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釬焊裝置以及釬焊方法

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釬焊裝置以及釬焊方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及噴射恪融的釬料的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]在印刷基板等的制造工序中,使用向?qū)ο笪镞M(jìn)行釬焊(日文九/?' )的釬焊裝置。作為這種釬焊裝置,已知如下的裝置:通過(guò)使熔融的釬料從噴射嘴噴射,并使以隆起的狀態(tài)從噴嘴口流動(dòng)的釬料與對(duì)象物接觸,由此在對(duì)象物上進(jìn)行釬焊。該釬焊裝置也被稱為“選擇釬焊裝置(或者點(diǎn)釬焊裝置)”,能夠選擇性地僅在印刷基板上的配置電子部件的區(qū)域等對(duì)象物的一部分區(qū)域進(jìn)行釬焊。
[0003]另外,作為這種選擇釬焊裝置,已知?dú)怏w供給方式的釬焊裝置(例如參照專利文獻(xiàn)1和2。)。在氣體供給方式的釬焊裝置中,通過(guò)向密封的釬料貯存槽供給氣體而從噴射嘴噴射釬料。
[0004]在先技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本專利申請(qǐng)公開2012-146842號(hào)公報(bào)
[0006]專利文獻(xiàn)2:日本專利申請(qǐng)公開2012-213782號(hào)公報(bào)
[0007]在氣體供給方式的釬焊裝置中,從噴射嘴噴射且未與對(duì)象物接觸就流出的釬料被回收到釬料回收槽。被回收到釬料回收槽的釬料經(jīng)由將釬料回收槽與釬料貯存槽連通的連通口而返回到釬料貯存槽并被再次利用。在從噴射嘴噴射釬料的情況下,連通口通過(guò)開閉閥而關(guān)閉,因此釬料貯存槽成為密封狀態(tài)。
[0008]然而,作為噴射釬料的釬料噴射裝置的結(jié)構(gòu)而考慮如下的結(jié)構(gòu):設(shè)置用于劃分單一的釬料容器的內(nèi)部空間的劃分板,將劃分板的上方設(shè)為釬料回收槽,將劃分板的下方設(shè)為釬料貯存槽。在該結(jié)構(gòu)的情況下,釬料回收槽配置在釬料貯存槽的上方,將釬料回收槽與釬料貯存槽連通的連通口設(shè)置于劃分板。
[0009]由于連通口配置在釬料供給槽的上部,因此在利用開閉閥關(guān)閉連通口并向釬料供給槽供給了氣體的情況下,氣體到達(dá)連通口的下方。其結(jié)果是,有時(shí)供給至釬料貯存槽的氣體會(huì)從連通口與開閉閥的接觸部分泄漏。另外,有時(shí)氣體還侵入到釬料容器與劃分板的邊界部分,供給至釬料貯存槽的氣體從該接觸部分泄漏。
[0010]這樣,當(dāng)氣體從釬料貯存槽漏出時(shí),無(wú)法將釬料貯存槽維持在密封狀態(tài),因此無(wú)法從噴射嘴穩(wěn)定地噴射釬料。其結(jié)果,有可能無(wú)法在對(duì)象物上準(zhǔn)確地進(jìn)行釬焊。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明正是鑒于上述技術(shù)問(wèn)題而完成的,其第一目的在于,防止從釬料貯存槽泄漏氣體。
[0012]通常,作為釬焊裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方式,采用始終從噴射嘴噴射釬料的連續(xù)噴射式。但是,在連續(xù)噴射式的釬焊裝置中,在不進(jìn)行釬焊的狀態(tài)下也使釬料持續(xù)地噴射,因此產(chǎn)生了能量的浪費(fèi)。另外,由于釬料始終在噴射嘴的外周流動(dòng),因此,被稱為“釬料吞噬”的噴射嘴的劣化迅速發(fā)展,導(dǎo)致噴射嘴的耐久性變短。
[0013]另一方面,已知從噴射嘴間歇地噴射釬料的間歇噴射式的釬焊裝置(例如參照專利文獻(xiàn)2)。在這種釬焊裝置中,由于在進(jìn)行釬焊的情況之外不使釬料噴射,因此能夠應(yīng)對(duì)上述那樣的問(wèn)題。
[0014]然而,在間歇噴射式的釬焊裝置中,在不使釬料噴射的期間內(nèi),噴射嘴成為以高溫狀態(tài)暴露于外部空氣的狀態(tài)。因此,在噴射嘴的外周,產(chǎn)生氧化或焊劑燒結(jié)等現(xiàn)象,有時(shí)由于該現(xiàn)象而引起噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性變差。當(dāng)在噴射嘴的外周的局部潤(rùn)濕性變差時(shí),從噴射嘴流出的釬料不在噴射嘴的外周整體流動(dòng),在釬料的流動(dòng)中產(chǎn)生偏倚。其結(jié)果是,形成于噴射嘴的噴嘴口的釬料的流動(dòng)形狀發(fā)生變化,有可能無(wú)法在對(duì)象物的規(guī)定的區(qū)域準(zhǔn)確地進(jìn)tx奸焊。
[0015]本發(fā)明正是鑒于上述技術(shù)問(wèn)題而完成的,其第二目的在于,維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。
[0016]為了實(shí)現(xiàn)上述第一目的,本發(fā)明可采用的第一方式涉及噴射釬料的釬料噴射裝置,其具備:
[0017]釬料容器,其收容熔融的釬料;
[0018]噴射嘴,其噴射所述釬料;
[0019]劃分板,其將所述釬料容器的內(nèi)部劃分為,所述釬料容器的上部是回收從所述噴射嘴流出的所述釬料的釬料回收槽,所述釬料容器的下部是接受氣體的供給而向所述噴射嘴供給所述釬料的釬料貯存槽;
[0020]連通口,其形成于所述劃分板,將所述釬料回收槽與所述釬料貯存槽連通;
[0021]開閉閥,其使所述連通口開閉;以及
[0022]第一筒狀構(gòu)件,其上端與所述劃分板的下表面接合并包圍所述連通口的下部整體,該第一筒狀構(gòu)件的下端配置在所述釬料貯存槽的底面附近。
[0023]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),通過(guò)包圍連通口的下部整體的第一筒狀構(gòu)件,氣體不會(huì)進(jìn)入到連通口的下部。因此,能夠防止連通口與開閉閥的接觸部分處的氣體的泄漏。
[0024]上述的釬料噴射裝置也可以具備罩構(gòu)件,該罩構(gòu)件的上端與所述劃分板的下表面接合并覆蓋所述劃分板與所述釬料容器的邊界部分的整體,該罩構(gòu)件的下端沿著所述釬料容器的內(nèi)表面配置在所述釬料貯存槽的底面附近。
[0025]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),通過(guò)罩構(gòu)件,氣體不會(huì)進(jìn)入到劃分板與釬料容器的邊界部分。因此,能夠防止劃分板與釬料容器的邊界部分處的氣體的泄漏。
[0026]上述的釬料噴射裝置也可以具備第二筒狀構(gòu)件,該第二筒狀構(gòu)件的下端配置在所述釬料貯存槽的內(nèi)部,該第二筒狀構(gòu)件成為從所述釬料貯存槽向所述噴射嘴供給所述釬料的供給路徑。在該情況下,所述第一筒狀構(gòu)件的下端的位置比所述第二筒狀構(gòu)件的下端的位置低。
[0027]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),即便釬料貯存槽中的釬料的液面下降,氣體也不會(huì)進(jìn)入到第一筒狀構(gòu)件。
[0028]在上述的釬料噴射裝置具備所述罩構(gòu)件和所述第二筒狀構(gòu)件的情況下,能夠構(gòu)成為所述罩構(gòu)件的下端的位置比所述第二筒狀構(gòu)件的下端的位置低。
[0029]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),即便釬料貯存槽中的釬料的液面下降,氣體也不會(huì)進(jìn)入到罩構(gòu)件與釬料容器之間。
[0030]為了實(shí)現(xiàn)上述第一目的,本發(fā)明可采用的第二方式涉及噴射釬料的釬料噴射裝置,其具備:
[0031]釬料容器,其收容熔融的釬料;
[0032]噴射嘴,其噴射所述釬料;
[0033]劃分板,其將所述釬料容器的內(nèi)部劃分為,所述釬料容器的上部是回收從所述噴射嘴流出的所述釬料的釬料回收槽,所述釬料容器的下部是接受氣體的供給而向所述噴射嘴供給所述釬料的釬料貯存槽;以及
[0034]罩構(gòu)件,其上端與所述劃分板的下表面接合并覆蓋所述劃分板與所述釬料容器的邊界部分的整體,所述罩構(gòu)件的下端沿著所述釬料容器的內(nèi)表面配置在所述釬料貯存槽的底面附近。
[0035]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),通過(guò)罩構(gòu)件,氣體不會(huì)進(jìn)入到劃分板與釬料容器的邊界部分。因此,能夠防止劃分板與釬料容器的邊界部分處的氣體的泄漏。
[0036]在上述第一方式與第二方式所涉及的釬料噴射裝置中,也可以構(gòu)成為,在所述噴射嘴沿鉛垂方向延伸的情況下,在所述噴射嘴的外周的至少所述上端部的附近,以沿著水平方向延伸的方式形成有凹槽。
[0037]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),能夠使從噴射嘴的上端部流出的釬料殘留于凹槽。由此,即便在不從噴射嘴噴射釬料的狀態(tài)下,也能夠維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。
[0038]所述凹槽也可以形成為在所述噴射嘴的所述外周連續(xù)地環(huán)繞一周。
[0039]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),能夠使釬料殘留于噴射嘴的外周整體,因此能夠使釬料均勻地在噴射嘴的外周整體流動(dòng)。
[0040]在此,也可以構(gòu)成為,所述凹槽設(shè)置有多個(gè)。
[0041]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),至少在形成有多個(gè)凹槽的范圍內(nèi),能夠更可靠地維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。
[0042]在此,也可以構(gòu)成為,多個(gè)所述凹槽分別獨(dú)立。
[0043]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),釬料不會(huì)從某個(gè)凹槽向其他的凹槽流出,能夠使釬料可靠地殘留在凹槽內(nèi)。
[0044]上述的釬料噴射裝置也可以構(gòu)成為,從所述噴射嘴間歇地噴射所述釬料。
[0045]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),在間歇地噴射釬料的情況下,也能夠維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。
[0046]為了實(shí)現(xiàn)上述第一目的,本發(fā)明可采用的第三方式涉及向?qū)ο笪镞M(jìn)行釬焊的釬焊裝置,其具備:
[0047]上述第一方式所涉及的釬料噴射裝置;以及
[0048]氣體供給部,其向所述釬料貯存槽供給所述氣體。
[0049]為了實(shí)現(xiàn)上述第二目的,本發(fā)明可采用的第四方式涉及噴射釬料的釬料噴射裝置,其具備:
[0050]釬料貯存槽,其收容熔融的所述釬料;以及
[0051]噴射嘴,其沿著鉛垂方向延伸,從上端部噴射從所述釬料貯存槽供給的所述釬料,
[0052]在所述噴射嘴的外周的至少所述上端部的附近,以沿著水平方向延伸的方式形成有多個(gè)凹槽,
[0053]多個(gè)所述凹槽以彼此不連接的方式在所述鉛垂方向上以等間隔排列。
[0054]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),能夠使從噴射嘴的上端部流出的釬料殘留于凹槽。由此,即便在不從噴射嘴噴射釬料的狀態(tài)下,也能夠維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。另外,釬料不會(huì)從某個(gè)凹槽向其他的凹槽流出,能夠使釬料可靠地殘留在凹槽內(nèi)。
[0055]所述凹槽也可以構(gòu)成為,在所述噴射嘴的所述外周環(huán)繞一周。
[0056]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),能夠使釬料殘留于噴射嘴的外周整體,因此能夠使釬料均勻地在噴射嘴的外周整體流動(dòng)。
[0057]優(yōu)選所述噴射嘴的形成多個(gè)所述凹槽的部分為圓筒形狀。
[0058]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),能夠遍及噴射嘴的整周確保均勻的釬料保持力。因此,能夠遍及噴射嘴的整周維持均勻的潤(rùn)濕性。
[0059]上述的釬料噴射裝置也可以構(gòu)成為,從所述噴射嘴間歇地噴射所述釬料。
[0060]根據(jù)這種結(jié)構(gòu),在間歇地噴射釬料的情況下,也能夠維持噴射嘴的外周的潤(rùn)濕性。[0061 ] 為了實(shí)現(xiàn)上述第二目的,本發(fā)明可采用的第五方式涉及向?qū)ο笪镞M(jìn)行釬焊的釬焊裝置,其具備:
[0062]上述第四方式所涉及的釬料噴射裝置;以及
[0063]移動(dòng)機(jī)構(gòu),其改變所述對(duì)象物與所述釬料噴射裝置的相對(duì)位置。
【附圖說(shuō)明】
[0064]圖1是示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式所涉及的釬焊裝置的外觀的立體圖。
[0065]圖2是圖1的釬焊裝置的分解立體圖。
[0066]圖3是示出圖1的釬焊裝置的概要結(jié)構(gòu)的框圖。
[0067]圖4是示出圖1的釬焊裝置所具備的釬料噴射裝置的外觀的立體圖。
[0068]圖5是示出圖4的釬料噴射裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖。
[0069]圖6是示出組裝圖4的釬料噴射裝置的工序的一部分的圖。
[0070]圖7是圖4的釬料噴射裝置的分解立體圖。
[0071]圖8是示出圖4的釬焊裝置的基本動(dòng)作流程的圖。
[0072]圖9是示出圖4的釬料噴射裝置的初始狀態(tài)的圖。
[0073]圖10是示出圖4的釬料噴射裝置的一個(gè)狀態(tài)的圖。
[0074]圖11是對(duì)使用了圖4的釬料噴射裝置的釬焊處理的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明的圖。
[0075]圖12是示出圖4的釬料噴射裝置的一個(gè)狀態(tài)的圖。
[0076]圖13是示出成為比較例的釬料噴射裝置的圖。
[0077]圖14是示出圖4的釬料噴射裝置的一個(gè)狀態(tài)的圖。
[0078]圖15是示出氣體的壓力以及流量的時(shí)間性變化的圖。
[0079]圖16是對(duì)所噴射的釬料的流量下降的原理進(jìn)行說(shuō)明的圖。
[0080]圖17是示出與向圖4的釬料噴射裝置供給氣體關(guān)聯(lián)的結(jié)構(gòu)的圖。
[0081]圖18是示出氣體的壓力以及流量的時(shí)間性變化的圖。
[0082]圖19是示出與向圖4的釬料噴射裝置供給氣體相關(guān)的動(dòng)作流程的圖。
[0083]圖20是示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式所涉及的釬料噴射裝置的外觀的立體圖。
[0084]圖21是示出圖20的釬料噴射裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖。
[0085]圖22是圖20的釬料噴射裝置的分解立體圖。
[0086]圖23是表示圖20的釬料噴射裝置的初始狀態(tài)的圖。
[0087]圖24是表示圖20的釬料噴射裝置的一個(gè)狀態(tài)的圖。
[0088]圖25
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