專利名稱：用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及質譜儀領域，具體的涉及一種用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)。
背景技術：
質譜儀又稱質譜計，一種分離和檢測不同同位素的儀器，即根據帶電粒子在電磁 場中能夠偏轉的原理，按物質原子、分子或分子碎片的質量差異進行分離和檢測物質組成 的一類儀器。質譜儀以離子源、質量分析器和離子檢測器為核心。離子源是使試樣分子在 高真空條件下離子化的裝置。電離后的分子因接受了過多的能量會進一步碎裂成較小質量 的多種碎片離子和中性粒子。它們在加速電場作用下獲取具有相同能量的平均動能而進入 質量分析器。質量分析器是將同時進入其中的不同質量的離子，按質荷比m/z大小分離的 裝置。分離后的離子依次進入離子檢測器，采集放大離子信號，經計算機處理，繪制成質譜 圖。離子源、質量分析器和離子檢測器都各有多種類型。質譜儀按應用范圍分為同位素質 譜儀、無機質譜儀和有機質譜儀；按分辨本領分為高分辨、中分辨和低分辨質譜儀；按工作 原理分為靜態(tài)儀器和動態(tài)儀器。質譜儀的真空度是影響離子運動速率的重要因素，真空度不足容易導致離子與氣 體分子碰撞，從而降低離子的運動速率，對質量分析器的電信號和檢測器電信號之間對應 關系的影響主要是體現(xiàn)時間對應性等方面從而影響質量準確度，同時真空度不足導致的離 子運動速率變化也會影響質譜儀的分辨率。但現(xiàn)有質譜儀的真空腔的設計普遍存在真空度 不足的問題。
實用新型內容為了克服現(xiàn)有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種用于質譜儀的真空腔 系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以保證質譜儀的真空度達到一個較高的水平。為解決上述技術問題，實現(xiàn)上述技術效果，本實用新型采用如下技術方案一種用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其包括一真空腔，所述真空腔通過一連接腔連接 一分子泵，所述分子泵連接一不銹鋼管。優(yōu)選的，所述真空腔還連接一真空規(guī)。優(yōu)選的，所述真空腔兩端設有端蓋，所述端蓋與真空腔連接處加設有0型密封圈。優(yōu)選的，所述真空腔的表面粗糙度Ra達到0. 8-1. 6。優(yōu)選的，所述真空腔使用的是鋁材料。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)采用分子泵來產生高真 空，通過采用高精度的表面粗糙度(0. 8-1. 6)，避免表面的高吸附性對真空的影響，以及使 用鋁材料使得質量非常的輕，表面吸附少，同時使用密封圈對真空腔進行密封，減少了成本 以及拆裝方便。上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技 術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。本實用新型的具體實施方式
由以下實施例及其附圖詳細給出。
圖1為本實用新型的用于質譜儀真空腔系統(tǒng)的結構示意圖。圖2為本實用新型的用于質譜儀真空腔系統(tǒng)的真空腔的剖視圖。圖中標號說明1.真空腔，2.分子泵，3.不銹鋼管，4.真空規(guī)，5.連接腔，6.0型密 封圈，7.端蓋。
具體實施方式

以下結合附圖，對本實用新型的優(yōu)選實施例進行詳細的介紹。請參見圖1，圖2所示，一種用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其包括一真空腔1，所述真 空腔1通過一連接腔5連接一分子泵2，所述分子泵2連接一不銹鋼管3。優(yōu)選的，所述真空腔1還連接一真空規(guī)4。優(yōu)選的，所述真空腔1兩端設有端蓋7，所述端蓋7與真空腔1連接處加設有0型 密封圈6。優(yōu)選的，所述真空腔1的表面粗糙度Ra達到0. 8-1. 6。優(yōu)選的，所述真空腔1使用的是鋁材料。以上對本實用新型實施例所提供的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)進行了詳細介紹，對 于本領域的一般技術人員，依據本實用新型實施例的思想，在具體實施方式
及應用范圍上 均會有改變之處，因此凡依本實用新型設計思想所做的任何改變都在本實用新型的保護范 圍之內。
權利要求1.一種用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其特征在于包括一真空腔(1)，所述真空腔(1)通 過一連接腔( 連接一分子泵O)，所述分子泵( 連接一不銹鋼管(3)。
2.根據權利要求1所述的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其特征在于所述真空腔(1)還 連接一真空規(guī)(4)。
3.根據權利要求1所述的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其特征在于所述真空腔(1)兩 端設有端蓋(7)，所述端蓋(7)與真空腔(1)連接處加設有0型密封圈(6)。
4.根據上述權利要求1至3中任意一項所述的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其特征在于 所述真空腔(1)的表面粗糙度Ra達到0. 8-1. 6。
5.根據上述權利要求1至3中任意一項所述的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其特征在于 所述真空腔(1)材料為鋁材料。
專利摘要本實用新型公開了一種用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)，其包括一真空腔，所述真空腔通過一連接腔連接一分子泵，所述分子泵連接一不銹鋼管，所述真空腔還連接一真空規(guī)，所述真空腔兩端設有端蓋，所述端蓋與真空腔連接處加設有O型密封圈，所述真空腔的表面粗糙度Ra達到0.8-1.6，所述真空腔使用的是鋁材料。本實用新型的用于質譜儀的真空腔系統(tǒng)結構簡單，易于拆裝，可以保證質譜儀的真空度達到一個較高的水平。
文檔編號H01J49/04GK201829450SQ20102021807
公開日2011年5月11日 申請日期2010年6月8日 優(yōu)先權日2010年6月8日
發(fā)明者任建凱, 胡曉斌 申請人:江蘇天瑞儀器股份有限公司