一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，包括有底座，底座上設有與磁瓦外凸面配合的弧形墊板，弧形墊板的上端面設有橡膠層，弧形墊板的上方架設有高度可調(diào)式的圓柱形磨頭，圓柱形磨頭的兩端分別轉動安裝在門形固定架上，且一端伸出，伸出端由電機驅動，門形固定架的上端與其上方豎直的氣缸活塞桿連接，底座的兩端分別設有與待磨磁瓦兩端分別配合的限位頂塊，所述限位頂塊通過導桿導向配合的固定板上，固定板與限位頂塊之間的導桿上套裝有彈簧。本實用新型為專用的磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，使用時直接將待磨磁瓦放置在弧形墊板上，然后將磨頭正對磁瓦內(nèi)凹面的中部即可，其裝夾方便，人工勞動強度低，省時省力，而且弧度打磨精度，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。
【專利說明】—種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及磁瓦加工設備領域，尤其涉及一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置。
【背景技術】
[0002]在磁瓦加工成型后，需要對其尺寸進行精加工，而在對磁瓦的內(nèi)凹面進行打磨時，沒有專用的設備，采用磨床進行打磨工作效率低，而且操作麻煩，弧度打磨精度不容易控制，人工勞動強度大、費時費力、工作效率低，不能滿足使用要求。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的是為了彌補已有技術的不足，提供了一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置。
[0004]本實用新型是通過以下技術方案來實現(xiàn)的:
[0005]一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，包括有底座，其特征在于:所述底座上設有與磁瓦外凸面配合的弧形墊板，所述弧形墊板的上端面設有橡膠層，所述弧形墊板的上方架設有高度可調(diào)式的圓柱形磨頭，所述圓柱形磨頭的兩端分別轉動安裝在門形固定架上，且一端伸出，伸出端由電機驅動，所述門形固定架的上端與其上方豎直的氣缸活塞桿連接，所述底座的兩端分別設有與待磨磁瓦兩端分別配合的限位頂塊，所述限位頂塊通過導桿導向配合的固定板上，所述固定板與限位頂塊之間的導桿上套裝有彈簧。
[0006]本實用新型的優(yōu)點是:
[0007]本實用新型結構設計合理，為專用的磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，使用時直接將待磨磁瓦放置在弧形墊板上，然后將磨頭正對磁瓦內(nèi)凹面的中部即可，其裝夾方便，人工勞動強度低，省時省力，而且弧度打磨精度，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型側視圖。
[0009]圖2為本實用新型主視圖。
【具體實施方式】
[0010]參見附圖，一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，包括有底座1，底座I上設有與磁瓦外凸面配合的弧形墊板2，弧形墊板2的上端面設有橡膠層3，弧形墊板2的上方架設有高度可調(diào)式的圓柱形磨頭4，圓柱形磨頭4的兩端分別轉動安裝在門形固定架5上，且一端伸出，伸出端由電機6驅動，門形固定架5的上端與其上方豎直的氣缸活塞桿連接，底座I的兩端分別設有與待磨磁瓦兩端分別配合的限位頂塊7，限位頂塊7通過導桿8導向配合的固定板9上，固定板9與限位頂塊7之間的導桿上套裝有彈簧10。
【權利要求】
1.一種磁瓦內(nèi)凹面的打磨裝置，包括有底座，其特征在于:所述底座上設有與磁瓦外凸面配合的弧形墊板，所述弧形墊板的上端面設有橡膠層，所述弧形墊板的上方架設有高度可調(diào)式的圓柱形磨頭，所述圓柱形磨頭的兩端分別轉動安裝在門形固定架上，且一端伸出，伸出端由電機驅動，所述門形固定架的上端與其上方豎直的氣缸活塞桿連接，所述底座的兩端分別設有與待磨磁瓦兩端分別配合的限位頂塊，所述限位頂塊通過導桿導向配合的固定板上，所述固定板與限位頂塊之間的導桿上套裝有彈簧。
【文檔編號】B24B19/02GK203542298SQ201320686932
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年11月1日 優(yōu)先權日:2013年11月1日
【發(fā)明者】左根 申請人:安徽龍磁科技股份有限公司