本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)、曝光系統(tǒng)及其曝光方法。

背景技術(shù)：

在制作液晶顯示面板中的對(duì)向基板時(shí)，通常將用于制作對(duì)向基板的襯底基板固定于曝光機(jī)臺(tái)之上，通過紫外曝光的方式制作對(duì)向基板。目前，將襯底基板固定于曝光機(jī)臺(tái)之上的方式一般為氣體負(fù)壓吸附的方式，即利用氣體的壓力差來固定襯底基板，以防止襯底基板發(fā)生偏移，影響曝光的準(zhǔn)確性。

然而，在采用氣體負(fù)壓吸附的方式固定襯底基板時(shí)，通常需要對(duì)襯底基板進(jìn)行分區(qū)吸附，而分區(qū)吸附必然會(huì)存在凸起的分區(qū)擋墻，使得襯底基板在吸附固定后，由于分區(qū)擋墻的凸起會(huì)使得襯底基板發(fā)生彎曲，導(dǎo)致部分區(qū)域曝光不均勻，影響局部曝光效果，產(chǎn)生機(jī)臺(tái)紋路不良(stagemura)；具體如圖1所示，在曝光機(jī)機(jī)臺(tái)1吸附固定襯底基板2之后，因存在分區(qū)擋墻(虛線圈內(nèi)所示)，從而產(chǎn)生了stagemura，如圖2所示的曲線和橢圓。而隨著液晶產(chǎn)品分辨率的逐步提高，stagemura在實(shí)際的液晶產(chǎn)品中不斷被檢出，嚴(yán)重影響了液晶產(chǎn)品的質(zhì)量。

目前，通常采用減輕吸附壓力的方式來解決stagemura的問題；然而，該方法的作用微乎其微，并沒有從根本上解決stagemura的問題；基于此，如何有效避免因固定襯底基板而導(dǎo)致的stagemura，提高液晶產(chǎn)品的質(zhì)量，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)、曝光系統(tǒng)及其曝光方法，用以解決如何有效避免因固定襯底基板而導(dǎo)致的stagemura，提高液晶產(chǎn)品的質(zhì)量。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)，包括：用于承載待曝光基板的具有金屬臺(tái)面的臺(tái)架、用于向所述金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線的光源、以及用于向所述金屬臺(tái)面釋放靜電荷的靜電發(fā)生器；其中，

所述金屬臺(tái)面的表面具有光感涂層；所述光感涂層在感應(yīng)到所述特定光線后從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；

所述金屬臺(tái)面接地；

所述特定光線與所述曝光機(jī)發(fā)射的曝光光線具有不同的波長(zhǎng)范圍。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，所述光源為紅外光源；所述光感涂層為紅外半導(dǎo)體涂層。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，所述紅外半導(dǎo)體涂層的材料為硫化鉛、碲化鉛或硒化鉛之一或組合。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，所述光源位于所述金屬臺(tái)面的正上方。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，所述金屬臺(tái)面通過至少一條導(dǎo)線接地。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，還包括：貫穿所述金屬臺(tái)面和所述光感涂層的多個(gè)規(guī)則排列的排氣孔。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，各所述排氣孔的孔徑大小相等。

在一種可能的實(shí)施方式中，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，所述排氣孔的孔徑不大于0.5毫米。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括：如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)，以及曝光機(jī)。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種采用如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光系統(tǒng)進(jìn)行曝光的方法，包括：

利用靜電發(fā)生器向金屬臺(tái)面上的光感涂層釋放靜電荷，所述靜電荷與待曝光基板表面攜帶的靜電荷電性相反；

將所述待曝光基板放置于附著有所述靜電荷的所述光感涂層之上，以使所述待曝光基板固定于臺(tái)架上；

在采用曝光機(jī)對(duì)所述待曝光基板曝光完成后，利用光源向所述金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線，使所述光感涂層從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；

在所述靜電荷從所述光感涂層經(jīng)過所述金屬臺(tái)面導(dǎo)出后，將曝光后的基板脫離所述臺(tái)架。

本發(fā)明有益效果如下：

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)、曝光系統(tǒng)及其曝光方法，包括：用于承載待曝光基板的具有金屬臺(tái)面的臺(tái)架、用于向金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線的光源、以及用于向金屬臺(tái)面釋放靜電荷的靜電發(fā)生器；其中，金屬臺(tái)面的表面具有光感涂層；光感涂層在感應(yīng)到特定光線后從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；金屬臺(tái)面接地；特定光線與曝光機(jī)發(fā)射的曝光光線具有不同的波長(zhǎng)范圍。因此，在光源發(fā)出的特定光線的作用下，使得光感涂層在絕緣狀態(tài)和導(dǎo)電狀態(tài)之間發(fā)生轉(zhuǎn)變，有利于對(duì)待曝光基板的固定和分離；同時(shí)，通過靜電發(fā)生器向光感涂層釋放靜電荷，實(shí)現(xiàn)了通過靜電吸附的方式固定待曝光基板，且不會(huì)出現(xiàn)凸起的分區(qū)擋墻；此外，通過將金屬臺(tái)面接地，使得靜電荷可以從光感涂層經(jīng)過金屬臺(tái)面而導(dǎo)出，實(shí)現(xiàn)待曝光基板與光感涂層的分離，便于待曝光基板的移開；總之，該曝光機(jī)機(jī)臺(tái)既保證了靜電的產(chǎn)生和對(duì)待曝光基板的吸附，又實(shí)現(xiàn)了對(duì)已存靜電荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因氣體負(fù)壓吸附的方式帶來的stagemura，保護(hù)了待曝光基板不受破壞，有效提高了待曝光基板的曝光質(zhì)量。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的曝光機(jī)機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為采用現(xiàn)有技術(shù)中的曝光機(jī)機(jī)臺(tái)制作的基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例中提供的曝光機(jī)機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例中提供的曝光機(jī)機(jī)臺(tái)的俯視圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例中提供的曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例中提供的采用曝光系統(tǒng)進(jìn)行曝光的方法。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)、曝光系統(tǒng)及其曝光方法的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明。需要說明的是，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

曝光機(jī)可以分為電子束曝光機(jī)和紫外曝光機(jī)，電子束曝光機(jī)的曝光精度可以達(dá)到納米級(jí)，可以得到非常精細(xì)的圖案；而紫外曝光機(jī)的曝光精度最小可以達(dá)到1微米，但在實(shí)際的工藝中卻很難得到精度為1微米的圖案，但液晶顯示面板中的圖案通常都在微米級(jí)，因此，紫外曝光機(jī)通常被用于制作液晶顯示面板。同時(shí)，由于在紫外曝光的過程中，曝光機(jī)機(jī)臺(tái)所帶靜電對(duì)曝光影響較小，所以，根據(jù)這一現(xiàn)象，采用靜電吸附的方式來固定待曝光基板，以避免因氣體負(fù)壓吸附引起的凸起分區(qū)擋墻而導(dǎo)致stagemura問題的出現(xiàn)，較大地提高了待曝光基板的曝光質(zhì)量。

因此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)，如圖3所示，可以包括：用于承載待曝光基板的具有金屬臺(tái)面的臺(tái)架01、用于向金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線的光源02、以及用于向金屬臺(tái)面釋放靜電荷的靜電發(fā)生器03；其中，

金屬臺(tái)面的表面具有光感涂層04；光感涂層04在感應(yīng)到特定光線后從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；

金屬臺(tái)面接地；

特定光線與曝光機(jī)發(fā)射的曝光光線具有不同的波長(zhǎng)范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)，在光源發(fā)出的特定光線的作用下，使得光感涂層在絕緣狀態(tài)和導(dǎo)電狀態(tài)之間發(fā)生轉(zhuǎn)變，有利于對(duì)待曝光基板的固定和分離；同時(shí)，通過靜電發(fā)生器向光感涂層釋放靜電荷，實(shí)現(xiàn)了通過靜電吸附的方式固定待曝光基板，且不會(huì)出現(xiàn)凸起的分區(qū)擋墻；此外，通過將金屬臺(tái)面接地，使得靜電荷可以從光感涂層經(jīng)過金屬臺(tái)面而導(dǎo)出，實(shí)現(xiàn)待曝光基板與光感涂層的分離，便于待曝光基板的移開；總之，該曝光機(jī)機(jī)臺(tái)既保證了靜電的產(chǎn)生和對(duì)待曝光基板的吸附，又實(shí)現(xiàn)了對(duì)已存靜電荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因氣體負(fù)壓吸附的方式帶來的stagemura，保護(hù)了待曝光基板不受破壞，有效提高了待曝光基板的曝光質(zhì)量。

在具體實(shí)施時(shí)，因金屬臺(tái)面是由高導(dǎo)電性的金屬制作而成，所以為了實(shí)現(xiàn)金屬臺(tái)面接地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，金屬臺(tái)面通過至少一條導(dǎo)線接地；具體地，設(shè)置的導(dǎo)線可以為一條，也可以為多條，可以根據(jù)金屬臺(tái)面的大小而定；當(dāng)金屬臺(tái)面較大時(shí)，可以通過設(shè)置多條導(dǎo)線接地，以便于靜電荷快速導(dǎo)出至大地，如圖3所示，金屬臺(tái)面通過兩條導(dǎo)線05接地；當(dāng)金屬臺(tái)面較小時(shí)，只設(shè)置一條導(dǎo)線接地即可，在此不作限定。

在具體實(shí)施時(shí)，在紫外曝光的過程中，需要在待曝光基板表面涂覆光刻膠，而涂覆的光刻膠只是對(duì)特定波長(zhǎng)的紫外光敏感，對(duì)紅外光則不敏感，即光刻膠在紫外光的照射下，部分區(qū)域會(huì)發(fā)生交聯(lián)，再通過顯影液的作用從而形成特定圖案；而光刻膠在紅外光的照射下，則表面較為遲鈍，不會(huì)發(fā)生交聯(lián)等反應(yīng)，因此，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，在光源設(shè)置為紅外光源時(shí)，光感涂層可以為紅外半導(dǎo)體涂層；該紅外半導(dǎo)體涂層可以在紅外光源的照射下時(shí)呈現(xiàn)出導(dǎo)電狀態(tài)，而不在紅外光源的照射下時(shí)呈現(xiàn)出絕緣狀態(tài)，以便于實(shí)現(xiàn)對(duì)待曝光基板的固定和分離。

具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，紅外半導(dǎo)體涂層可以為硫化鉛、碲化鉛或硒化鉛之一或組合；當(dāng)然，還可以是其他對(duì)紅外光源敏感，且能夠在紅外光源的照射下性質(zhì)能夠發(fā)生變化的物質(zhì)，在此不作限定。

進(jìn)一步地，為了使位于金屬臺(tái)面之上的光感涂層能夠均勻且充分的發(fā)生性質(zhì)變化，光源所發(fā)出的特定光線需要能夠照射到整個(gè)金屬臺(tái)面，因此，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，如圖3所示，光源02位于金屬臺(tái)面的正上方，通過光源02發(fā)出的特定光線(如圖3中所示的帶有箭頭的虛線)，使光感涂層04從絕緣狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)閷?dǎo)體狀態(tài)。

當(dāng)然，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，光源與光感涂層是相匹配的，在光源為紅外光源時(shí)，光感涂層為紅外半導(dǎo)體涂層；若光源為其他光源時(shí)，光感涂層則為匹配的半導(dǎo)體涂層；因此，光源和光感涂層并不限于紅外光范疇，還可以是其他特定波長(zhǎng)的光，在此不作限定。

在具體實(shí)施時(shí)，在保持光源關(guān)閉時(shí)，首先將靜電發(fā)生器靠近金屬臺(tái)面，并向金屬臺(tái)面噴灑負(fù)離子，以使金屬臺(tái)面表面的光感涂層具有負(fù)的靜電荷，而待曝光基板通常為玻璃，且玻璃容易帶正電，根據(jù)異性電荷相吸的原理，很容易將玻璃材質(zhì)的待曝光基板通過靜電荷吸附在光感涂層表面；而為了在吸附的過程中，使得待曝光基板平整地吸附在光感涂層表面，需要將二者之間的空氣排出金屬臺(tái)面；因此，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，如圖3和圖4所示，還可以包括：貫穿金屬臺(tái)面和光感涂層04的多個(gè)規(guī)則排列的排氣孔06；在圖3中，虛線框內(nèi)的黑色填充區(qū)域即為排氣孔；在圖4所示的俯視圖中，因光感涂層整面覆蓋在金屬臺(tái)面之上，使得在俯視圖中金屬臺(tái)面是與光感涂層完全重疊的；并且，在排氣孔06的內(nèi)部也需要涂覆光感涂層，有利于待曝光基板的固定。

具體地，通過排氣孔06可以充分且及時(shí)的將待曝光基板與光感涂層表面之間的空氣排出，以便于將待曝光基板固定于金屬臺(tái)面之上；而當(dāng)需要移開待曝光基板時(shí)，還可以通過排氣孔向待曝光基板面向光感涂層的一側(cè)鼓入空氣，有助于將待曝光基板與光感涂層的迅速分離，方便移開待曝光基板。

具體地，為了均勻控制排出和鼓入的空氣，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，各排氣孔的孔徑大小可以相等。

具體地，為了不影響金屬臺(tái)面的平整性，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)中，排氣孔的孔徑一般不大于0.5毫米。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光系統(tǒng)，如圖5所示，包括：如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光機(jī)機(jī)臺(tái)501，以及曝光機(jī)502；其中，用于向金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線的光源02可以設(shè)置于曝光機(jī)502內(nèi)部(圖5所示)；當(dāng)然，還可以將光源02設(shè)置于曝光機(jī)502外部，在此不作限定。

具體地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光系統(tǒng)，可以是紫外曝光系統(tǒng)，曝光機(jī)則為紫外曝光機(jī)；當(dāng)然，還可以是其他曝光系統(tǒng)，在此不作限定。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種采用如本發(fā)明實(shí)施例提供的上述曝光系統(tǒng)進(jìn)行曝光的方法，如圖6所示，可以包括：

s601、利用靜電發(fā)生器向金屬臺(tái)面上的光感涂層釋放靜電荷，靜電荷與待曝光基板表面攜帶的靜電荷電性相反；

s602、將待曝光基板放置于附著有靜電荷的光感涂層之上，以使待曝光基板固定于臺(tái)架上；

s603、在采用曝光機(jī)對(duì)待曝光基板曝光完成后，利用光源向金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線，使光感涂層從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；

s604、在靜電荷從光感涂層經(jīng)過金屬臺(tái)面導(dǎo)出后，將曝光后的基板脫離臺(tái)架。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)機(jī)臺(tái)、曝光系統(tǒng)及其曝光方法，包括：用于承載待曝光基板的具有金屬臺(tái)面的臺(tái)架、用于向金屬臺(tái)面發(fā)射特定光線的光源、以及用于向金屬臺(tái)面釋放靜電荷的靜電發(fā)生器；其中，金屬臺(tái)面的表面具有光感涂層；光感涂層在感應(yīng)到特定光線后從絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)；金屬臺(tái)面接地；特定光線與曝光機(jī)發(fā)射的曝光光線具有不同的波長(zhǎng)范圍。因此，在光源發(fā)出的特定光線的作用下，使得光感涂層在絕緣狀態(tài)和導(dǎo)電狀態(tài)之間發(fā)生轉(zhuǎn)變，有利于對(duì)待曝光基板的固定和分離；同時(shí)，通過靜電發(fā)生器向光感涂層釋放靜電荷，實(shí)現(xiàn)了通過靜電吸附的方式固定待曝光基板，且不會(huì)出現(xiàn)凸起的分區(qū)擋墻；此外，通過將金屬臺(tái)面接地，使得靜電荷可以從光感涂層經(jīng)過金屬臺(tái)面而導(dǎo)出，實(shí)現(xiàn)待曝光基板與光感涂層的分離，便于待曝光基板的移開；總之，該曝光機(jī)機(jī)臺(tái)既保證了靜電的產(chǎn)生和對(duì)待曝光基板的吸附，又實(shí)現(xiàn)了對(duì)已存靜電荷的消除，方便待曝光基板的取出，避免因氣體負(fù)壓吸附的方式帶來的stagemura，保護(hù)了待曝光基板不受破壞，有效提高了待曝光基板的曝光質(zhì)量。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。