一種線光源裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種線光源裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前線掃描相機(jī)所用重要光源是線光源，由于線光源的出射角度比較固定。如圖1所示，第一線光源I包括，光源11以及聚光單元12，光源11將光線垂直射入聚光單元12，使得現(xiàn)有的線光源具有一定的局限性。
[0003]有鑒于上述的缺陷，本設(shè)計(jì)人，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的線光源裝置，使其更具有產(chǎn)業(yè)上的利用價(jià)值。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種線光源裝置。
[0005]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0006]—種線光源裝置，其特征在于:所述線光源裝置為聚光單元組，所述聚光單元組包括聚光單元和外殼，所述聚光單元設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述聚光單元包括光源、轉(zhuǎn)向光導(dǎo)以及聚光Lens。
[0007]進(jìn)一步的，所述轉(zhuǎn)向光導(dǎo)優(yōu)選為傾斜形。
[0008]進(jìn)一步的，所述轉(zhuǎn)向光導(dǎo)優(yōu)選為靠近所述光源一端為直線形，靠近所述聚光Lens一端為傾斜形。
[0009]借由上述方案，本實(shí)用新型至少具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0010]本實(shí)用新型裝置是的光源方向與原方案相比有一定的角度傾斜，可以更好地照射待檢測(cè)物表面。
[0011]上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。
【附圖說明】
[0012]圖1是【背景技術(shù)】中線光源結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是聚光單元組第一實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖3是聚光單元組第二實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。
[0016]實(shí)施例1
[0017]參見圖2，本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例所述的一種線光源裝置，線光源裝置為聚光單元組，聚光單元組包括聚光單元和外殼11組成，聚光單元設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述聚光單兀由光源12、轉(zhuǎn)向光導(dǎo)14以及聚光Lens 13組成，轉(zhuǎn)向光導(dǎo)14優(yōu)選為靠近所述光源一端為直線形，靠近所述聚光Lens—端為傾斜形。
[0018]實(shí)施例2
[0019]參見圖3，本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例所述的一種線光源裝置，線光源裝置為聚光單元組，聚光單元組包括聚光單元和外殼11組成，聚光單元設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述聚光單元由光源12、轉(zhuǎn)向光導(dǎo)14以及聚光Lensl3組成，轉(zhuǎn)向光導(dǎo)14優(yōu)選為傾斜形。
[0020]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，并不用于限制本實(shí)用新型，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種線光源裝置，其特征在于:所述線光源裝置為聚光單元組，所述聚光單元組包括聚光單元和外殼，所述聚光單元設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述聚光單元包括光源、轉(zhuǎn)向光導(dǎo)以及聚光Lens。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線光源裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)向光導(dǎo)優(yōu)選為傾斜形。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線光源裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)向光導(dǎo)優(yōu)選為靠近所述光源一端為直線形，靠近所述聚光Lens—端為傾斜形。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種線光源裝置，所述線光源裝置為聚光單元組，所述聚光單元組包括聚光單元和外殼，所述聚光單元設(shè)置在所述外殼內(nèi)部，所述聚光單元包括光源、轉(zhuǎn)向光導(dǎo)以及聚光Lens。本實(shí)用新型裝置是的光源方向與原方案相比有一定的角度傾斜，可以更好地照射待檢測(cè)物表面。
【IPC分類】F21V13/02, F21V8/00, F21S4/00
【公開號(hào)】CN205372182
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520876416
【發(fā)明人】張智海, 易永祥
【申請(qǐng)人】蘇州威盛視信息科技有限公司
【公開日】2016年7月6日
【申請(qǐng)日】2015年11月5日