一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。其中，顯示面板包括設(shè)置于陣列基板與第一偏光片之間的納米分光薄膜；所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至少一個(gè)子像素單元；所述每個(gè)分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)子像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將納米分光元件應(yīng)用到顯示面板中，能夠省去液晶顯示器件的彩膜層，使液晶顯示器件的透過(guò)率提升，在不大幅增加成本的情況下提升了顯示器件的色彩品質(zhì)。
【專利說(shuō)明】
一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著顯示領(lǐng)域技術(shù)的飛速發(fā)展，人們對(duì)顯示器件的要求越來(lái)越高。輕薄、便利、節(jié) 能、畫(huà)面細(xì)膩、降低成本、功能多樣化始終是顯示器件的發(fā)展目標(biāo)。而現(xiàn)有的顯示器件中背 光模組、下偏光片、陣列基板、液晶層、彩膜基板和上偏光片的層疊結(jié)構(gòu)限制了傳統(tǒng)液晶顯 示器件的厚度，很難做到更加輕薄。此外，彩色基板中的使用至少損耗了60%的光能，只能 依靠提高背光亮度來(lái)滿足現(xiàn)實(shí)器件的亮度要求，這無(wú)疑增加了功耗。
[0003] 而納米光柵分光是利用納米光柵之間的干涉和衍射效應(yīng)，使得衍射光學(xué)器件實(shí)現(xiàn) 菲涅爾衍射場(chǎng)的分色，選擇合理的光柵高度與相位分布，使紅、綠、藍(lán)三色在空間上高效分 離。因此，如何將納米分光元件應(yīng)用到顯示器件，且如何在不大幅增加成本的情況下提升色 彩品質(zhì)是液晶顯示裝置領(lǐng)域的重要課題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置，通過(guò)將 納米分光元件應(yīng)用到顯示器件，在不大幅增加成本的情況下提升了顯示器件的色彩品質(zhì)。
[0005] 第一方面，本發(fā)明提供了一種顯示面板，包括設(shè)置于陣列基板背離液晶層一側(cè)的 納米分光薄膜；
[0006] 所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至少一個(gè) 子像素單元;所述每個(gè)分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)子像素單元 的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。
[0007] 優(yōu)選地，每個(gè)分光單元還包括:與所述多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)的填充層，以使所述納 米分光薄膜背離所述陣列基板或朝向所述陣列基板的一側(cè)平坦。
[0008] 優(yōu)選地，所述多階光柵結(jié)構(gòu)包括多個(gè)高度不同的光柵。
[0009] 優(yōu)選地，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基板與第一偏光片之間；
[0010] 其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)與所述陣列基板貼合設(shè)置，所述填充層與所述第一偏光 片貼合設(shè)置。
[0011]優(yōu)選地，所述顯示面板還包括:與所述納米分光薄膜的多階光柵結(jié)構(gòu)貼合設(shè)置的 第一基板。
[0012] 優(yōu)選地，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基板與第一偏光片之間；
[0013] 其中，所述第一基板與所述第一偏光片貼合設(shè)置，所述填充層與所述陣列基板貼 合設(shè)置。
[0014] 優(yōu)選地，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基板與第一偏光片之間；
[0015] 其中，所述第一基板與所述陣列基板貼合設(shè)置，所述填充層與所述第一偏光片貼 合設(shè)置。
[0016] 優(yōu)選地，第一偏光片設(shè)置于所述陣列基板背離所述液晶層的一側(cè)，所述納米分光 薄膜設(shè)置于所述第一偏光片背離所述陣列基板的一側(cè)；
[0017] 其中，所述填充層與所述第一偏光片貼合設(shè)置。
[0018] 優(yōu)選地，第一偏光片設(shè)置于所述陣列基板背離所述液晶層的一側(cè)，所述納米分光 薄膜設(shè)置于所述第一偏光片背離所述陣列基板的一側(cè)；
[0019] 其中，所述第一基板與所述第一偏光片貼合設(shè)置。
[0020] 優(yōu)選地，所述填充層與所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率差值大于0.1。
[0021] 優(yōu)選地，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率為1.0-2.0;所述填充層的折射率為 1.0-2.5；
[0022]其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率大于或者小于所述填充層的折射率。 [0023]優(yōu)選地，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中多個(gè)光柵的光柵周期、光柵臺(tái)階數(shù)及光柵高度用于 控制每個(gè)像素單元的透過(guò)率。
[0024] 優(yōu)選地，所述多個(gè)光柵的光柵周期為0· lum-300um，光柵高度為0· lum-30um，成像 高度為2_20um〇
[0025] 優(yōu)選地，所述光柵高度為0· lum-5um。
[0026] 優(yōu)選地，所述顯示面板還包括：
[0027] 在所述陣列基板背離所述納米分光薄膜的一側(cè)依次設(shè)置的液晶層、第二基板、第 二偏光片及擴(kuò)散層。
[0028]第二方面，本發(fā)明提供了一種顯示面板的制作方法，包括：
[0029] 制作多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0030] 將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)；
[0031] 其中，所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至 少一個(gè)子像素單元;所述每個(gè)分光單元包括光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至 少一個(gè)像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。
[0032] 優(yōu)選地，所述制作多個(gè)光柵之后，所述方法還包括：
[0033] 根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米分光薄 膜背離所述陣列基板或朝向所述陣列基板的一側(cè)平坦。
[0034]優(yōu)選地，所述制作多個(gè)光柵，包括：
[0035] 通過(guò)納米壓印、激光直寫(xiě)或者電子束直寫(xiě)工藝形成多個(gè)納米光柵。
[0036] 優(yōu)選地，所述制作多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜，包括：
[0037] 在陣列基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0038] 相應(yīng)地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括：
[0039]將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合。
[0040] 優(yōu)選地，所述制作多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜，包括：
[0041] 在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜。
[0042] 優(yōu)選地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括：
[0043] 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與所述陣列基板貼合;將所述第一基板 與第一偏光片貼合。
[0044] 優(yōu)選地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括：
[0045] 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一基板與 所述陣列基板貼合。
[0046] 優(yōu)選地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括：
[0047] 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一偏光片 與所述陣列基板貼合。
[0048] 優(yōu)選地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括：
[0049] 將所述第一基板與第一偏光片貼合;將所述第一偏光片與所述陣列基板貼合。
[0050] 優(yōu)選地，所述方法還包括：
[0051]形成所述陣列基板的薄膜晶體管TFT時(shí)，在所述陣列基板的PAD區(qū)域形成多個(gè)第一 貼合對(duì)位標(biāo)記；
[0052]在第一基板上形成多個(gè)光柵時(shí)，在所述第一基板上形成與所述第一貼合對(duì)位標(biāo)記 對(duì)應(yīng)的多個(gè)第二貼合對(duì)位標(biāo)記；
[0053]根據(jù)所述第一貼合對(duì)位標(biāo)記及所述第二貼合對(duì)位標(biāo)記，將所述陣列基板與所述第 一基板貼合。
[0054]優(yōu)選地，所述多階光柵結(jié)構(gòu)包括多個(gè)高度不同的光柵。
[0055]第三方面，本發(fā)明提供了一種顯示裝置，包括背光模組及設(shè)置于所述背光模組出 光側(cè)的上述任意一種顯示面板。
[0056]由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置，通過(guò)在 陣列基板與第一偏光片之間形成納米分光薄膜，即將納米光柵做在cell上，如此能夠降低 納米光柵的成像距離，增加納米分光的技術(shù)效果，使得光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)可選擇性更大，保護(hù)范 圍更大，此外還增加了納米分光器件應(yīng)用到顯示上的工藝可實(shí)現(xiàn)性；同時(shí)納米分光薄膜包 括與多個(gè)像素單元一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)分光單元;每個(gè)所述分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于 將對(duì)應(yīng)每個(gè)像素單元的光線進(jìn)行分光，得到多種預(yù)定顏色的光線，則在理想情況下能夠省 去液晶顯示器件的彩膜層，使液晶顯示器件的透過(guò)率提升300%，同時(shí)也大大增加顯示的色 域，如此，本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將納米分光元件應(yīng)用到顯示器件，在不大幅增加成本的情況下 提升了顯示器件的色彩品質(zhì)。
【附圖說(shuō)明】
[0057]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以 根據(jù)這些圖獲得其他的附圖。
[0058]圖1是本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0059]圖2是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0060]圖3是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0061]圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0062]圖5是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0063] 圖6是本發(fā)明一實(shí)施例提供的光柵各級(jí)衍射的示意圖；
[0064] 圖7是本發(fā)明一實(shí)施例提供的光柵干涉示意圖；
[0065] 圖8是本發(fā)明一實(shí)施例提供的三階光柵結(jié)構(gòu)示意圖；
[0066] 圖9是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的三階光柵分光示意圖；
[0067] 圖10是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的三階光柵分光的顯示效果示意圖；
[0068] 圖11是本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0069]圖12是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0070]圖13是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0071]圖14是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0072]圖15是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0073]圖16是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0074] 圖17是本發(fā)明一實(shí)施例提供的陣列基板上的第一貼合對(duì)位標(biāo)記位置示意圖；
[0075] 圖18是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的第一貼合對(duì)位標(biāo)記的形狀示意圖；
[0076] 圖1~圖10、圖17、圖18中附圖標(biāo)記說(shuō)明：1-第一偏光片；2-納米分光薄膜;3-陣列 基板;4-液晶層;5-第二基板;6-第二偏光片;7-擴(kuò)散層;21-多階光柵結(jié)構(gòu);22-填充層;200-光柵;100-基板;110-第一貼合對(duì)位標(biāo)記。
【具體實(shí)施方式】
[0077] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；?本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0078]圖1和圖2本發(fā)明實(shí)施例中顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1、圖2所示，該顯示面板包 括設(shè)置于陣列基板3背離液晶層4 一側(cè)的納米分光薄膜2。
[0079] 其中，所述所述納米分光薄膜2包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì) 應(yīng)至少一個(gè)子像素單元。所述每個(gè)分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)21，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一 個(gè)子像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。
[0080] 由此可見(jiàn)，本實(shí)施例通過(guò)在陣列基板與第一偏光片之間形成納米分光薄膜，即將 納米光柵做在cell上，如此能夠降低納米光柵的成像距離，增加納米分光的技術(shù)效果，使得 光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)可選擇性更大，保護(hù)范圍更大，此外還增加了納米分光器件應(yīng)用到顯示上的 工藝可實(shí)現(xiàn)性；同時(shí)納米分光薄膜包括多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至少一個(gè)子像素 單元;每個(gè)所述分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)子像素單元的光線 進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線，以使一種或多種預(yù)定顏色的光線出射至不同 的子像素單元，如紅色子像素單元、藍(lán)色子像素單元或者綠色子像素單元。則在理想情況下 能夠省去液晶顯示器件的彩膜層，即彩膜基板不包括彩膜層，使液晶顯示器件的透過(guò)率提 升300%，同時(shí)也大大增加顯示的色域，如此，本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將納米分光元件應(yīng)用到顯 示器件，在不大幅增加成本的情況下提升了顯示器件的色彩品質(zhì)。
[0081 ]進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，上述納米分光薄膜中的每個(gè)分光單元 還包括:與所述多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)的填充層，以使所述納米分光薄膜背離所述陣列基板 或朝向所述陣列基板的一側(cè)平坦。
[0082]舉例來(lái)說(shuō)，如圖1所示，填充層22用于填充所述多階光柵結(jié)構(gòu)21與第一偏光片1之 間空隙，使得納米分光薄膜2背離陣列基板3的一側(cè)平坦;如圖2所示，填充層22用于填充所 述多階光柵結(jié)構(gòu)21與所述陣列基板3之間空隙，使得納米分光薄膜2朝向陣列基板3的一側(cè) 平坦。如此，填充層21，能夠使得所述納米分光薄膜2朝向所述陣列基板3的一側(cè)或背離陣列 基板3的一側(cè)平坦。
[0083] 其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)22包括多個(gè)高度不同的光柵。如此，高度不同的多個(gè)光柵 將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)子像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。舉例 來(lái)說(shuō)，當(dāng)每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)一個(gè)子像素單元時(shí)，且該子像素單元需要顯示為紅色，則每個(gè)分 光單元的多階光柵將對(duì)應(yīng)該子像素單元的光線進(jìn)行分光，得到紅色的光線入射至該子像素 單元。
[0084] 具體來(lái)說(shuō)，如圖6和圖7所示，圖6是光柵200各級(jí)衍射示意圖，圖7是光柵干涉示意 圖，圖6和圖7中光經(jīng)光柵200出射至空氣中?？衫斫獾?，相消干涉:h(npMMA-nAir) =ηιλ/2,即λ =11/1]1，1]1=1，3,5...時(shí)零級(jí)衍射出現(xiàn)透射谷，一級(jí)衍射出現(xiàn)透射峰;相長(zhǎng)干涉:11(1^_-1^1·) =ηιλ，Β卩A = h/(2m)，m=l ,2,3...時(shí)零級(jí)衍射出現(xiàn)透射峰，一級(jí)衍射出現(xiàn)透射谷。其中，h為 光柵200的高度，nPMM為光柵200的折射率，n Air為空氣的折射率，λ為入射光的波長(zhǎng)，m是光程 差為半波長(zhǎng)的倍數(shù)。本實(shí)施例中，一般選擇m= 1，3，5 ...，使零級(jí)衍射出現(xiàn)透射谷，一級(jí)衍射 出現(xiàn)透射峰。由此可見(jiàn)，通過(guò)調(diào)節(jié)光柵的高度，利用高度不同的光柵出射光線的干涉，可以 實(shí)現(xiàn)對(duì)0級(jí)和1級(jí)衍射強(qiáng)度的調(diào)節(jié)。
[0085] 本實(shí)施例中，每個(gè)分光單元中多階光柵結(jié)構(gòu)包括多個(gè)高度不同的光柵。而光柵臺(tái) 階數(shù)(光柵個(gè)數(shù))選擇范圍為：1~lOOlevel;光柵的周期與液晶顯示器件的至少一個(gè)子像素 單元尺寸一致，舉例來(lái)說(shuō)，若每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)三個(gè)子像素單元，即一個(gè)像素單元，因此光 柵的周期即每個(gè)分光單元中光柵的周期與每個(gè)像素單元的尺寸一致。
[0086]舉例來(lái)說(shuō)，如圖8所示，以每個(gè)分光單元包括三階光柵為例，三階光柵的高度分別 為hi、h2、h3,每階光柵的寬度為d/3,則三階光柵的總寬度為d。其中，光柵200設(shè)置于基板 100上，基板100為陣列基板或者第一基板。進(jìn)一步地，如圖9所示的三階光柵分光示意圖，每 個(gè)像素單元對(duì)應(yīng)一個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元包括一個(gè)三階光柵，不同高度的光柵分光得 到不同顏色的光線。如圖10所示的三階光柵分光顯示效果圖，則每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)的三色 光柵可分光得到紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)三種顏色的光線，分別對(duì)應(yīng)一個(gè)像素單元的三 個(gè)子像素單元。
[0087] 由的h 7" 7以VSI丨為三個(gè)不同高度的光柵2〇〇的泰伯成像高度，其中： (1)
[0088]
[0089]其中，Z為泰伯成像高度，λ為入射光的波長(zhǎng)，d為光柵的周期（即三階光柵的總寬 度）。由此可見(jiàn)，Z與入射光波長(zhǎng)、光柵周期有關(guān)。
[0090]根據(jù)公式（1)可知，入射光的波長(zhǎng)λ-定時(shí)，成像的高度Z只與光柵周期d有關(guān)，因此 在衍射效應(yīng)允許的范圍內(nèi)可通過(guò)設(shè)置不同的光柵周期，得到不同的成像高度。其中，多個(gè)光 柵的光柵周期為〇.lum-300um，光柵高度為0.1um-30um，成像高度為2-20um〇 [00 91] 優(yōu)選地，所述光柵高度為0· lum-5um。
[0092] 進(jìn)一步地，透過(guò)率計(jì)算公式如下：
[0093]
[0094] 其中，Φ? = 23?(η-?Η)?Η/λ;ΤΓ為透過(guò)率;xo為三階光柵中中間光柵的坐標(biāo)；Φ?為各 光柵對(duì)應(yīng)的相位延遲，hi為各光柵的高度，其中，i = l、2、3; η為光柵材料的折射率，nt為填充 層材料的折射率。由于本實(shí)施例中光從光柵出射至空氣中，則nt為空氣折射率1，則n-1表示 光柵材料與空氣的折射率之差。
[0095]其中，填充層材料應(yīng)選擇高透明，透過(guò)率大于80%的材料。所述填充層與所述多階 光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率差值大于〇. 1，差值越大越好。
[0096] 優(yōu)選地，多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率為1.0-2.0;所述填充層的折射率為1.0-2.5。其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率大于或者小于所述填充層的折射率。
[0097] 根據(jù)公式(2)可知，多階光柵結(jié)構(gòu)中多個(gè)光柵的光柵周期、光柵臺(tái)階數(shù)及光柵高度 用于控制每個(gè)像素單元的透過(guò)率。而光柵周期d固定后，可根據(jù)光柵臺(tái)階數(shù)及光柵高度控制 每個(gè)像素單元的透過(guò)率。
[0098] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖1所示，本實(shí)施例中的顯示面板中，所述納米 分光薄膜2設(shè)置于所述陣列基板3與第一偏光片1之間。其中，多階光柵結(jié)構(gòu)21與所述陣列基 板3貼合設(shè)置，所述填充層22與所述第一偏光片1貼合設(shè)置。
[0099] 另外，本實(shí)施例中顯示面板還包括:在所述陣列基板3背離所述納米分光薄膜2的 一側(cè)依次設(shè)置的液晶層4、第二基板5、第二偏光片6及擴(kuò)散層7。
[0100] 需要說(shuō)明的是，第二基板5不包括彩色濾光片，只需要做黑色矩陣BM對(duì)陣列基板3 中的金屬電極進(jìn)行遮擋即可。
[0101] 具體來(lái)說(shuō)，在制作該顯示面板，在完成cell工藝后，在陣列基板3背離液晶層4的一 側(cè)形成多階光柵結(jié)構(gòu)21，并采用與光柵具有一定折射率差的材料填充光柵的凹槽結(jié)構(gòu)形成 填充層22,最后在填充層22背離陣列基板3的一側(cè)貼覆第一偏光片。
[0102] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，所述顯示面板還包括:與所述納米分光薄膜的多 階光柵結(jié)構(gòu)貼合設(shè)置的第一基板。
[0103] 進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖2所示，本實(shí)施例中的顯示面板還 包括:與所述納米分光薄膜2的多階光柵結(jié)構(gòu)21貼合設(shè)置的第一基板8。所述納米分光薄膜2 設(shè)置于所述陣列基板3與第一偏光片1之間；其中，所述第一基板8與所述第一偏光片1貼合 設(shè)置，所述填充層22與所述陣列基板3貼合設(shè)置。另外，本實(shí)施例中顯示面板還包括:在所述 陣列基板3背離所述納米分光薄膜2的一側(cè)依次設(shè)置的液晶層4、第二基板5、第二偏光片6及 擴(kuò)散層7。
[0104] 具體來(lái)說(shuō)，在制作該顯示面板，多階光柵結(jié)構(gòu)21可利用納米壓印工藝使用單獨(dú)的 第一基板8形成，在第一基板8上形成多階光柵結(jié)構(gòu)21后，選擇一定折射率差的材料填充光 柵的凹槽結(jié)構(gòu)形成填充層22,填充后將填充層22與顯示面板的陣列基板3貼合，貼合完成后 在第一基板8背離陣列基板3的一側(cè)貼附第一偏光片1。
[0105] 進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖3所示，本實(shí)施例中的顯示面板還 包括:與所述納米分光薄膜2的多階光柵結(jié)構(gòu)21貼合設(shè)置的第一基板8。所述納米分光薄膜2 設(shè)置于所述陣列基板3與第一偏光片1之間；其中，所述第一基板8與所述陣列基板3貼合設(shè) 置，所述填充層22與所述第一偏光片1貼合設(shè)置。
[0106] 另外，本實(shí)施例中顯示面板還包括:在所述陣列基板3背離所述納米分光薄膜2的 一側(cè)依次設(shè)置的液晶層4、第二基板5、第二偏光片6及擴(kuò)散層7。
[0107] 具體來(lái)說(shuō)，在制作該顯示面板，多階光柵結(jié)構(gòu)21可利用納米壓印工藝使用單獨(dú)的 第一基板8形成，在第一基板8上形成多階光柵結(jié)構(gòu)21后，選擇一定折射率差的材料填充光 柵的凹槽結(jié)構(gòu)形成填充層22,填充后將第一基板8與顯示面板的陣列基板3貼合，貼合完成 后在填充層22背離陣列基板3的一側(cè)貼附第一偏光片1。
[0108] 進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖4所示，本實(shí)施例中的顯示面板還 包括:與所述納米分光薄膜2的多階光柵結(jié)構(gòu)21貼合設(shè)置的第一基板8。第一偏光片1設(shè)置于 所述陣列基板3背離所述液晶層4的一側(cè)，所述納米分光薄膜2設(shè)置于所述第一偏光片1背離 所述陣列基板3的一側(cè);其中，所述填充層22與所述第一偏光片1貼合設(shè)置。
[0109] 另外，本實(shí)施例中顯示面板還包括:在所述陣列基板3背離所述第一偏光片1的一 側(cè)依次設(shè)置的液晶層4、第二基板5、第二偏光片6及擴(kuò)散層7。
[0110] 具體來(lái)說(shuō)，在制作該顯示面板，多階光柵結(jié)構(gòu)21可利用納米壓印工藝使用單獨(dú)的 第一基板8形成，在第一基板8上形成多階光柵結(jié)構(gòu)21后，選擇一定折射率差的材料填充光 柵的凹槽結(jié)構(gòu)形成填充層22,填充后將填充層22與顯示面板的第一偏光片1貼合。
[0111] 進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖5所示，本實(shí)施例中的顯示面板還 包括:與所述納米分光薄膜2的多階光柵結(jié)構(gòu)21貼合設(shè)置的第一基板8。第一偏光片1設(shè)置于 所述陣列基板3背離所述液晶層4的一側(cè)，所述納米分光薄膜2設(shè)置于所述第一偏光片1背離 所述陣列基板3的一側(cè);其中，所述第一基板8與所述第一偏光片1貼合設(shè)置。
[0112] 另外，本實(shí)施例中顯示面板還包括:在所述陣列基板3背離所述第一偏光片1的一 側(cè)依次設(shè)置的液晶層4、第二基板5、第二偏光片6及擴(kuò)散層7。
[0113] 具體來(lái)說(shuō)，在制作該顯示面板，多階光柵結(jié)構(gòu)21可利用納米壓印工藝使用單獨(dú)的 第一基板8形成，在第一基板8上形成多階光柵結(jié)構(gòu)21后，選擇一定折射率差的材料填充光 柵的凹槽結(jié)構(gòu)形成填充層22,填充后將第一基板8與顯示面板的第一偏光片1貼合。
[0114] 需要說(shuō)明的是，上述實(shí)施例中采用的顯示面板顯示模式不限，可為IPS、TN、VA模式 均可。
[0115] 圖11是本發(fā)明一實(shí)施例中的一種顯示面板的制作方法的流程示意圖，如圖11所 示，具體包括如下步驟：
[0116] S1:制作多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0117] S2:將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)；
[0118] 其中，所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至 少一個(gè)子像素單元;所述每個(gè)分光單元包括光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至 少一個(gè)像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。
[0119] 由此可見(jiàn)，本實(shí)施例通過(guò)在陣列基板與第一偏光片之間形成納米分光薄膜，即將 納米光柵做在cell上，如此能夠降低納米光柵的成像距離，增加納米分光的技術(shù)效果，使得 光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)可選擇性更大，保護(hù)范圍更大，此外還增加了納米分光器件應(yīng)用到顯示上的 工藝可實(shí)現(xiàn)性；同時(shí)所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì) 應(yīng)至少一個(gè)子像素單元;所述每個(gè)分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè) 像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線，則在理想情況下能夠省去液 晶顯示器件的彩膜層，使液晶顯示器件的透過(guò)率提升300%，同時(shí)也大大增加顯示的色域， 如此，本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將納米分光元件應(yīng)用到顯示器件，在不大幅增加成本的情況下提 升了顯示器件的色彩品質(zhì)。
[0120] 其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)包括多個(gè)高度不同的光柵。如此，高度不同的多個(gè)光柵將 對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線，例如，當(dāng)每 個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)三個(gè)子像素單元，則該分光單元為各子像素單元分別提供R、G、B三種顏色 的光線。
[0121] 具體地，步驟S1中所述制作多個(gè)光柵，具體包括：
[0122] 通過(guò)納米壓印、激光直寫(xiě)或者電子束直寫(xiě)工藝形成多個(gè)納米光柵。
[0123] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，步驟S1中所述制作多個(gè)光柵之后，所述方法還包 括如下步驟：
[0124] 根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米分光薄 膜背離所述陣列基板或朝向所述陣列基板的一側(cè)平坦。
[0125] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖12所示，本實(shí)施例中的顯示面板的制作方法 具體包括如下步驟：
[0126] S1201:在陣列基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0127] 可理解地，上述步驟S1在本實(shí)施例中具體通過(guò)步驟S1201實(shí)現(xiàn)。
[0128] 具體來(lái)說(shuō)，在完成cell工藝后，即如圖1所示，在所述陣列基板3的一側(cè)依次形成液 晶層4、第二基板5、第二偏光片6及擴(kuò)散層7后，在陣列基板背離液晶層的一側(cè)形成多階光柵 結(jié)構(gòu)。
[0129] S1202:根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米 分光薄膜背離所述陣列基板的一側(cè)平坦；
[0130] S1203:將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合；
[0131] 可理解地，上述步驟S2在本實(shí)施例中通過(guò)步驟S903實(shí)現(xiàn)。
[0132] 具體來(lái)說(shuō)，步驟S1201至步驟S1203形成的顯示面板如圖1所示。
[0133] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖13所示，本實(shí)施例中的顯示面板的制作方法 具體包括如下步驟：
[0134] S1301:在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0135] 可理解地，上述步驟S1在本實(shí)施例中具體通過(guò)步驟S1301實(shí)現(xiàn)。
[0136] 具體來(lái)說(shuō)，在制作本實(shí)施例中的顯示面板時(shí)，多階光柵結(jié)構(gòu)可利用納米壓印工藝 使用單獨(dú)的第一基板形成。
[0137] S1302:根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米 分光薄膜背離所述第一基板的一側(cè)平坦；
[0138] S1303:將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與所述陣列基板貼合，將所述第 一基板與第一偏光片貼合。
[0139] 可理解地，上述步驟S2在本實(shí)施例中通過(guò)步驟S1303實(shí)現(xiàn)。
[0140] 具體來(lái)說(shuō)，步驟S1301至步驟S1303形成的顯示面板如圖2所示。
[0141 ]在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖14所示，本實(shí)施例中的顯示面板的制作方法 具體包括如下步驟：
[0142] S1401:在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0143] 可理解地，上述步驟S1在本實(shí)施例中具體通過(guò)步驟S1401實(shí)現(xiàn)。
[0144] 具體來(lái)說(shuō)，在制作本實(shí)施例中的顯示面板時(shí)，多階光柵結(jié)構(gòu)可利用納米壓印工藝 使用單獨(dú)的第一基板形成。
[0145] S1402:根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米 分光薄膜背離所述第一基板的一側(cè)平坦；
[0146] S1403:將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一 基板與所述陣列基板貼合。
[0147] 可理解地，上述步驟S2在本實(shí)施例中通過(guò)步驟S1403實(shí)現(xiàn)。
[0148] 具體來(lái)說(shuō)，步驟S1401至步驟S1403形成的顯示面板如圖3所示。
[0149] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖15所示，本實(shí)施例中的顯示面板的制作方法 具體包括如下步驟：
[0150] S1501:在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0151] 可理解地，上述步驟S1在本實(shí)施例中具體通過(guò)步驟S1501實(shí)現(xiàn)。
[0152] 具體來(lái)說(shuō)，在制作本實(shí)施例中的顯示面板時(shí)，多階光柵結(jié)構(gòu)可利用納米壓印工藝 使用單獨(dú)的第一基板形成。
[0153] S1502:根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米 分光薄膜背離所述第一基板的一側(cè)平坦；
[0154] S1503:將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一 偏光片與所述陣列基板貼合。
[0155] 可理解地，上述步驟S2在本實(shí)施例中通過(guò)步驟S1503實(shí)現(xiàn)。
[0156] 具體來(lái)說(shuō)，步驟S1501至步驟S1503形成的顯示面板如圖4所示。
[0157] 在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，如圖16所示，本實(shí)施例中的顯示面板的制作方法 具體包括如下步驟：
[0158] S1601:在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜；
[0159] 可理解地，上述步驟S1在本實(shí)施例中具體通過(guò)步驟S1601實(shí)現(xiàn)。
[0160] 具體來(lái)說(shuō)，在制作本實(shí)施例中的顯示面板時(shí)，多階光柵結(jié)構(gòu)可利用納米壓印工藝 使用單獨(dú)的第一基板形成。
[0161] S1602:根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米 分光薄膜背離所述第一基板的一側(cè)平坦；
[0162] S1603:將所述第一基板與第一偏光片貼合;將所述第一偏光片與所述陣列基板貼 合。
[0163] 可理解地，上述步驟S2在本實(shí)施例中通過(guò)步驟S1603實(shí)現(xiàn)。
[0164] 具體來(lái)說(shuō)，步驟S1601至步驟S1603形成的顯示面板如圖5所示。
[0165] 進(jìn)一步地，本實(shí)施例還包括如下步驟：
[0166] A01、形成所述陣列基板的薄膜晶體管TFT時(shí)，在所述陣列基板的PAD區(qū)域形成多個(gè) 第一貼合對(duì)位標(biāo)記；
[0167] 舉例來(lái)說(shuō)，如圖17所示，在TFT工藝時(shí)，如在形成柵金屬層或源漏金屬層時(shí)，同時(shí)在 陣列基板的PAD區(qū)域形成多個(gè)第一貼合對(duì)位標(biāo)記(圖17中示出了 4個(gè)第一貼合對(duì)位標(biāo)記）。
[0168] 其中，第一貼合對(duì)位標(biāo)記110的可選形狀如圖18所示，W為第一對(duì)位貼合標(biāo)記110的 寬度，當(dāng)然第一貼合對(duì)位標(biāo)記也可為其他形狀的標(biāo)記，本實(shí)施例對(duì)此不加以限制。
[0169] A02、在第一基板上形成多個(gè)光柵時(shí)，在所述第一基板上形成與所述第一貼合對(duì)位 標(biāo)記對(duì)應(yīng)的多個(gè)第二貼合對(duì)位標(biāo)記；
[0170] 具體來(lái)說(shuō)，參照陣列基板上第一貼合對(duì)位標(biāo)記的大小和位置，可在第一基板上形 成多個(gè)光柵時(shí)采用納米壓印工藝形成第二對(duì)位標(biāo)記。
[0171] A03、根據(jù)所述第一貼合對(duì)位標(biāo)記及所述第二貼合對(duì)位標(biāo)記，將所述陣列基板與所 述第一基板對(duì)位貼合。
[0172] 具體來(lái)說(shuō)，將陣列基板與第一基板按照對(duì)位標(biāo)記進(jìn)行高精度對(duì)位貼合，使得第一 基板上的納米分光薄膜與第一基板貼合。
[0173] 基于同樣的發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明一實(shí)施例提供了一種顯示裝置，包括:背光模組及設(shè) 置于所述背光模組出光側(cè)的上述任意一種顯示面板。該顯示裝置可以為:液晶顯示面板、手 機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。 該顯示裝置由于包括上述任意一種顯示面板的顯示裝置，因而可以解決同樣的技術(shù)問(wèn)題， 并取得相同的技術(shù)效果。
[0174]需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中背光模組可為直下式背光模組，也可為側(cè)入式背光模 組，本實(shí)施例對(duì)此不加以限制。
[0175] 在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)"上"、"下"等指示的方位或位置關(guān)系為基 于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示 所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本 發(fā)明的限制。除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)"安裝"、"相連"、"連接"應(yīng)做廣義理解，例 如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接;可以是機(jī)械連接，也可以是電連 接;可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本 領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。
[0176] 還需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè) 實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開(kāi)來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間 存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)"包括"、"包含"或者其任何其他變體意在涵 蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要 素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備 所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句"包括一個(gè)……"限定的要素，并不排除在 包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0177] 以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例 對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施 例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或者 替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種顯示面板，其特征在于，包括設(shè)置于陣列基板背離液晶層一側(cè)的納米分光薄膜； 所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至少一個(gè)子像 素單元;所述每個(gè)分光單元包括多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一個(gè)子像素單元的光 線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，每個(gè)分光單元還包括:與所述多階光 柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)的填充層，以使所述納米分光薄膜背離所述陣列基板或朝向所述陣列基板的 一側(cè)平坦。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述多階光柵結(jié)構(gòu)包括多個(gè)高度不同 的光柵。4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基 板與第一偏光片之間； 其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)與所述陣列基板貼合設(shè)置，所述填充層與所述第一偏光片貼 合設(shè)置。5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括:與所述納米分 光薄膜的多階光柵結(jié)構(gòu)貼合設(shè)置的第一基板。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基 板與第一偏光片之間； 其中，所述第一基板與所述第一偏光片貼合設(shè)置，所述填充層與所述陣列基板貼合設(shè) 置。7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述陣列基 板與第一偏光片之間； 其中，所述第一基板與所述陣列基板貼合設(shè)置，所述填充層與所述第一偏光片貼合設(shè) 置。8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，第一偏光片設(shè)置于所述陣列基板背離 所述液晶層的一側(cè)，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述第一偏光片背離所述陣列基板的一側(cè)； 其中，所述填充層與所述第一偏光片貼合設(shè)置。9. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，第一偏光片設(shè)置于所述陣列基板背離 所述液晶層的一側(cè)，所述納米分光薄膜設(shè)置于所述第一偏光片背離所述陣列基板的一側(cè)； 其中，所述第一基板與所述第一偏光片貼合設(shè)置。10. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述填充層與所述多階光柵結(jié)構(gòu)中 光柵的折射率差值大于0.1。11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板，其特征在于，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率 為1.0-2.0;所述填充層的折射率為1.0-2.5; 其中，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中光柵的折射率大于或者小于所述填充層的折射率。12. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述多階光柵結(jié)構(gòu)中多個(gè)光柵的光 柵周期、光柵臺(tái)階數(shù)及光柵高度用于控制每個(gè)像素單元的透過(guò)率。13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板，其特征在于，所述多個(gè)光柵的光柵周期為O.lum-300um，光柵高度為0. lum-30um，成像高度為2_20um。14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示面板，其特征在于，所述光柵高度為0.1um-5um。15. 根據(jù)權(quán)利要求1~14中任一項(xiàng)所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括： 在所述陣列基板背離所述納米分光薄膜的一側(cè)依次設(shè)置的液晶層、第二基板、第二偏 光片及擴(kuò)散層。16. -種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括： 制作多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜； 將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)； 其中，所述納米分光薄膜包括呈陣列排布的多個(gè)分光單元，每個(gè)分光單元對(duì)應(yīng)至少一 個(gè)子像素單元;所述每個(gè)分光單元包括光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)，用于將對(duì)應(yīng)所述至少一 個(gè)像素單元的光線進(jìn)行分光，得到一種或多種預(yù)定顏色的光線。17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的制作方法，其特征在于，所述制作多個(gè)光柵之后，所述方法 還包括： 根據(jù)所述多個(gè)光柵形成的多階光柵結(jié)構(gòu)相適應(yīng)形成填充層，使得所述納米分光薄膜背 離所述陣列基板或朝向所述陣列基板的一側(cè)平坦。18. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的制作方法，其特征在于，所述制作多個(gè)光柵，包括： 通過(guò)納米壓印、激光直寫(xiě)或者電子束直寫(xiě)工藝形成多個(gè)納米光柵。19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述制作多個(gè)光柵，以形成納米分 光薄膜，包括： 在陣列基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜； 相應(yīng)地，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣列基板背離液晶層的一側(cè)，包括： 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合。20. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述制作多個(gè)光柵，以形成納米分 光薄膜，包括： 在第一基板上形成多個(gè)光柵，以形成納米分光薄膜。21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作方法，其特征在于，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣 列基板背離液晶層的一側(cè)，包括： 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與所述陣列基板貼合;將所述第一基板與第 一偏光片貼合。22. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作方法，其特征在于，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣 列基板背離液晶層的一側(cè)，包括： 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一基板與所述 陣列基板貼合。23. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作方法，其特征在于，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣 列基板背離液晶層的一側(cè)，包括： 將所述納米分光薄膜形成有填充層的一側(cè)與第一偏光片貼合;將所述第一偏光片與所 述陣列基板貼合。24. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作方法，其特征在于，所述將所述納米分光薄膜貼合至陣 列基板背離液晶層的一側(cè)，包括： 將所述第一基板與第一偏光片貼合;將所述第一偏光片與所述陣列基板貼合。25. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的制作方法，其特征在于，所述方法還包括： 形成所述陣列基板的薄膜晶體管TFT時(shí)，在所述陣列基板的PAD區(qū)域形成多個(gè)第一貼合 對(duì)位標(biāo)記； 在第一基板上形成多個(gè)光柵時(shí)，在所述第一基板上形成與所述第一貼合對(duì)位標(biāo)記對(duì)應(yīng) 的多個(gè)第二貼合對(duì)位標(biāo)記； 根據(jù)所述第一貼合對(duì)位標(biāo)記及所述第二貼合對(duì)位標(biāo)記，將所述陣列基板與所述第一基 板貼合。26. 根據(jù)權(quán)利要求16~25中任一項(xiàng)所述的制作方法，其特征在于，所述多階光柵結(jié)構(gòu)包 括多個(gè)高度不同的光柵。27. -種顯示裝置，其特征在于，包括背光模組及設(shè)置于所述背光模組出光側(cè)的如權(quán)利 要求1~15中任一項(xiàng)所述的顯示面板。
【文檔編號(hào)】G02F1/1335GK105974647SQ201610566557
【公開(kāi)日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年7月18日
【發(fā)明人】譚紀(jì)風(fēng), 楊亞鋒
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司