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噴砂治具的制作方法

文檔序號(hào):10201018閱讀:384來源:國知局
噴砂治具的制作方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種噴砂治具,特別是涉及一種涉及可用于噴砂處理的噴砂治具。
【【背景技術(shù)】】
[0002]在半導(dǎo)體制程中,必須定期或不定期地對(duì)半導(dǎo)體制程設(shè)備的零件進(jìn)行清洗及再生,以維持半導(dǎo)體制程設(shè)備的效能,并可延長設(shè)備的使用壽命。
[0003]以物理氣相沉積制程為例,物理氣相沉積制程主要是在一基板上沉積一薄膜。首先利用一直流電源分別電性耦接至一背板及一遮覆板,通過該背板及該遮覆板于該反應(yīng)室腔體內(nèi)形成電場將離子槍束擊向金屬靶材。在離子槍束撞擊靶材后,會(huì)將該靶材上的金屬濺射在該基板上而形成該薄膜。
[0004]通常,物理氣相沉積之反應(yīng)室腔體在使用一段時(shí)間后,會(huì)在反應(yīng)室腔體中該遮覆板及母材的表面形成金屬鍍膜,因此必須對(duì)反應(yīng)室腔體進(jìn)行洗凈與再生,防止金屬鍍膜破裂或剝落所產(chǎn)生之微塵粒子散布至該基板而影響良率。所謂洗凈系指針對(duì)反應(yīng)室腔體中該遮覆板及該母材之金屬鍍膜的材質(zhì)選用適當(dāng)之方法與材料予以去除,例如以酸性或堿性之化學(xué)溶液浸泡反應(yīng)室腔體,將形成于遮覆板及母材表面之金屬鍍膜溶解分離。所謂再生是指洗凈后再以噴砂及整形等方式恢復(fù)該遮覆板及母材原有外形與表面特性。然而上述洗凈及再生皆會(huì)侵蝕與損耗反應(yīng)室腔體中遮覆板及母材的本體厚度,造成使用壽命減短。
[0005]此外,對(duì)于反應(yīng)室腔中的螺絲孔,例如鎖固于該母材之間之螺絲孔,上述以化學(xué)溶液浸泡反應(yīng)室腔體、對(duì)該遮覆板及該母材噴砂及整形等步驟會(huì)使螺絲孔產(chǎn)生擴(kuò)孔現(xiàn)象,因此在多次進(jìn)行洗凈及再生后,會(huì)造成螺絲孔尺寸與原先尺寸有所差異,導(dǎo)致螺絲孔與螺絲在組合時(shí)誤差過大而使得鎖固功能不佳甚至無法繼續(xù)使用。
[0006]并且,由于在前述洗凈等過程中,必須使用大量的酸性或堿性之化學(xué)溶液,浸泡遮覆板及母材,以溶解金屬鍍膜,使其與遮覆板及母材分離。由于不可避免地必須使用大量的酸性或堿性之化學(xué)溶液,因而在洗凈的過程中,必須使用大量的清水來沖洗半導(dǎo)體制程的零件。
【【實(shí)用新型內(nèi)容】】
[0007]本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種噴砂治具,所述噴砂治具包括:
[0008]框體,用以覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域;以及
[0009]多個(gè)螺孔,設(shè)置于所述框體上,當(dāng)所述框體覆蓋于所述半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域上時(shí),多個(gè)螺絲是通過所述多個(gè)螺孔來固定所述框體。
[0010]當(dāng)所述噴砂治具固定于所述半導(dǎo)體設(shè)備的零件上時(shí),所述零件具有多個(gè)相應(yīng)螺孔來螺合所述噴砂治具的所述框體的所述多個(gè)螺孔及所述多個(gè)螺絲。
[0011]相較于現(xiàn)有的噴砂處理的問題,在進(jìn)行噴砂處理時(shí),可利用本實(shí)施例的噴砂治具來覆蓋半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域(或特定區(qū)域),避免在噴砂過程中半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域被噴砂處理影響。
[0012]為讓本實(shí)用新型的上述內(nèi)容能更明顯易懂,下文特舉優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說明如下:
【【附圖說明】】
[0013]圖1為本實(shí)用新型的噴砂治具的一實(shí)施例的示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0014]以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式,用以例示本實(shí)用新型可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本實(shí)用新型所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本實(shí)用新型,而非用以限制本實(shí)用新型。
[0015]附圖和說明被認(rèn)為在本質(zhì)上是示出性的,而不是限制性的。在圖中,結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號(hào)表示。另外,為了理解和便于描述,附圖中示出的每個(gè)組件的尺寸和厚度是任意示出的,但是本實(shí)用新型不限于此。
[0016]在附圖中,為了清晰起見,夸大了層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。在附圖中,為了理解和便于描述,夸大了一些層和區(qū)域的厚度。將理解的是,當(dāng)例如層、膜、區(qū)域或基底的組件被稱作“在”另一組件“上”時(shí),所述組件可以直接在所述另一組件上,或者也可以存在中間組件。
[0017]另外,在說明書中,除非明確地描述為相反的,否則詞語“包括”將被理解為意指包括所述組件,但是不排除任何其它組件。此外,在說明書中,“在......上”意指位于目標(biāo)組件上方或者下方,而不意指必須位于基于重力方向的頂部上。
[0018]請(qǐng)參照?qǐng)D1,圖1為本實(shí)用新型的噴砂治具的一實(shí)施例的示意圖。本實(shí)施例的噴砂治具可用于覆蓋半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域(或特定區(qū)域),避免在噴砂過程中半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域被噴砂處理影響。噴砂治具111包括框體112及多個(gè)螺孔113,框體112是用以覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域(例如零件的周圍區(qū)域),多個(gè)螺孔113是設(shè)置于框體112上,當(dāng)框體112覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域上時(shí),多個(gè)螺絲可通過多個(gè)螺孔113來固定框體112于半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域上。值得注意的是,當(dāng)噴砂治具111固定于半導(dǎo)體設(shè)備零件上時(shí),零件也具有相應(yīng)的螺孔來螺合噴砂治具111。
[0019]接著,以半導(dǎo)體設(shè)備的反應(yīng)腔體內(nèi)的零組件清洗過程為例來進(jìn)行說明,主要于鋁合金零組件機(jī)械加工完成并施作相關(guān)的表面處理(如陽極處理、熔射處理、噴砂處理等)后,或經(jīng)半導(dǎo)體干蝕刻機(jī)使用后下機(jī),后續(xù)皆可使用該清洗方式進(jìn)行超潔凈清洗,以符合嚴(yán)苛的半導(dǎo)體蝕刻機(jī)室內(nèi)的超高潔凈要求,提升生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率的功效為目的。
[0020]在進(jìn)行噴砂處理時(shí),可利用本實(shí)施例的噴砂治具111來覆蓋半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域(或特定區(qū)域),避免在噴砂過程中半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域被噴砂處理影響。
[0021]例如適用于鋁底材施作陽極處理的零組件,在清洗前必須根據(jù)零組件之狀態(tài),而作不同事前準(zhǔn)備。當(dāng)零組件為新品件時(shí),先使用皂洗液進(jìn)行脫脂制程,之后再進(jìn)行新陽極膜處理,完成后進(jìn)入清洗流程。當(dāng)零組件為陽極再生件,需將舊陽極膜進(jìn)行退鍍及新陽極膜再生制程與新熔射膜再生制程,完成后進(jìn)入清洗流程。當(dāng)零組件為上機(jī)清洗件,依據(jù)不同反應(yīng)腔體制程取相對(duì)應(yīng)的藥液進(jìn)行除膜制程,完成進(jìn)入清洗流程。
[0022]在清洗前準(zhǔn)備完成后,即可進(jìn)行清洗流程,其步驟例如依序如下:一次IPA擦拭,使用無塵布沾取IPA(異丙醇)均勻擦拭零組件表面;純水沖洗,接續(xù)使用純水完全噴洗零組件表面;脫脂,再將零組件浸泡于配置溫度40?50°C、清潔劑(ALC0N0X Luminox)藥液中,以清除零組件表面油脂;二次純水沖洗,再使用純水完全噴洗零組件表面;二次IPA擦拭,將零組件轉(zhuǎn)置進(jìn)入無塵室,將零組件置放于平臺(tái),使用無塵布沾少許IPA(異丙醇)均勻擦拭零組件表面;超純水沖洗:在無塵室完全噴洗零組件表面,時(shí)間2?5分鐘;熱超純水浸泡,在無塵室,將零組件浸泡于溢流的超純水溫度40?50°C中,浸泡時(shí)間5?15分鐘;二次超純水沖洗,在無塵室內(nèi)使用超純水完全噴洗零組件表面;超音波清洗,在無塵室內(nèi)將零組件浸泡于溢流的超純水室溫中,搭配超音波頻率40kHz,進(jìn)行超音波清洗;再次超純水沖洗:在無塵室,使用超純水完全噴洗零組件表面;吹干,在無塵室,使用潔凈空氣或氮?dú)獯蹈闪憬M件表面;烘干:進(jìn)入無塵室內(nèi),將零組件置放于90?120°C的無塵爐中,烘烤時(shí)間大于60分鐘,烘烤后待零組件表面的溫度低于50°C ;吹氮?dú)猓跓o塵室,取出烘干后的零組件,使用氮?dú)獯盗憬M件表面;一次包裝,在無塵室,將零組件置放于充滿氮?dú)獾哪猃?Nylon)袋,利用封口機(jī)與抽氣設(shè)備進(jìn)行真空包裝;再次包裝,在無塵室,將尼龍(Nylon)袋包裝好的零組件置放于PE袋,利用封口機(jī)與抽氣設(shè)備進(jìn)行真空包裝;裝箱運(yùn)送,零組件取出無塵室,置放于專用通箱內(nèi),完成清洗流程,即可出貨至客戶端使用。
[0023]因此,在進(jìn)行噴砂處理時(shí),可利用本實(shí)施例的噴砂治具來覆蓋半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域(或特定區(qū)域),避免在噴砂過程中半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域被噴砂處理影響。
[0024]“在一些實(shí)施例中”及“在各種實(shí)施例中”等用語被重復(fù)地使用。該用語通常不是指相同的實(shí)施例;但它亦可以是指相同的實(shí)施例。“包含”、“具有”及“包括”等用詞是同義詞,除非其前后文意顯示出其它意思。
[0025]雖然各種方法、設(shè)備、及系統(tǒng)的例子已被描述于本文中,但本揭示內(nèi)容涵蓋的范圍并不局限于此。相反地,本揭示內(nèi)容涵蓋所有合理地落在權(quán)利要求界定的范圍內(nèi)的方法、設(shè)備、系統(tǒng)及制造之物,權(quán)利要求的范圍應(yīng)依據(jù)已被建立的申請(qǐng)專利范圍解釋原理來加以解讀。例如,雖然上面揭示的系統(tǒng)的例子在其它構(gòu)件之外還包括可自硬件上執(zhí)行的軟件或或韌體,但應(yīng)被理解的是,該等系統(tǒng)只是示范性的例子,并應(yīng)被解讀為是限制性的例子。詳言之,任何或所有被揭示的硬件、軟件、及/或韌體構(gòu)件可被專門地被體現(xiàn)為硬件、專門地被體現(xiàn)為軟件、專門地被體現(xiàn)為韌體、或硬件、軟件及/或韌體的一些組合。
[0026]綜上所述,雖然本實(shí)用新型已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上,但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本實(shí)用新型,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與潤飾,因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種噴砂治具,其特征在于:所述噴砂治具包括: 框體,用以覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域;以及 多個(gè)螺孔,設(shè)置于所述框體上,當(dāng)所述框體覆蓋于所述半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域上時(shí),多個(gè)螺絲是通過所述多個(gè)螺孔來固定所述框體。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴砂治具,其特征在于:當(dāng)所述噴砂治具固定于所述半導(dǎo)體設(shè)備的零件上時(shí),所述零件具有多個(gè)相應(yīng)螺孔來螺合所述噴砂治具的所述框體的所述多個(gè)螺孔及所述多個(gè)螺絲。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種噴砂治具。噴砂治具包括框體及多個(gè)螺孔,框體是用以覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域,多個(gè)螺孔是設(shè)置于框體上,當(dāng)框體覆蓋于半導(dǎo)體設(shè)備的零件的至少部分區(qū)域上時(shí),多個(gè)螺絲可通過多個(gè)螺孔來固定框體于半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域上,避免在噴砂過程中半導(dǎo)體設(shè)備零件的特定區(qū)域被噴砂處理影響。
【IPC分類】B24C9/00
【公開號(hào)】CN205111604
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520844736
【發(fā)明人】李澄盛
【申請(qǐng)人】世平科技(深圳)有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2015年10月28日
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