一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置的制造方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]磁控真空鍍膜玻璃生產(chǎn)線是在真空條件下，由氣體電離所產(chǎn)生的電子對陰極靶材進行高速撞擊，置換基材粒子并在基材表面附近實現(xiàn)反應(yīng)，生成金屬、金屬氧化物或金屬氮化物，實現(xiàn)磁控濺射真空鍍膜。目前市場上生產(chǎn)鍍膜玻璃較領(lǐng)先的設(shè)備一般都是能生產(chǎn)可鋼化雙銀配置的鍍膜生產(chǎn)線，由于鍍膜玻璃的品種繁多，客戶的需求也各不相同，而要在一條設(shè)備上同時實現(xiàn)生產(chǎn)多種產(chǎn)品，就需要生產(chǎn)線配置有足夠多的陰極和電源，讓各種材料的靶材均在生產(chǎn)線上放置，并按照膜系結(jié)構(gòu)配置的材料和對每一種材料在某一特定膜系中所需的膜厚要求。而以往，我們生產(chǎn)高透型產(chǎn)品，需要很薄的金屬阻擋層，為了獲得很薄的金屬功率，第一步我們會降低金屬阻擋層的功率，當(dāng)金屬阻擋層降到一個零界點時(再低真空腔體內(nèi)不能產(chǎn)生輝光放電，濺射將終止)；第二步會減小陰極下面的濺射縫隙寬度，使得濺射下來的金屬層被擋板擋住大部分，從而生產(chǎn)穩(wěn)定且高透的產(chǎn)品。當(dāng)我們再生產(chǎn)遮陽型產(chǎn)品的時候，需要很厚的金屬阻擋層，在很小的濺射縫隙寬度下要把金屬阻擋層的功率加到很高，這樣就很浪費靶材，而在很寬的擋板下生產(chǎn)遮陽型產(chǎn)品，那么高透產(chǎn)品根本就無法生產(chǎn)，現(xiàn)有生產(chǎn)線無法滿足產(chǎn)品多樣性需求，多種產(chǎn)品，需配置多個濺射靶材及多種濺射范圍的濺射鍍膜機構(gòu)，造成成本浪費。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0003]本發(fā)明目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，利用濺射范圍控制裝置，來調(diào)整濺射靶材下部的濺射縫隙寬度，在生產(chǎn)遮陽型產(chǎn)品時，將濺射縫隙寬度調(diào)大，能大大提高濺射效率，節(jié)約靶材成本，在生產(chǎn)高透產(chǎn)品時，將濺射縫隙寬度調(diào)小，能減低阻擋層的濺射功率，從而實現(xiàn)超高透產(chǎn)品的研發(fā)與生產(chǎn)，使得生產(chǎn)不同規(guī)格鍍膜玻璃時，不需另外換線，使得單一生產(chǎn)線能滿足多種規(guī)格鍍膜玻璃生產(chǎn)，提高了效率，增加了生產(chǎn)線產(chǎn)品的多樣性，降低了生產(chǎn)成本。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0005]一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，包括底架，所述底架上架設(shè)有用于移轉(zhuǎn)玻璃的輸送裝置，其特征在于:所述底架上還設(shè)有用于在真空狀態(tài)下對玻璃表面進行連續(xù)鍍膜的磁控濺射鍍膜機構(gòu)，所述磁控濺射鍍膜機構(gòu)包括架設(shè)在所述輸送裝置上的濺射底架，所述濺射底架上設(shè)有濺射靶材，所述濺射底架上位于所述濺射靶材和輸送裝置之間設(shè)有濺射范圍控制裝置，所述濺射范圍控制裝置包括能通過調(diào)節(jié)濺射縫隙寬度控制所述濺射靶材濺射到玻璃上的鍍膜厚度的第一活動擋板。
[0006]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射范圍控制裝置還包括推動所述第一活動擋板移動的螺桿和驅(qū)動所述螺桿轉(zhuǎn)動驅(qū)動電機，所述第一活動擋板通過第一螺桿滑塊與所述螺桿連接。
[0007]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射范圍控制裝置還包括移動方向與所述第一活動擋板相反的第二活動擋板。
[0008]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述第二活動擋板上連接有當(dāng)所述螺桿轉(zhuǎn)動時能帶動所述第二活動擋板沿所述第一活動擋板反方向移動的第二螺桿滑塊。
[0009]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射底架上設(shè)有L形擋板，所述L型擋板上設(shè)有平行于所述輸送裝置傳輸方向的多條線性滑軌，所述線性滑軌上設(shè)有支撐并隨所述第一活動擋板移動的線性滑塊。
[0010]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述第一活動擋板下部設(shè)有多條線性滑軌，每個所述線性滑軌上設(shè)有多個線性滑塊。
[0011]如上所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述輸送裝置包括多條相互平行用于輸送玻璃的輥筒，所述輥筒端部套設(shè)有驅(qū)動鏈輪和驅(qū)動所述驅(qū)動鏈輪轉(zhuǎn)動的鏈條，所述底架上還設(shè)有驅(qū)動所述鏈條轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點:
[0013]本發(fā)明的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，利用濺射范圍控制裝置，來調(diào)整濺射靶材下部的濺射縫隙寬度，濺射范圍控制裝置的螺桿轉(zhuǎn)動時，套設(shè)在上面的第一螺桿滑塊和第二螺桿滑塊，因為配置的內(nèi)螺牙方向相反，而分別帶動第一活動擋板和第二活動擋板相向移動，從而自動調(diào)節(jié)濺射縫隙即鍍膜范圍的寬度，可根據(jù)需求金屬膜層的厚度要求對濺射縫隙寬度進行設(shè)定調(diào)節(jié)，不僅節(jié)約了生產(chǎn)周期，節(jié)約了靶材的位置，還能生產(chǎn)出更高性能的產(chǎn)品，即生產(chǎn)遮陽型產(chǎn)品時，將濺射縫隙寬度調(diào)大，能大大提高濺射效率，節(jié)約靶材成本，在生產(chǎn)高透產(chǎn)品時，將濺射縫隙寬度調(diào)小，能減低阻擋層的濺射功率，從而實現(xiàn)超高透產(chǎn)品的研發(fā)與生產(chǎn)，適合多種規(guī)格的鍍膜玻璃在同一條生產(chǎn)線上作業(yè)，使得生產(chǎn)線滿足產(chǎn)品多樣化生產(chǎn)需求，達到快速換線的效果，提高了效率，降低了生產(chǎn)成本。
【【附圖說明】】
[0014]圖1是本發(fā)明立體示意圖；
[0015]圖2是本發(fā)明立體示意圖；
[0016]圖3是本發(fā)明立體示意圖；
[0017]圖4是本發(fā)明立體示意圖；
[0018]圖5是本發(fā)明側(cè)視示意圖；
[0019]圖6是本發(fā)明局部示意圖。
【【具體實施方式】】
[0020]一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，包括底架1，所述底架I上架設(shè)有用于移轉(zhuǎn)玻璃的輸送裝置2，所述底架I上還設(shè)有用于在真空狀態(tài)下對玻璃表面進行連續(xù)鍍膜的磁控濺射鍍膜機構(gòu)3，所述磁控濺射鍍膜機構(gòu)3包括架設(shè)在所述輸送裝置2上的濺射底架31，所述濺射底架31上設(shè)有濺射靶材32，所述濺射底架31上位于所述濺射靶材32和輸送裝置2之間設(shè)有濺射范圍控制裝置33，所述濺射范圍控制裝置33包括能通過調(diào)節(jié)濺射縫隙寬度控制所述濺射靶材32濺射到玻璃上的鍍膜厚度的第一活動擋板331。利用濺射范圍控制裝置上的第一活動擋板，通過調(diào)節(jié)其位置，來調(diào)整濺射靶材下部的濺射縫隙的寬度，進而配合滾軸輸送裝置，來調(diào)節(jié)在不同要求的玻璃上鍍膜的厚度。
[0021]所述濺射范圍控制裝置33還包括推動所述第一活動擋板331移動的螺桿332和驅(qū)動所述螺桿332轉(zhuǎn)動驅(qū)動電機333，所述第一活動擋板331通過第一螺桿滑塊334與所述螺桿332連接。濺射范圍控制裝置通過螺桿轉(zhuǎn)動，帶動第一活動擋板移動來調(diào)節(jié)濺射縫隙寬度。
[0022]所述濺射范圍控制裝置33還包括移動方向與所述第一活動擋板331相反的第二活動擋板330。濺射范圍控制裝置包括移動方向相向的第一活動擋板和第二活動擋板。
[0023]所述第二活動擋板330上連接有當(dāng)所述螺桿332轉(zhuǎn)動時能帶動所述第二活動擋板330沿所述第一活動擋板331反方向移動的第二螺桿滑塊335。當(dāng)螺桿轉(zhuǎn)動時，第一螺桿滑塊和第二螺桿滑塊因為配置齒牙方向相反，而帶動相應(yīng)的第一活動擋板和第二活動擋板的移動方向相反。
[0024]所述濺射底架31上設(shè)有L形擋板34，所述L型擋板34上設(shè)有平行于所述輸送裝置2傳輸方向的多條線性滑軌35，所述線性滑軌35上設(shè)有支撐并隨所述第一活動擋板331移動的線性滑塊36。電鍍底架上的L形擋板，用來支撐線性滑軌和線性滑塊，供第一活動擋板在其上滑動。
[0025]所述第一活動擋板331下部設(shè)有多條線性滑軌35，每個所述線性滑軌35上設(shè)有多個線性滑塊36。第一活動擋板下部有多條線性滑軌及對應(yīng)多個線性滑塊支撐。
[0026]所述輸送裝置2包括多條相互平行用于輸送玻璃的輥筒21，所述輥筒端部套設(shè)有驅(qū)動鏈輪22和驅(qū)動所述驅(qū)動鏈輪22轉(zhuǎn)動的鏈條23，所述底架I上還設(shè)有驅(qū)動所述鏈條23轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機24。底架上的驅(qū)動電機，通過驅(qū)動鏈條轉(zhuǎn)動，帶動滾筒轉(zhuǎn)動輸送。
【主權(quán)項】
1.一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，包括底架(I)，所述底架(I)上架設(shè)有用于移轉(zhuǎn)玻璃的輸送裝置(2)，其特征在于:所述底架(I)上還設(shè)有用于在真空狀態(tài)下對玻璃表面進行連續(xù)鍍膜的磁控濺射鍍膜機構(gòu)(3)，所述磁控濺射鍍膜機構(gòu)(3)包括架設(shè)在所述輸送裝置(2)上的濺射底架(31)，所述濺射底架(31)上設(shè)有濺射靶材(32)，所述濺射底架(31)上位于所述濺射靶材(32)和輸送裝置(2)之間設(shè)有濺射范圍控制裝置(33)，所述濺射范圍控制裝置(33)包括能通過調(diào)節(jié)濺射縫隙寬度控制所述濺射靶材(32)濺射到玻璃上的鍍膜厚度的第一活動擋板(331)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射范圍控制裝置(33)還包括推動所述第一活動擋板(331)移動的螺桿(332)和驅(qū)動所述螺桿(332)轉(zhuǎn)動驅(qū)動電機(333)，所述第一活動擋板(331)通過第一螺桿滑塊(334)與所述螺桿(332)連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射范圍控制裝置(33)還包括移動方向與所述第一活動擋板(331)相反的第二活動擋板(330)ο4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述第二活動擋板(330)上連接有當(dāng)所述螺桿(332)轉(zhuǎn)動時能帶動所述第二活動擋板(330)沿所述第一活動擋板(331)反方向移動的第二螺桿滑塊(335)。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述濺射底架(31)上設(shè)有L形擋板(34)，所述L型擋板(34)上設(shè)有平行于所述輸送裝置(2)傳輸方向的多條線性滑軌(35)，所述線性滑軌(35)上設(shè)有支撐并隨所述第一活動擋板(331)移動的線性滑塊(36)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述第一活動擋板(331)下部設(shè)有多條線性滑軌(35)，每個所述線性滑軌(35)上設(shè)有多個線性滑塊(36) ο7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，其特征在于所述輸送裝置(2)包括多條相互平行用于輸送玻璃的輥筒(21)，所述輥筒端部套設(shè)有驅(qū)動鏈輪(22)和驅(qū)動所述驅(qū)動鏈輪(22)轉(zhuǎn)動的鏈條(23)，所述底架(I)上還設(shè)有驅(qū)動所述鏈條(23)轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機(24)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，包括底架，底架上架設(shè)有用于移轉(zhuǎn)玻璃的輸送裝置，其技術(shù)方案的要點是：底架上還設(shè)有用于在真空狀態(tài)下對玻璃表面進行連續(xù)鍍膜的磁控濺射鍍膜機構(gòu)，磁控濺射鍍膜機構(gòu)包括架設(shè)在輸送裝置上的濺射底架，濺射底架上設(shè)有濺射靶材，濺射底架上位于濺射靶材和輸送裝置之間設(shè)有濺射范圍控制裝置，濺射范圍控制裝置包括能通過調(diào)節(jié)濺射縫隙寬度控制濺射靶材濺射到玻璃上的鍍膜厚度的第一活動擋板。本發(fā)明提供一種可調(diào)濺射范圍的磁控濺射玻璃鍍膜裝置，利用濺射范圍控制裝置，來調(diào)整濺射靶材下部的濺射縫隙寬度，使得單一生產(chǎn)線能滿足多種規(guī)格鍍膜玻璃生產(chǎn)，提高了效率。
【IPC分類】C03C17/09
【公開號】CN104944793
【申請?zhí)枴緾N201510385688
【發(fā)明人】周永文, 范亞軍, 梁健威
【申請人】中山市格蘭特實業(yè)有限公司
【公開日】2015年9月30日
【申請日】2015年6月30日