一種過濾藍(lán)光防輻射的燈罩及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種過濾藍(lán)光防輻射的燈罩及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著現(xiàn)代生活照明設(shè)備的普遍使用，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，時間久了眼睛容易出現(xiàn)酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀，更嚴(yán)重的會出現(xiàn)視力下降，這些不舒服的癥狀是因為眼睛長時間處于燈光環(huán)境中，由燈光所散發(fā)出來的有害光線所致。燈光持續(xù)照射我們的眼睛還會引起視覺系統(tǒng)失調(diào)，因為這些光線里面含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍(lán)光，這些短波藍(lán)光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達(dá)視網(wǎng)膜，短波藍(lán)光持續(xù)照射視網(wǎng)膜會產(chǎn)生大量自由基離子，這些自由基離子會使得視網(wǎng)膜的色素上皮細(xì)胞衰亡，上皮細(xì)胞的衰亡會使感光細(xì)胞缺少養(yǎng)分而引起視力損傷;這些短波藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要起因，我們每天長時間面對燈光產(chǎn)生的藍(lán)光刺激，殊不知藍(lán)光波長短能量高，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。藍(lán)光約占可見光的50?60%，而藍(lán)光也是引起黃斑部病變的主要原因之一，嚴(yán)重可能導(dǎo)致失明。藍(lán)光會刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子，使得視網(wǎng)膜色素上皮的萎縮，再引起光敏感細(xì)胞的衰亡。
此外燈光還會不斷產(chǎn)生對人體有害的電子輻射、紫外線及遠(yuǎn)紅外線，隨著人民健康意識的提高，如何有效的減低或防止輻射傷害越來越受到重視了。
[0003]目前，主要是通過在燈具外設(shè)置燈罩，用以聚光或防風(fēng)雨以及解決上述問題，但是現(xiàn)有的燈罩過濾藍(lán)光的效果并不理想，另外，現(xiàn)有的燈罩較少有防輻射的功能，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，身體受到了極大的影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種過濾藍(lán)光防輻射的燈罩及其制造方法，該方法制造出來的燈罩能夠有效防止有害藍(lán)光和電子輻射等對人體的傷害。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種過濾藍(lán)光防輻射的燈罩，包括基板，所述基板的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層和第四膜層，所述第一膜層為五氧化三鈦層，第一膜層的厚度為10-1OOnm;所述第二膜層為二氧化娃層，第二膜層的厚度為50-100nm;所述第三膜層為金屬層，第三膜層的厚度為5-20nm;所述第四膜層為ITO層，第四膜層的厚度為1-1OOnm0
[0006]所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0007]所述金屬層的膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述基板為樹脂或玻璃成型。
[0009]所述燈罩的基板為樹脂成型時，所述燈罩的制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進(jìn)行清洗；
2)對基板的外表面進(jìn)行鍍膜； A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-1 OOnm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5_20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1A/S，第四膜層最終形成后的厚度為I O-1OOnm，其中第四膜層的膜材為ITO材料，形成ITO層。
[0010]所述步驟I)中，對基板清洗的具體方法如下:放在真空腔內(nèi)，用離子槍轟擊將基板放在真空腔內(nèi)，用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。
[0011]所述燈罩的基板為玻璃成型時，所述燈罩的制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進(jìn)行清洗；
2)對基板的外表面進(jìn)行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為lO-lOOnm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為lA/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1A/S，第四膜層最終形成后的厚度為lO-lOOnm，其中第四膜層的膜材為ITO材料，形成ITO層。
[0012]所述步驟I)中，對基板清洗的具體方法如下:放在真空腔內(nèi)，用離子槍轟擊將基板放在真空腔內(nèi)，用離子槍轟擊基板的外表面5-10分鐘。
[0013]本發(fā)明采用電子束真空蒸鍍的原理，利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點，將離子引向欲被鍍膜的基板制成的電極，并通過電子槍高溫轟擊將單質(zhì)存在的高純度金屬、金屬合金或其它氧化物蒸發(fā)出來的納米分子使其沿著一定的方向運(yùn)動到基板并最終在基板上沉積成膜的方法。本項發(fā)明技術(shù)結(jié)合利用磁場的特殊分布控制電場中的電子運(yùn)動軌跡，以此改進(jìn)鍍膜的工藝，使得鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的膜層致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高。
[0014]本發(fā)明的燈罩基片由樹脂成型時，通過本發(fā)明制造方法制得的燈罩各膜層在零下20 0C時的附著力為2-4hr s，在80 °C時的附著力為2_4hrs;本發(fā)明的燈罩基片由玻璃成型時，通過本發(fā)明制造方法制得的燈罩各膜層在零下20°C時的附著力為6-9hrs，在80°C時的附著力為6-9hrs。本發(fā)明在燈罩的基板上鍍有的多個膜層，五氧化三鈦層、二氧化硅層、金屬層相互配合，主要起到控制過濾藍(lán)光的效果，能有效的過濾33%以上有害藍(lán)光，同時金屬層能夠有效地提升清晰度，從而提高燈罩的整體清晰度，對于視覺的清晰度和真實性有著很好的貢獻(xiàn)，通過對有害藍(lán)光的過濾能有效的緩解視覺疲勞。ITO層的設(shè)置有效的切斷對人體有害的電子輻射、紫外線及遠(yuǎn)紅外線，起到了防輻射的效果。本發(fā)明方法通過控制壓力、溫度、鍍膜速率、清洗時長等參數(shù)得到高附著力的膜層，制造的燈罩具備良好的過濾藍(lán)光和防輻射性能。
【附圖說明】
[0015]以下結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明:
圖1為本發(fā)明過濾藍(lán)光防輻射的燈罩的分解圖。
【具體實施方式】
[0016]如圖1所示，本發(fā)明包括基板1，基板I的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層2、第二膜層3、第三膜層4和第四膜層5，第一膜層2為五氧化三鈦層，第一膜層2的厚度為1-1OOnm;第二膜層3為二氧化硅層，第二膜層3的厚度為50-100nm;第三膜層4為金屬層，第三膜層4的厚度為5_20nm;所述第四膜層5為ITO層，第四膜層5的厚度為1-1OOnm0
[0017]其中，金屬層膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并使用電子槍蒸鍍成型。金屬層也可以膜材為金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0018]另外，基板I為樹脂或玻璃成型。
[0019]實施例1
燈罩的基板I為樹脂成型時，該燈罩的制造方法具體包括以下步驟:
1)對基板I的外表面進(jìn)行清洗；
2)對基板I的外表面進(jìn)行鍍膜；
A、鍍第一膜層2:
將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層2的膜材，第一膜層2的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板I的外表面，同時控制第一膜層2蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層2最終形成后的厚度為lO-lOOnm，其中第一膜層2的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層3:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層3的膜材，第二膜層3的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層2的表面，同時控制第二膜層3蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層3最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層3的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層4:
保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空