一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及機(jī)械加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極。
【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射鍍膜是工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主要的技術(shù)之一，與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，磁控濺射鍍膜具有許多優(yōu)點(diǎn)。例如，膜層和基體的附著力強(qiáng);在大面積連續(xù)基板上可以制取均勻膜層;容易控制膜的成分，可以制取各種不同成分和配比的合金膜;可以進(jìn)行反應(yīng)濺射、制取多種化合物膜，可方便地鍍制多層膜;便于工業(yè)化生產(chǎn)，易于實(shí)現(xiàn)連續(xù)化、自動(dòng)化操作等。
[0003]鍍膜廠商普遍關(guān)心的問(wèn)題是如何獲得附著力強(qiáng)、致密性好以及均勻度高的膜層。在濺射過(guò)程中，真空室溫度的高低，工藝氣體壓強(qiáng)的大小，靶面到基底的距離，濺射電源的選取等諸多因素都會(huì)影響到膜層的質(zhì)量。在正式濺射前也會(huì)采取一些措施，例如預(yù)濺射一段時(shí)間，在各工藝參數(shù)達(dá)到穩(wěn)態(tài)后才會(huì)對(duì)基底進(jìn)行鍍膜。
[0004]通常情況下，預(yù)濺射時(shí)會(huì)有擋板設(shè)置在陰極與基底之間，因?yàn)檫@時(shí)從靶面脫離的原子能量不穩(wěn)定，對(duì)膜層與基底的附著力和致密性會(huì)造成影響；如果靶面被污染，脫離的原子也不單單是陰極靶原子，破壞了膜層的成分。一般情況下，陰極擋板被制作成半圓筒狀，擋板的正常運(yùn)轉(zhuǎn)需要有制動(dòng)機(jī)構(gòu)和一定的空間，有時(shí)也會(huì)增加支撐機(jī)構(gòu)以保證擋板的轉(zhuǎn)動(dòng)順暢。但是在濺射過(guò)中隨著靶原子的轟擊，擋板的溫度會(huì)逐漸升高，以致發(fā)生形變，就會(huì)出現(xiàn)運(yùn)轉(zhuǎn)不暢或卡死的情況。本專利所提供的旋轉(zhuǎn)陰極則是令磁路組件旋轉(zhuǎn)180°，采用此旋轉(zhuǎn)陰極的鍍膜設(shè)備是不需要添加擋板裝置的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問(wèn)題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進(jìn)水管以及設(shè)置在進(jìn)水管外部的磁路組件，其中，在進(jìn)水管上端設(shè)置一個(gè)進(jìn)水軸，所述進(jìn)水軸與水接頭相連接，進(jìn)水軸與進(jìn)水管相通，在進(jìn)水軸的上端設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)氣缸。
[0007]—種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進(jìn)水軸通過(guò)設(shè)置聯(lián)動(dòng)法蘭實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)。
[0008]—種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，旋轉(zhuǎn)氣缸下方設(shè)置一個(gè)氣缸安裝板。
[0009]優(yōu)選的，進(jìn)水軸與進(jìn)水管連接處通過(guò)設(shè)置軸承傳動(dòng)。
[0010]優(yōu)選的，所述軸承設(shè)置有油封。
[0011 ]優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)氣缸選用的轉(zhuǎn)動(dòng)角度為180°的氣缸。
[0012]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:
[0013]本專利提供了一種磁路可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，磁路方向轉(zhuǎn)變時(shí)，靶原子轟擊的方向相應(yīng)改變，就不需要在陰極和基底之間添加擋板機(jī)構(gòu)，可以簡(jiǎn)化鍍膜設(shè)備并節(jié)省設(shè)備空間。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本發(fā)明剖視圖
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0016]如圖1所示，一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進(jìn)水管4以及設(shè)置在進(jìn)水管4外部的磁路組件，其特征在于:在進(jìn)水管4上端設(shè)置一個(gè)進(jìn)水軸30，所述進(jìn)水軸30與水接頭33相連接，進(jìn)水軸30與進(jìn)水管4相通，在進(jìn)水軸30的上端設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)氣缸31。
[0017]—種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，所述旋轉(zhuǎn)氣缸31與進(jìn)水軸30通過(guò)設(shè)置聯(lián)動(dòng)法蘭32實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)。
[0018]—種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其中，旋轉(zhuǎn)氣缸31下方設(shè)置一個(gè)氣缸安裝板29。
[0019]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，進(jìn)水軸30與進(jìn)水管4連接處通過(guò)設(shè)置軸承27傳動(dòng)。
[0020]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，所述軸承27設(shè)置有油封。
[0021]作為本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，所述旋轉(zhuǎn)氣缸31選用的轉(zhuǎn)動(dòng)角度為180°的氣缸。
[0022]為了實(shí)現(xiàn)磁路轉(zhuǎn)動(dòng)的目的，將主要圖1驅(qū)動(dòng)單元的結(jié)構(gòu)和各組件的功能。將磁流體19安裝在驅(qū)動(dòng)密封座18中，磁流體19外壁加工有膠圈槽和定位孔，膠圈槽用于密封真空，定位孔用于將磁流體19外環(huán)和驅(qū)動(dòng)密封座18固定，當(dāng)磁流體19內(nèi)環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，磁流體19和驅(qū)動(dòng)密封座18不會(huì)相對(duì)滑動(dòng)。將第一軸承20安裝在驅(qū)動(dòng)密封座18另一側(cè)，將轉(zhuǎn)軸組件36穿過(guò)磁流體19和第一軸承20的內(nèi)孔。轉(zhuǎn)軸組件36外壁有兩道膠圈槽用來(lái)和磁流體19內(nèi)表面密封真空，轉(zhuǎn)軸組件36中部突出部分還有一個(gè)銷孔，磁流體19內(nèi)環(huán)也加工有一個(gè)銷孔，用一個(gè)銷子將兩個(gè)銷孔連接，就保證了轉(zhuǎn)軸組件36轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)磁流體19內(nèi)環(huán)也會(huì)同步轉(zhuǎn)動(dòng)。將第二墊環(huán)35套在轉(zhuǎn)軸組件36外部，放置在第一軸承20上，再將同步輪21套在轉(zhuǎn)軸組件36外部，在兩者結(jié)合處加工有鍵槽，當(dāng)外部電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，同步輪21、轉(zhuǎn)軸組件36和磁流體19內(nèi)環(huán)會(huì)同步轉(zhuǎn)動(dòng)。將承壓環(huán)22安裝在轉(zhuǎn)軸組件36螺紋處，用來(lái)固定組裝件的軸向。
[0023]將第一油封24和水接頭33安裝在出水法蘭25相應(yīng)位置處，就組成了出水組件，將出水組件固定在水路安裝法蘭23上，進(jìn)而安裝在驅(qū)動(dòng)密封座18上。
[0024]將進(jìn)水管4按照?qǐng)D示和進(jìn)水軸30焊接在一起，將焊接件穿過(guò)進(jìn)水法蘭26，在進(jìn)水法蘭26兩端分別一次安裝第二油封28、第一墊環(huán)34和第二軸承27，注意第二油封28的唇口方向，再將水接頭33安裝在相應(yīng)位置，就組成了進(jìn)水組件?？蓪⑦M(jìn)水組件安裝在出水法蘭25上，再將氣缸安裝板29用螺栓固定在進(jìn)水法蘭26上。聯(lián)動(dòng)法蘭32安裝在旋轉(zhuǎn)氣缸31上，中心有一個(gè)方形孔，可以套在進(jìn)水軸30上方，并將旋轉(zhuǎn)氣缸31固定在氣缸安裝板29上，這時(shí)，驅(qū)動(dòng)單元組裝完成。
[0025]在開(kāi)始正式的磁控濺射鍍膜前的，還需要一項(xiàng)準(zhǔn)備工作，稱之為預(yù)濺射，用來(lái)清除靶表面的吸附氣體、各種污染物和氧化物。因此，在靶面與基底之間都會(huì)有一個(gè)活動(dòng)擋板使基底免受污染，也可以去除前期非穩(wěn)態(tài)時(shí)的粘附力弱的靶原子。本專利因?yàn)樵谶M(jìn)水組件兩端增加了第二油封28和第二軸承27，并改變了進(jìn)水管的結(jié)構(gòu)，增加了一段可以轉(zhuǎn)動(dòng)的進(jìn)水軸30，添加了制動(dòng)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)氣缸31，當(dāng)旋轉(zhuǎn)氣缸31在壓縮空氣的作用下轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，就會(huì)帶動(dòng)聯(lián)動(dòng)法蘭32、進(jìn)水軸焊接件和磁路組件一起轉(zhuǎn)動(dòng)。這時(shí)再次開(kāi)啟預(yù)濺射時(shí)，因?yàn)榇怕贩较虬l(fā)生變化，就不會(huì)有本段落開(kāi)頭部分所描述的靶表面的吸附氣體、污染物、氧化物和粘附力低的靶原子沉積在基底表面，就不需要傳統(tǒng)的擋板再對(duì)基底進(jìn)行遮擋。其中，第二油封28的作用是密封冷卻水，保證進(jìn)水軸30轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，水不會(huì)漏出；第二軸承27的作用是支撐進(jìn)水軸30轉(zhuǎn)動(dòng)，降低其運(yùn)動(dòng)過(guò)程中的摩擦，并保證回轉(zhuǎn)精度;進(jìn)水軸30的作用是增加冷卻水流量并支撐第二油封28，上方的矩形部分是和聯(lián)動(dòng)法蘭32連接，使旋轉(zhuǎn)氣缸31的動(dòng)力得以傳輸?shù)竭M(jìn)水軸30上;旋轉(zhuǎn)氣缸31優(yōu)先選取轉(zhuǎn)角180°，氣缸的載荷需考慮進(jìn)水軸焊接件所連接的磁路組件的重量和靶管內(nèi)部的冷卻水對(duì)磁路轉(zhuǎn)動(dòng)帶來(lái)的阻力。
[0026]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0027]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進(jìn)水管以及設(shè)置在進(jìn)水管外部的磁路組件，其特征在于:在進(jìn)水管上端設(shè)置一個(gè)進(jìn)水軸，所述進(jìn)水軸與水接頭相連接，進(jìn)水軸與進(jìn)水管相通，在進(jìn)水軸的上端設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)氣缸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進(jìn)水軸通過(guò)設(shè)置聯(lián)動(dòng)法蘭實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，旋轉(zhuǎn)氣缸下方設(shè)置一個(gè)氣缸安裝板。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，進(jìn)水軸與進(jìn)水管連接處通過(guò)設(shè)置軸承傳動(dòng)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述軸承設(shè)置有油封。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)氣缸選用的轉(zhuǎn)動(dòng)角度為180°的氣缸。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種預(yù)濺射時(shí)磁路組件可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，包括進(jìn)水管以及設(shè)置在進(jìn)水管外部的磁路組件，其中，在進(jìn)水管上端設(shè)置一個(gè)進(jìn)水軸，所述進(jìn)水軸與水接頭相連接，進(jìn)水軸與進(jìn)水管相通，在進(jìn)水軸的上端設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)氣缸。所述旋轉(zhuǎn)氣缸與進(jìn)水軸通過(guò)設(shè)置聯(lián)動(dòng)法蘭實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供了一種磁路可以轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)陰極，磁路方向轉(zhuǎn)變時(shí)，靶原子轟擊的方向相應(yīng)改變，就不需要在陰極和基底之間添加擋板機(jī)構(gòu)，可以簡(jiǎn)化鍍膜設(shè)備并節(jié)省設(shè)備空間。
【IPC分類】H01J37/34, C23C14/35
【公開(kāi)號(hào)】CN105624628
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610160459
【發(fā)明人】楊元才, 錢(qián)鵬亮, 鄭戰(zhàn)偉, 朱振東, 林晨, 周通, 譚新
【申請(qǐng)人】上海福宜真空設(shè)備有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2016年3月21日