一種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，包括透明基板，其特征在于：在所述透明基板上通過磁控濺射鍍膜的方式形成厚度為250nm~750nm的金屬鍍層，所述金屬鍍層由多層的Si鍍層、NiCr鍍層、MoSi2鍍層和Ti鍍層交替附著于所述透明基板表面。本實用新型采用磁控濺射鍍膜的方式形成特殊構(gòu)造的復(fù)合金屬鍍層，對波長為420~480nm的藍(lán)光具有高反射率，平均反射率達(dá)到83%以上；而對其它波長的可見光具有高透過率，透射比達(dá)到82%以上。
【專利說明】
-種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實用新型屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體設(shè)及一種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄 膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 短波藍(lán)光是波長處于400nm-480nm之間具有相對較高能量的光線。該波長內(nèi)的藍(lán) 光會使眼睛內(nèi)的黃斑區(qū)毒素量增高，嚴(yán)重威脅我們的眼底健康。藍(lán)光誘發(fā)致盲眼病。早在 1966年化11等研究發(fā)現(xiàn)藍(lán)光的照射可W引起視網(wǎng)膜細(xì)胞的損傷，導(dǎo)致視力下降甚至喪失。 其中，波長400-480納米之間的短波藍(lán)光對視網(wǎng)膜的危害程度最大。在2010年國際光協(xié)會年 會中，世界頂尖光學(xué)專家一致指出：短波藍(lán)光具有極高能量，能夠穿透晶狀體直達(dá)視網(wǎng)膜。 藍(lán)光照射視網(wǎng)膜會產(chǎn)生自由基，而運些自由基會導(dǎo)致視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞衰亡，上皮細(xì)胞 的衰亡會導(dǎo)致光敏感細(xì)胞缺少養(yǎng)分從而引起視力的永久性損傷。
[0003] 如今科技迅速發(fā)展的時代，隨著電子數(shù)碼產(chǎn)品的普及，人們每天都離不開電腦，筆 記本，平板電腦等數(shù)碼產(chǎn)品，在提高工作效率，享受娛樂生活的同時，也應(yīng)該注意到運些電 子設(shè)備的屏幕發(fā)出的大量高能短波藍(lán)光，正在損傷我們的雙眼。
[0004] 目前市場上出現(xiàn)的防藍(lán)光產(chǎn)品通常采用在過濾膜片上增加化學(xué)助劑涂層的方式， 來吸收過濾部分藍(lán)光，如CN20140681543.4和CN201510257196.7等，但其實際效果并不能令 人滿意。 【實用新型內(nèi)容】
[0005] 針對【背景技術(shù)】中存在的問題，本實用新型提供了一種通過磁控瓣射鍛膜形成的對 藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜。
[0006] 本實用新型采用的技術(shù)方案是：
[0007] -種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，包括透明基板，其特征在于:在所述透明基 板上通過磁控瓣射鍛膜的方式形成厚度為250皿~750nm的金屬鍛層，所述金屬鍛層包括多 層的Si鍛層、Ni化鍛層、MoSi2鍛層和Ti鍛層交替附著于所述透明基板表面。
[000引進(jìn)一步地，所述的金屬鍛層由基板表面向上依次為：膜厚為45~55nm的Si鍛層，膜 厚為10~20nm的NiCr鍛層，膜厚為15~25nm的MoSi2鍛層，膜厚為45~55nm的Ti鍛層。
[0009] 進(jìn)一步地，所述Si鍛層為2~4層;所述Μ化鍛層為1~3層;所述MoSi2鍛層為4~10層； 所述Ti鍛層為2~4層。
[0010] 本實用新型光學(xué)薄膜選擇51、化0、1〇512、11四種祀材，采用磁控瓣射鍛膜的方式 形成特殊構(gòu)造的復(fù)合金屬鍛層，對波長為420~480nm的藍(lán)光具有高反射率，平均反射率達(dá)到 83%W上;而對其它波長的可見光具有高透過率，透射比達(dá)到82%W上。
【附圖說明】
[0011] 圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012] 圖2為本實用新型的反射率測試結(jié)果曲線圖；
[0013] 圖3為本實用新型的透射比測試結(jié)果曲線圖；
[0014] 圖中：1.透明基板2.第一金屬鍛層3.第二金屬鍛層4.第Ξ金屬鍛層5.第 四金屬鍛層。
【具體實施方式】
[0015] 下面結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)一步描述：
[0016] 如圖1所示的一種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，包括透明基板1，其特征在于： 在所述透明基板1上通過磁控瓣射鍛膜的方式形成厚度為250nm~750nm的金屬鍛層，所述金 屬鍛層為多層的Si鍛層、NiCr鍛層、MoSi2鍛層和Ti鍛層交替附著于所述透明基板表面。所 述的金屬鍛層由基板表面向上依次為:膜厚為45~55nm的Si鍛層，膜厚為10~2化m的NiCr鍛 層，膜厚為15~25nm的MoSi2鍛層，膜厚為45~55nm的Ti鍛層。所述Si鍛層為2~4層;所述NiCr 鍛層為層;所述MoSi2鍛層為4~10層;所述Ti鍛層為2~4層。
[0017] 將本實用新型的光學(xué)薄膜樣片進(jìn)行檢測，測試結(jié)果如下：
[001引檢測依據(jù):JJG1034-2008《光譜光度計標(biāo)準(zhǔn)濾光鏡》
[0019]檢測地點:深圳市計量質(zhì)量檢測研究院光學(xué)108室
[0020] 環(huán)境條件:溫度24°C，相對濕度69%
[0021] 表1反射率測試結(jié)果_
[0023]~~由測試結(jié)果可知，本實用新型的光學(xué)薄膜對波長為420~480nm的藍(lán)光具有高反射' 率，反射率達(dá)73.32%~88.27%，平均反射率達(dá)到83% W上;而對其它波長的可見光具有高透過 率，平均透射比達(dá)到82.92〇/〇。
[0024] W上例舉僅僅是對本實用新型的舉例說明，并不構(gòu)成對本實用新型的保護(hù)范圍的 限制，凡是與本實用新型相同或相似的設(shè)計均屬于本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，包括透明基板，其特征在于:在所述透明基板 上通過磁控派射鍍膜的方式形成厚度為250nm~750nm的金屬鍍層，所述金屬鍍層由多層的 Si鍍層、NiCr鍍層、M〇Si2鍍層和Ti鍍層交替附著于所述透明基板表面。2. 如權(quán)利要求1所述的對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述的金屬鍍層 由基板表面向上依次為:膜厚為45~55nm的Si鍍層，膜厚為10~20nm的NiCr鍍層，膜厚為15~ 25nm的MoSi 2鍍層，膜厚為45~55nm的Ti鍍層。3. 如權(quán)利要求2所述的對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，其特征在于:所述Si鍍層為2~ 4層。4. 如權(quán)利要求2所述的對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，其特征在于:所述Ti鍍層為1~ 3層。5. 如權(quán)利要求2所述的對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，其特征在于:所述Ti鍍層為4~ 10層。6. 如權(quán)利要求2所述的對藍(lán)光具有高反射率的光學(xué)薄膜，其特征在于:所述Si鍍層為2~ 4層。
【文檔編號】G02B5/26GK205450327SQ201521099530
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2015年12月28日
【發(fā)明人】任永安, 韓毅, 魏東
【申請人】渭南像王光電顯示技術(shù)開發(fā)有限公司