一種支撐柱熱場(chǎng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型屬于多晶鑄錠生產(chǎn)領(lǐng)域，具體涉及一種使鑄錠爐減少所鑄硅錠的內(nèi)部 陰影和雜質(zhì)比率的改進(jìn)熱場(chǎng)。
【背景技術(shù)】
[0002] 在多晶硅錠制備過(guò)程中，隨著熱場(chǎng)使用時(shí)間的增加，內(nèi)部隔熱層氧化，加熱器老化 現(xiàn)象日益嚴(yán)重，逐漸會(huì)出現(xiàn)以下的問(wèn)題：
[0003] ①熱場(chǎng)保溫性差：由于熱場(chǎng)保溫取決于鋼籠隔熱層的固體碳?xì)值耐暾裕珪r(shí)間 用的越久，固體碳?xì)值难趸撀淝闆r愈發(fā)嚴(yán)重，保溫性越來(lái)越差；
[0004] ②硅錠底部陰影比率加重：硅錠長(zhǎng)晶時(shí)依靠鋼籠隔熱層向上運(yùn)動(dòng)，使熱量開(kāi)始散 發(fā)至下腔室爐壁后，熱量由爐壁內(nèi)的循環(huán)水帶走，形成上面溫度高下面溫度低的溫度梯度， 從而長(zhǎng)晶。但是熱場(chǎng)老化后下腔室隔熱板的隔熱效果大打折扣，導(dǎo)致硅錠底部長(zhǎng)晶速率太 快，出現(xiàn)陰影的比率加大；
[0005] ③使用壽命：由于熱場(chǎng)的老化，為了保證生產(chǎn)質(zhì)量，不得不更換熱場(chǎng)，這樣生產(chǎn)成 本增加。因此，為了解決這些問(wèn)題，一般是在工藝方面進(jìn)行操作，增加某一階段的溫度，更改 整體的溫度補(bǔ)償值，或者減少鋼籠上升速率，這些操作有一定的效果，但都無(wú)法高效解決這 些問(wèn)題，需要更有效的辦法緩解這類(lèi)問(wèn)題造成的影響。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006] 本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種支撐柱熱場(chǎng)。
[0007] 本實(shí)用新型的技術(shù)方案是：一種支撐柱熱場(chǎng)，包括鑄錠爐下腔室，所述鑄錠爐下腔 室包括下腔室底座、大隔熱板和小隔熱板，在所述大隔熱板和小隔熱板之間設(shè)置一層軟碳 氈，在所述下腔室底座內(nèi)放置石墨墊塊，在所述石墨墊塊上放置石墨柱。
[0008] 優(yōu)選地，所述軟碳毯為1cm。
[0009] 優(yōu)選地，所述石墨墊塊為1. 5 cm。
[0010] 優(yōu)選地，所述石墨柱頂端放置石墨DS塊。
[0011] 本實(shí)用新型的有益效果：本實(shí)用新型抬高整個(gè)鑄錠坩堝的高度，使硅錠長(zhǎng)晶位置 抬高，位于高位置的溫度梯度，變相增加整體的環(huán)境溫度；而且沒(méi)有增加能耗，且補(bǔ)償了熱 場(chǎng)的保溫性變差帶來(lái)的影響；另外，增加軟氈是為了在長(zhǎng)晶過(guò)程中使硅錠底部溫度散溫速 率減緩，長(zhǎng)晶速率減慢，減少娃錠底部的陰影的比率。
【附圖說(shuō)明】
[0012] 圖1是本實(shí)用新型支撐柱熱場(chǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013] 圖2為圖1局部放大圖；
[0014] 圖中：1石墨DS塊，2石墨柱，3小隔熱板，4大隔熱板，5軟碳?xì)郑?下腔室底座，7 石墨墊塊。
【具體實(shí)施方式】
[0015] 結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型提供的實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明：
[0016] 如圖1、2所示，一種支撐柱熱場(chǎng)，包括鑄錠爐下腔室，所述鑄錠爐下腔室包括下腔 室底座6、大隔熱板4和小隔熱板3,在所述大隔熱板4和小隔熱板3之間設(shè)置一層軟碳?xì)?5,在所述下腔室底座6內(nèi)放置石墨墊塊7,在所述石墨墊塊7上放置石墨柱2。
[0017] 其中，所述軟碳毯5為lcm，所述石墨墊塊7為1. 5 cm，所述石墨柱2頂端放置石 墨DS塊1。
[0018] 解決減少鑄錠的陰影雜質(zhì)的辦法，步驟如下：
[0019] ①準(zhǔn)備三個(gè)相同厚度1. 5cm的圓柱石墨塊，直徑比下腔室的底座直徑偏小，打磨 圓切面，保證平整，保證水平；
[0020] ②準(zhǔn)備軟氈，大小和下腔室小隔熱板相同，開(kāi)孔位置要對(duì)應(yīng)；
[0021] ③清理干凈下腔室底座的雜物，放入事先準(zhǔn)備好的厚度1. 5cm的圓柱石墨塊，再 放入石墨立柱；
[0022] ④依次放入下腔室大隔熱板、軟碳?xì)?厚度lcm)、下腔室小隔熱板，壓平，壓實(shí)，保 證無(wú)拱起。
[0023] ⑤石墨柱頂部抬上DS塊，完成熱場(chǎng)改進(jìn)。正常投料運(yùn)行。
[0024] 以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做出進(jìn)一步的詳細(xì)數(shù)據(jù)說(shuō)明：
[0025] 選擇5臺(tái)陰影比較嚴(yán)重的鑄錠爐，分別為：10# 13# 19# 21# 25#。每臺(tái)鑄錠爐都 墊1. 5cm石墨塊，整體抬高1. 5cm，水平檢測(cè)也是正常；下腔室隔熱板中墊一層的軟氈，之后 看出爐硅錠的檢測(cè)數(shù)據(jù)是否有好轉(zhuǎn)。
[0027] 由上表格明顯看出，陰影明顯好轉(zhuǎn)。
[0028] 本實(shí)用新型抬高整個(gè)鑄錠坩堝的高度，使硅錠長(zhǎng)晶位置抬高，位于高位置的溫度 梯度，變相增加整體的環(huán)境溫度；而且沒(méi)有增加能耗，且補(bǔ)償了熱場(chǎng)的保溫性變差帶來(lái)的影 響；另外，增加軟氈是為了在長(zhǎng)晶過(guò)程中使硅錠底部溫度散溫速率減緩，長(zhǎng)晶速率減慢，減 少硅錠底部的陰影的比率。
[0029] 在此說(shuō)明書(shū)中，本實(shí)用新型已參照其特定的實(shí)施例作了描述。但是，很顯然仍可以 做出各種修改和變換而不背離本實(shí)用新型的精神和范圍。因此，說(shuō)明書(shū)和附圖應(yīng)被認(rèn)為是 說(shuō)明性的而非限制性的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種支撐柱熱場(chǎng)，包括鑄錠爐下腔室，其特征在于，所述鑄錠爐下腔室包括下腔室底 座、大隔熱板和小隔熱板，在所述大隔熱板和小隔熱板之間設(shè)置一層軟碳?xì)?，在所述下腔?底座內(nèi)放置石墨墊塊，在所述石墨墊塊上放置石墨柱。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐柱熱場(chǎng)，其特征在于，所述軟碳?xì)譃閘cm。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐柱熱場(chǎng)，其特征在于，所述石墨墊塊為1. 5 cm。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的支撐柱熱場(chǎng)，其特征在于，所述石墨柱頂端放 置石墨DS塊。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種支撐柱熱場(chǎng)，包括鑄錠爐下腔室，所述鑄錠爐下腔室包括下腔室底座、大隔熱板和小隔熱板，在所述大隔熱板和小隔熱板之間設(shè)置一層軟碳?xì)郑谒鱿虑皇业鬃鶅?nèi)放置石墨墊塊，在所述石墨墊塊上放置石墨柱。本實(shí)用新型抬高整個(gè)鑄錠坩堝的高度，使硅錠長(zhǎng)晶位置抬高，位于高位置的溫度梯度，變相增加整體的環(huán)境溫度；而且沒(méi)有增加能耗，且補(bǔ)償了熱場(chǎng)的保溫性變差帶來(lái)的影響；另外，增加軟氈是為了在長(zhǎng)晶過(guò)程中使硅錠底部溫度散溫速率減緩，長(zhǎng)晶速率減慢，減少硅錠底部的陰影的比率。
【IPC分類(lèi)】C30B29/06, C30B28/06
【公開(kāi)號(hào)】CN204982134
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520761268
【發(fā)明人】劉耀峰
【申請(qǐng)人】無(wú)錫榮能半導(dǎo)體材料有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2015年9月29日