烷基為甲氧基乙基、甲氧基丙基、甲氧基丁基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、乙氧基丁基、2-(2-甲氧基乙氧基)乙基或2-(2-乙氧基乙氧基)乙基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述離子液體的熔點(diǎn)低于50°C。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高折射率室溫離子液體，其特征在于:所述離子液體的折射率大于1.56nD。
【文檔編號(hào)】C07D487/04GK104130263SQ201410312423
【公開日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年7月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月2日
【發(fā)明者】邢彥軍, 劉玉婷, 張京彬 申請(qǐng)人:東華大學(xué)