專利名稱：一種自清潔二氧化硅反應(yīng)爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及制作二氧化硅的設(shè)備，具體地說是一種利用氯硅烷或甲基氯硅烷制作二氧化硅的反應(yīng)爐。
背景技術(shù)：
氣相法二氧化硅的生產(chǎn)工藝較為成熟，但以甲基三氯硅烷為原料生產(chǎn)氣相法二氧化硅的工藝條件及參數(shù)控制很苛刻，所以對二氧化硅反應(yīng)爐的要求較高，并且反應(yīng)的過程中很容易出現(xiàn)粉塵吸附在爐壁上的情況，日積月累爐壁上就會形成幾厘米甚至十幾厘米的二氧化硅粉塵層，阻礙反應(yīng)爐換熱，嚴重時甚至出現(xiàn)堵塞爐膛的情況，影響生產(chǎn)的正常進行，并且二氧化硅粉塵層不容易清理干凈，因此生產(chǎn)效率不高，雖說現(xiàn)有的二氧化硅反應(yīng)爐的噴嘴具有一定的抽吸作用，但是所起的作用并不大，粉塵照樣會吸附在爐壁上形成粉塵層。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供一種抽吸和混合效果好，對反應(yīng)爐的爐壁進行自動吹掃的自清潔
二氧化硅反應(yīng)爐。本實用新型是通過下述技術(shù)方案實現(xiàn)的一種自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，包括爐膛、 擴大段、混合室和噴嘴，所述爐膛和混合室通過擴大段相連接，所述噴嘴設(shè)于混合室上方， 所述混合室側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口。所述爐膛、擴大段、混合室和噴嘴組成文丘里結(jié)構(gòu)。所述吹掃氣入口與混合室相切。所述混合室內(nèi)部呈負壓狀態(tài)。所述反應(yīng)爐出口設(shè)于爐膛底部。本實用新型所帶來的有益效果是本實用新型中，所述自清潔二氧化硅反應(yīng)爐包括爐膛、擴大段、混合室和噴嘴，所述爐膛為物料充分燃燒提供空間，所述混合室是利用噴嘴抽吸吹掃氣，產(chǎn)生一定負壓的空間，這個主要是防止回火和物料進入管道，也是利用了文丘里結(jié)構(gòu)的一個特性，所述擴大段用于恢復(fù)氣體總壓，便于物料出反應(yīng)爐，所述噴嘴是物料的進口，反應(yīng)主物料為空氣、氫氣和甲級三氯硅烷混合物，從噴嘴進入反應(yīng)爐，并點火燃燒； 所述混合室側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口，用于吸入吹掃的空氣；所述爐膛、擴大段、混合室和噴嘴組成文丘里結(jié)構(gòu)，具有很好的噴射、抽吸和混合的效果，所述爐膛和混合室呈圓柱形，有利于物料地充分燃燒；所述吹掃氣入口與混合室相切，空氣沿著混合室內(nèi)壁被吸入，并沿內(nèi)壁運動，有利于清除反應(yīng)爐內(nèi)壁的粉塵，進而保證正常生產(chǎn)；所述混合室內(nèi)部呈負壓狀態(tài)， 有利于外部空氣被吸入混合室，進行吹掃，進而有效清除內(nèi)壁的粉塵。
以下結(jié)合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。[0011]


圖1為本實用新型所述自清潔二氧化硅反應(yīng)爐的主視圖。圖2為本實用新型所述自清潔二氧化硅反應(yīng)爐的俯視圖。圖中部件名稱對應(yīng)的標號如下1、爐膛；2、擴大段；3、混合室；4、噴嘴；5、吹掃氣入口 ；6、反應(yīng)爐出口。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步的詳述作為本實用新型所述自清潔二氧化硅反應(yīng)爐的實施例，如
圖1所示，包括爐膛1、擴大段2、混合室3和噴嘴4，所述爐膛1和混合室3通過擴大段2相連接，所述噴嘴4設(shè)于混合室3上方，所述混合室3側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口 5。所述爐膛1為物料充分燃燒提供空間，所述混合室3是利用噴嘴4抽吸吹掃氣，產(chǎn)生一定負壓的空間，這個主要是防止回火和物料進入管道，也是利用了文丘里結(jié)構(gòu)的一個特性，所述擴大段2用于恢復(fù)氣體總壓，便于物料出反應(yīng)爐，所述噴嘴4是物料的進口，反應(yīng)的主物料為空氣、氫氣和甲級三氯硅烷混合物，從噴嘴4進入反應(yīng)爐，并點火燃燒；所述混合室3側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口 4，用于吸入吹掃的空氣。本實施例中，所述爐膛1、擴大段2、混合室3和噴嘴4組成文丘里結(jié)構(gòu)。所述文丘里結(jié)構(gòu)具有很好的噴射、抽吸和混合的效果，所述爐膛1和混合室3呈圓柱形，有利于物料地充分燃燒。本實施例中，所述吹掃氣入口 5與混合室3相切?？諝庋刂旌鲜?內(nèi)壁被吸入， 并沿內(nèi)壁運動，有利于清除反應(yīng)爐內(nèi)壁的粉塵，進而保證正常生產(chǎn)。本實施例中，所述混合室3內(nèi)部呈負壓狀態(tài)。有利于外部空氣被吸入混合室3，進行吹掃，進而有效清除內(nèi)壁的粉塵。本實施例中，所述反應(yīng)爐出口 6設(shè)于爐膛1底部。便于物料和空氣排出。
權(quán)利要求1.一種自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，其特征在于包括爐膛、擴大段、混合室和噴嘴，所述爐膛和混合室通過擴大段相連接，所述噴嘴設(shè)于混合室上方，所述混合室側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口。
2.如權(quán)利要求1所述的自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，其特征在于所述爐膛、擴大段、混合室和噴嘴組成文丘里結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，其特征在于所述吹掃氣入口與混合室相切。
4.如權(quán)利要求3所述的自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，其特征在于所述混合室內(nèi)部呈負壓狀態(tài)。
5.如權(quán)利要求4所述的自清潔二氧化硅反應(yīng)爐，其特征在于所述反應(yīng)爐出口設(shè)于爐膛底部。
專利摘要本實用新型涉及制作二氧化硅的設(shè)備，具體地說是一種利用氯硅烷或甲基氯硅烷制作二氧化硅的反應(yīng)爐。該自清潔二氧化硅反應(yīng)爐包括爐膛、擴大段、混合室和噴嘴，所述爐膛和混合室通過擴大段相連接，所述噴嘴設(shè)于混合室上方，所述混合室側(cè)壁上設(shè)有吹掃氣入口。本實用新型提供一種抽吸和混合效果好，對反應(yīng)爐的爐壁進行自動吹掃的自清潔二氧化硅反應(yīng)爐。
文檔編號C01B33/12GK202201716SQ20112035184
公開日2012年4月25日 申請日期2011年9月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月20日
發(fā)明者何啟紅, 王樟茂, 馬國維 申請人:浙江合盛硅業(yè)有限公司