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用于曝光的光源模塊單元及包括該光源模塊單元的曝光裝置的制造方法_2

文檔序號:10192978閱讀:來源:國知局
br>[0031]此外,根據(jù)利用本實用新型的用于曝光的光源模塊單元,通過低耗電的使用、光源替換費用的節(jié)省、曝光設備運轉時間的提高及環(huán)境問題的解決等,從而可期待如下效果:有突破性地節(jié)省維修費用。
[0032]不僅如此,利用本實用新型的用于曝光的光源模塊單元,根據(jù)需要特別高效率高輸出的單一波長及短波長的紫外線光,使得自由選擇使用成為可能,因此通過作為高品質(zhì)的曝光性能實現(xiàn)的核心技術的圖案微細化,使得高分辨率成為可能。
【附圖說明】
[0033]圖1是對根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元進行示出的簡略分離立體圖。
[0034]圖2是為了說明根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的單位光源和聚光透鏡(lens)列陣(array)構造而進行模式化示出的簡略立體圖。
[0035]圖3是對構成為根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的單位光源的紫外線發(fā)光元件的列陣構造進行模式化展示的簡略平面圖。
[0036]圖4及圖5是分別為了說明根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的單位光源和聚光透鏡的偏心列陣構造而展示的模式圖。
[0037]圖6是表示與根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的聚光結構相關的集光量的測定結果的圖表。
[0038]圖7是對根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的光照射狀態(tài)進行拍攝并展示的圖。
[0039]圖8及圖9是分別對使得根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元在互不相同的殼體(housing)得以單元化的狀態(tài)進行簡略示出的外觀立體圖。
[0040]圖10及圖11是分別對根據(jù)本實用新型的另一實施例的用于曝光的光源模塊單元和聚光透鏡列陣構造進行示出的簡略立體圖及平面圖。
[0041]圖12是對通過根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元和作為現(xiàn)有的用于曝光的光源的水銀燈(Hg Lamp)分別形成于晶元的電路圖案的重點部位進行拍攝,并對根據(jù)掩膜(mask)線寬的CD值測定結果進行相互比較并示出的圖。
[0042]圖13是對根據(jù)電路圖案掩膜線寬的CD值測定結果進行比較,并以圖表顯示的圖,所述電路圖案是通過根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元和作為現(xiàn)有的用于曝光的光源的水銀燈(Hg Lamp)分別形成于晶元的電路圖案。
[0043]圖14是對使用根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元的曝光裝置的重要部位進行抽選并模式化示出的簡略構成圖。
【具體實施方式】
[0044]以下,參照附圖對根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元進行詳細說明。以下的說明內(nèi)容和附圖只是以本實用新型的優(yōu)選實施例為主而進行的說明,并非限定權利要求所記載的本實用新型的用于曝光的光源模塊單元。
[0045]參照圖1及圖2,根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100包括:光源板110,其構成為,多個單位紫外線發(fā)光元件(UV LED) 111以矩陣(matrix)形態(tài)的列陣構造安裝于電路基板112上并裝載于支撐板113 ;光學板120,其具有如下構造,多個單位聚光透鏡121以從與所述紫外線發(fā)光元件111列陣的間隔p分別對應的間隔p的位置相對主光軸向穿過所述光源板110上的紫外線發(fā)光元件111列陣的中心0(參照圖2)的任意基準中心軸線側偏心的狀態(tài)el、e2的矩陣形態(tài)的列陣結構設置在為了與所述光源板110相互面對而配置于所述紫外線發(fā)光元件111的光射出側的透鏡板(LENS PANEL) 122。
[0046]根據(jù)本實用新型的一個側面,如圖1所示,優(yōu)選地,所述紫外線發(fā)光元件111,一列以上以射出lOOnm波長至410nm波長范圍的紫外線光的芯片(chip)、封裝(package)或芯片和封裝的混合形態(tài)的LED光源安裝在帶形態(tài)的單位電路基板112。
[0047]由此,就所述光源板110而言,多個帶形態(tài)的單位電路基板112以并排列陣的狀態(tài)分別裝載于支撐板113上,并且安裝于各個單位電路基板112的紫外線發(fā)光元件111形成χ-y坐標上的矩陣形態(tài)的列陣。
[0048]另外,所述紫外線發(fā)光元件111,以射出lOOnm波長至410nm波長范圍的紫外線光的芯片、封裝或芯片和封裝混合形態(tài)的LED光源安裝在較大面積的單一電路基板112,以便形成矩陣形態(tài)的列陣構造。
[0049]圖3是對構成為根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100的單位光源的紫外線發(fā)光元件111的列陣構造進行模式化展示的簡略平面圖。
[0050]參照圖3,根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100形成,在以紫外線發(fā)光元件111列陣的中心0為原點的Χ-y直交坐標上多個紫外線發(fā)光元件111以一定間隔p分離配置的矩陣形態(tài)的列陣構造,所述紫外線發(fā)光元件111在所述光源板110上。
[0051]另外,所述支撐板113雖然以四邊形的板示例,但是所述支撐板113的形狀構造作為一個實施例而展示,并非限定根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100。
[0052]由此,根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100,可適用變形為例如類似圓盤形板等各種形狀的實施例。
[0053]換句話說,就根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100而言,其根據(jù)安裝為光源的曝光裝置的規(guī)格或構成,或者曝光對象或曝光圖案等可變形為各種形態(tài),以便支撐板113的形狀構造以最優(yōu)化的形態(tài)得以使用,所述支撐板113上列陣有紫外線發(fā)光元件111。
[0054]根據(jù)本實用新型的一個側面,如圖3所示,就所述紫外線發(fā)光元件111在支撐板113上以奇數(shù)(9個)的橫列和縱列列陣而成的構造而言,所述光源板110的紫外線發(fā)光元件列陣的中心0可配置有單位紫外線發(fā)光元件111。
[0055]另外,就所述紫外線發(fā)光元件111在支撐板113上以偶數(shù)的橫列和縱列列陣而成的構造而言,具有所如下列陣構造,在所述光源板110的紫外線發(fā)光元件列陣的中心0排除單位紫外線發(fā)光元件111的配置。
[0056]換句話說,所述光源板110上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心0與受光區(qū)域(參照圖4及圖5的附圖標號“A”)的中心配置于同軸上,成為決定各單位聚光透鏡121的偏心量(參照圖2及圖4的el、e2、en)的基準,所述受光區(qū)域為從各個單位紫外線發(fā)光元件照射而來的擴散光通過聚光透鏡121聚光的區(qū)域。
[0057]所述受光區(qū)域(參照圖4及圖5的附圖標號“A”)形成為孔(aperture)形態(tài),以便形成經(jīng)過反射鏡集束光通過的聚光靶(target),所述反射鏡包括于未示出的曝光裝置的光學系統(tǒng)。
[0058]由此,就根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100而言,從各個單位紫外線發(fā)光元件111照射而來的擴散的光通過聚光透鏡121而發(fā)生聚光折射,從而得到聚光以便通過形成為收光區(qū)域的聚光革E (target)的孔(aperture)。
[0059]換句話說,就根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100而言,所述光源板110上的紫外線發(fā)光元件111列陣的中心0與透鏡板212的中心配置于相同軸上,并且逐漸遠離穿過所述中心0的任意的基準中心軸線側而配置于靠近邊緣的位置上的聚光透鏡121配置為,相對于與其相對應的紫外線發(fā)光元件111的主光軸向所述基準中心軸線側偏心的距離逐漸增加。
[0060]總而言之,根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100構成為,聚光透鏡121以相對于紫外線發(fā)光元件111的主光軸偏心的方式得到配置,比方說,執(zhí)行斜視(strabismus)透鏡的作用和功能,由此對從各個單位紫外線發(fā)光元件111照射而來的擴散光的聚光效率進行最大化。
[0061]另外,就根據(jù)具有如上所述構成的本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100而言,為了對從紫外線發(fā)光元件111照射而來的擴散光的聚光效率進行最大化,優(yōu)選地,聚光透鏡121由兩面凸透鏡構成,并且優(yōu)選地,具有根據(jù)列陣位置具有相互不同光學構造的曲率面的兩面凸透鏡。
[0062]圖4及圖5是分別為了說明根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100的聚光透鏡121相對于紫外線發(fā)光元件111的主光軸偏心的列陣構造而展示的模式圖。
[0063]在圖4及圖5中“a”表示從紫外線發(fā)光元件111至孔(aperture)的光學距離,所述孔設定于作為聚光革E (target)的收光區(qū)域A。
[0064]并且,“b”表示從穿過所述光源板110的紫外線發(fā)光元件列陣的中心0的基準中心軸線側分離配置的紫外線發(fā)光元件111的分離距離。
[0065]此外,“c”表示紫外線發(fā)光元件111和聚光透鏡121的面對面分離距離,“x”表紫外線發(fā)光元件111的中心軸和聚光透鏡121的中心軸之間的偏心距離,“t”表示收光區(qū)域A
的直徑。
[0066]參照圖4及圖5,就根據(jù)本實用新型的用于曝光的光源模塊單元100而言,針對從紫外線發(fā)光元件111至孔(aperture)的光學距離“a”,優(yōu)選地,所述“b
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