本發(fā)明涉及光掃描裝置、及具備該光掃描裝置的圖像形成裝置。

背景技術：

搭載于電子照相方式的圖像形成裝置上的光掃描裝置(曝光裝置)，其包括：發(fā)出光束的光源；和掃描光學系統(tǒng)，其通過來自光源的光束對被掃描面上進行偏轉掃描。并且，構成光源或掃描光學系統(tǒng)等光掃描裝置的各部件，被保持在光掃描裝置的箱體上。再者，為了抑制飛散碳粉等的塵埃付著在掃描光學系統(tǒng)上，掃描光學系統(tǒng)被收容在設置于箱體內的收容區(qū)域。

此外，在光掃描裝置上設置有用來檢測從光源發(fā)出的光束的檢測部件（例如，參照專利文獻1）。檢測部件包括光電二極管等受光素子，對光束進行受光及檢測，且輸出顯示對光束進行了檢測的情況的檢測信號。并且，控制光掃描裝置的動作的控制部，根據(jù)來自檢測部件的檢測信號，計算光掃描的開始定時。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-148548號公報。

技術實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的技術問題

例如，掃描光學系統(tǒng)包括多面鏡，但為了使多面鏡旋轉，必須向多面鏡傳遞電動機的驅動力。因此，在箱體內，除了掃描光學系統(tǒng)外還收容有電動機。這樣若在箱體內收容有電動機，則箱體內的溫度會因電動機的發(fā)熱而上升。

在此，若有熱損害施加在檢測部件上，檢測部件的受光素子的靈敏度就有可能下降。若受光素子的靈敏度下降，則光束的檢測精度變差，光掃描的開始定時就會從目標定時偏離。因此，為了抑制熱損害被施加在檢測部件上，有時不將檢測部件配置在箱體內側而是配置在外側。若將檢測部件配置在箱體外側，即使箱體內的溫度上升，熱損害也難施加在檢測部件上，從而能抑制受光素子的靈敏度的降低。

在箱體外側配置檢測部件的情況，為了使檢測部件接受光束，在箱體的一部分形成有用于使光束從箱體內側向外側射出的開口部。然而，若在箱體上形成這樣的開口部，塵埃就有可能經(jīng)由開口部進入箱體內，進而弄臟箱體內的掃描光學系統(tǒng)。即，防塵性下降。

本發(fā)明是為了解決所述技術問題而完成，其目的在于提供一種能夠抑制熱損害被施加在用于檢測光束的檢測部件上，且能抑制防塵性下降的光掃描裝置及具備該光掃描裝置的圖像形成裝置。

解決技術問題所采用的技術方案

為了達成所述目的，本發(fā)明的光掃描裝置，具備掃描光學系統(tǒng)、外殼、檢測部件、蓋體和檢測部件，掃描光學系統(tǒng)，通過從光源發(fā)出的光束對被掃描面上進行偏轉掃描。外殼具有底部及從底部立設在上下方向的外殼側壁部。外殼在由底部及外殼側壁部包圍的收容區(qū)域內收容掃描光學系統(tǒng)。蓋體通過從外殼的上方側安裝在外殼上，從而將收容區(qū)域的開口堵塞。檢測部件被配置在收容區(qū)域的外側，對光束進行受光及檢測，且輸出用來計算向被掃描面進行光掃描的開始定時的檢測信號。此外，在外殼側壁部的一部分即第1部分形成有光檢測開口部，該光檢測開口部用于將光束從收容區(qū)域內側向外側射出且使檢測部件受光。并且，光檢測開口部，是由穿透光束的透光性部件堵塞。

本發(fā)明的構成中，如所述，由于將用來檢測光束的檢測部件配置在收容區(qū)域外側，所以即使收容區(qū)域內的溫度上升，也能抑制熱損害被施加在檢測部件上。此外，為了使配置在收容區(qū)域外側的檢測部件接受光束，在外殼側壁部的一部分(第1部分)形成用于使光束從收容區(qū)域內側向外側射出的光檢測開口部，但由于此光檢測開口部由透光性部件堵塞，所以想要經(jīng)由光檢測開口部進入收容區(qū)域內的塵埃流被透光性部件所截斷。由此，即使在收容區(qū)域外側配置檢測部件，且伴隨此在第1部分形成光檢測開口部，仍能抑制防塵性下降。

發(fā)明效果

如以上說明，根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制熱損害施加在用來檢測光束的檢測部件，并能抑制防塵性下降。

附圖說明

圖1是搭載有本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置（光掃描裝置）的復合機（圖像形成裝置）的概略圖；

圖2是用來說明本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的內部結構的示意圖；

圖3是用來說明本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體結構的剖視圖（顯示蓋體被安裝在外殼之前的狀態(tài)的圖）；

圖4是用來說明本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體結構的剖視圖（顯示蓋體被安裝在外殼之后的狀態(tài)的圖）；

圖5是用來說明形成本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體的外殼結構的立體圖；

圖6是用來說明形成本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體的外殼結構的俯視圖；

圖7是從側面觀察形成在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的光檢測開口部及嵌入其中的透光性部件的情況的放大圖；

圖8是從上方觀察形成在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的光檢測開口部及嵌入其中的透光性部件的情況的放大圖；

圖9是從側面觀察形成在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的光檢測開口部及嵌入其中的透光性部件的情況的放大圖（顯示安裝有蓋體之前的狀態(tài)的圖）；

圖10是從側面觀察形成在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的光檢測開口部及嵌入其中的透光性部件的情況的放大圖（顯示安裝有蓋體之后的狀態(tài)的圖）；

圖11是顯示形成在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的光檢測開口部及嵌入其中的透光性部件的剖視圖（顯示安裝有蓋體之后的狀態(tài)的圖）；和

圖12是顯示安裝在本發(fā)明的一實施方式的曝光裝置的箱體上的檢測部件的安裝結構的剖視圖。

具體實施方式

以復合機為例對本發(fā)明的一實施方式的光掃描裝置及具備該光掃描裝置的圖像形成裝置進行說明。

＜復合機的整體結構＞

如圖1所示，復合機100（相當于“圖像形成裝置”）具有圖像讀取部1及印刷部2。圖像讀取部1讀取原稿且生成圖像數(shù)據(jù)。印刷部2沿著紙張輸送路21輸送紙張P，并根據(jù)圖像數(shù)據(jù)形成調色劑像。并且，印刷部2在輸送中的紙張P上印刷調色劑像，且將印刷完的紙張P向排紙托盤22排出。

印刷部2包括供紙部3、紙張輸送部4、圖像形成部5及定影部6。供紙部3包含搓紙輥31及供紙輥對32，將收容在紙匣33的紙張P供給于紙張輸送路21。紙張輸送部4包含多個輸送輥對41，且沿著紙張輸送路21輸送紙張P。

圖像形成部5包括感光體鼓51、帶電裝置52、曝光裝置53（相當于“光掃描裝置”）、顯影裝置54、轉印輥55及清潔裝置56。

圖像形成時，感光體鼓51旋轉，帶電裝置52使此感光體鼓51的表面（相當于“被掃描面”）帶電。此外，曝光裝置53對感光體鼓51的表面進行曝光，在感光體鼓51的表面形成靜電潛像。顯影裝置54將碳粉供給于形成在感光體鼓51的表面的靜電潛像上并進行顯影。

轉印輥55壓接在感光體鼓51的表面，在與感光體鼓51之間形成轉印夾持部（nip）。通過紙張P進入此轉印夾持部，將感光體鼓51表面的調色劑像轉印在紙張P上。清潔裝置56將殘留在感光體鼓51表面的碳粉等除去。

定影部6包含加熱輥61及加壓輥62。加熱輥61內置有發(fā)熱源。加壓輥62壓接在加熱輥61上，在與加熱輥61之間形成定影夾持部。并且，轉印了調色劑像的紙張P通過定影夾持部，由此被加熱及加壓。由此，調色劑像定影在紙張P上，完成印刷。

＜曝光裝置的結構＞

如圖2所示，曝光裝置53具有半導體激光元件71（相當于“光源”）和掃描光學系統(tǒng)72。半導體激光元件71發(fā)出曝光用的光束。掃描光學系統(tǒng)72包含準直透鏡73、柱面透鏡74、多面鏡75、Fθ透鏡76及反射鏡77等，通過從半導體激光元件71發(fā)出的光束，從而對感光體鼓51的表面上進行偏轉掃描。

準直透鏡73將從半導體激光元件71發(fā)出的的光束轉換為平行光。柱面透鏡74僅在與主掃描方向正交的副掃描方向上具有規(guī)定的折射力，使來自準直透鏡73的光束成像在多面鏡75的反射面。多面鏡75是具有多個反射面的旋轉多面鏡，且從多面鏡電動機75a被傳遞驅動力而進行旋轉。然后，多面鏡75通過旋轉，對入射在此反射面的光束進行偏轉掃描。Fθ透鏡76使來自多面鏡75的光束以一定的速度在主掃描方向上進行掃描，且向反射鏡77引導。反射鏡77將光束向被掃描面即感光體鼓51的表面反射。

此外，在曝光裝置53上設置有檢測部件78及反射鏡79，該檢測部件78檢測光束且輸出檢測信號，該反射鏡79將反射鏡79向此檢測部件78反射。檢測部件78是安裝有光電二極管等受光素子78a（參照圖12）的基板，通過接受光束使檢測信號的輸出值變化。復合機100的控制部(未圖示)接收從檢測部件78輸出的檢測信號。并且，復合機100的控制部，根據(jù)來自檢測部件78的檢測信號，計算對感光體鼓81的表面的曝光開始定時（光掃描的開始定時）。

為了保持半導體激光元件71或掃描光學系統(tǒng)72，曝光裝置53具有如圖3及圖4所示的箱體50。此箱體50包括外殼80及蓋體90。以下，將曝光裝置53的上下方向稱為A方向進行說明。

外殼80具有底部81、和從該底部81立設在A方向(上方)的側壁部82（以下，稱為外殼側壁部82）。并且，外殼80在由底部81及外殼側壁部82包圍的區(qū)域即收容區(qū)域80A內收容掃描光學系統(tǒng)72。再者，雖未圖示，半導體激光元件71不收容在收容區(qū)域80A的內側，而是配置在收容區(qū)域80A的外側。因此，從半導體激光元件71發(fā)出的的光束，經(jīng)由形成在外殼80的未圖示的入光孔進入收容區(qū)域80A內。

收容在收容區(qū)域80A內的掃描光學系統(tǒng)72被安裝在底部81，但在此底部81形成有臺階。這樣在底部81形成臺階的理由，是為了使構成掃描光學系統(tǒng)72的各部件的A方向的位置一致。此外，在底部81形成有光射出孔81a，該光射出孔81a用于使光束從曝光裝置53的內部向外部射出（以反射鏡77反射的光束）且射在感光體鼓51的表面。此光射出孔81a是將主掃描方向作為長邊方向的大致矩形狀開口的孔，且通過透明窗81b被從外側堵塞。

蓋體90具有頂面部91、和從該頂面部91立設在A方向(下方)的側壁部92（以下，稱為蓋體側壁部92）。再者，頂面部91不一定要形成為平坦，也可在一部分形成傾斜或臺階。例如，圖3及圖4所示的例子中，頂面部91的一部分（反射鏡77一側的端部）向下方凹陷，但此凹陷的部分也是頂面部91的一部分。

此外，在頂面部91中的比蓋體側壁部92靠內側的部分一體形成有肋93。肋93呈壁狀立設在A方向(下方)上，且隔著間隔與蓋體側壁部92對置。再者，蓋體側壁部92形成在頂面部91的全周，但肋93也同樣形成在頂面部91的全周。

蓋體90是從外殼80的上方側（收容區(qū)域80A的開口側）安裝在外殼80。由此，收容區(qū)域80A被蓋體90堵塞（頂面部91覆蓋收容區(qū)域80A）。此外，在蓋體90被安裝于外殼80上的狀態(tài)下，在比外殼側壁部82靠外側配置有蓋體側壁部92，外殼側壁部82被蓋體側壁部92及肋93夾入。這樣，若利用蓋體側壁部92及肋93夾入外殼側壁部82，能抑制塵埃（飛散的碳粉等）朝收容區(qū)域80A內的進入。即，能抑制掃描光學系統(tǒng)72被弄臟。

在此，如圖5及圖6所示，檢測部件78保持在外殼80上，但不收容在收容區(qū)域80A的內側，而是被配置在收容區(qū)域80A的外側。因此，在外殼側壁部82的一部分即第1部分83形成有光檢測開口部83a，該光檢測開口部83a用于使光束從收容區(qū)域80A的內側向外側射出而使檢測部件78（受光素子78a）受光。由此，即使在收容區(qū)域80A的外側配置檢測部件78，仍能使檢測部件78接受光束。再者，反射鏡79被收容在收容區(qū)域80A內，由反射鏡79反射的光束經(jīng)由光檢測開口部83a到達檢測部件78。

這樣，在收容區(qū)域80A的外側配置檢測部件78，且伴隨此在第1部分83形成光檢測開口部83a的情況，若預先將光檢測開口部83a設為開放狀態(tài)，塵埃有可能從光檢測開口部83a進入收容區(qū)域80A內，而弄臟掃描光學系統(tǒng)72。因此，在第1部分83安裝有堵塞光檢測開口部83a的透光性部件8。例如，透光性部件8是用來將光束收束在檢測部件78的透鏡。只是，不需要使透光性部件8具有透鏡功能，也能使用不具透鏡功能的透明板作為透光性部件8。

如圖7及圖8所示，光檢測開口部83a的開口形狀，成為從第1部分83的上方側切入的凹口形狀。此外，在形成光檢測開口部83a的內緣的各面，沿光檢測開口部83a的內緣形成有狹縫83b。并且，在狹縫83b的一側的內表面形成有向另一側的內表面突起的突起83c。并且，透光性部件8，通過從第1部分83的上方側壓入狹縫83b內，被嵌入光檢測開口部83a內。由此，光檢測開口部83a被透光性部件8堵塞。再者，在透光性部件8嵌入光檢測開口部83a內的狀態(tài)下，通過在狹縫83b的一側的內表面存在突起83c，透光性部件8密貼在狹縫83b的另一側的內表面。

此外，如圖9及圖10所示，在頂面部91內的與光檢測開口部83a的形成位置重疊的部分配置有由海綿等彈性材料構成的彈性部件9。因此，若在外殼80安裝蓋體90，彈性部件9被夾入透光性部件8與頂面部91之間。即，彈性部件9進入透光性部件8的上端側所產(chǎn)生之間隙內。由此，光檢測開口部83a被無間隙地堵塞，從而能抑制塵埃從光檢測開口部83a向收容區(qū)域80A內的進入。

再者，如圖11所示，蓋體側壁部92及肋93還存在于光檢測開口部83a的形成位置。并且，在光檢測開口部83a的形成位置，嵌入光檢測開口部83a的透光性部件8（也包含彈性部件9），由蓋體側壁部92與肋93夾入。

并且，如圖5及圖6所示，在外殼側壁部82形成有用于抽出連接在多面鏡電動機75a的電纜(未圖示)的電纜抽出開口部82a。因此，在頂面部91中的與電纜抽出開口部82a的形成位置重疊的部分上也配置有與彈性部件9同樣的彈性部件10。并且，電纜抽出開口部82a也是通過此彈性部件10堵塞。

此外，為了進一步抑制塵埃從光檢測開口部83a向收容區(qū)域80A內的進入，外殼側壁部82一體具有第2部分84。第2部分84在第1部分83的外側與第1部分83對置地呈壁狀立設在A方向，且與第1部分83一起包圍第1部分83外側的一區(qū)域。即，第1部分83外側的一區(qū)域，是由第1部分83與第2部分84包圍，由此，成為與收容區(qū)域80A隔離的空間82S。若設置這樣的空間82S，能抑制塵埃向第1部分83外側的一區(qū)域的進入，其結果，來自曝光裝置53的外部的塵埃變得難以到達光檢測開口部83a。

第2部分84除了用來抑制塵埃進入的部分之外，還是用于保持檢測部件78的部分。因此，如圖12所示，在第2部分84設置有用于安裝檢測部件78的安裝部85。安裝部85具有凸座85a及受光孔85b。并且，在檢測部件78的基板上形成有安裝孔78b，在將檢測部件78安裝于安裝部85時，凸座85a被插入安裝孔78b內。此外，在檢測部件78被安裝在安裝部85的狀態(tài)下，受光素子78a與受光孔85b重疊。由此，光束經(jīng)由受光孔85b，入射于受光素子78a。

再者，供凸座85a插入的安裝孔78a，被設為將與A方向正交的水平方向（垂直于圖12的紙面的方向）作為長邊方向的長孔。此外，檢測部件78的基板，從第2部分84分離（不密貼于第2部分84）。由此，能使檢測部件78在水平方向上移動，因此能夠在水平方向調整檢測部件78的保持位置。

這樣在能調整檢測部件78的位置的情況下，在第2部分84與檢測部件78之間空開有間隙，所以，塵埃有可能從此間隙經(jīng)由受光孔85b進入空間82S內。但是，假定即使有塵埃進入空間82S內，如圖11所示，空間82S與收容區(qū)域80A被第1部分83分隔，且，形成在第1部分83的光檢測開口部83a，由透光性部件8及彈性部件9堵塞，所以向收容區(qū)域80A內進入的塵埃少（幾乎無塵埃的進入）。

本實施方式的曝光裝置53（光掃描裝置），如所述，具備：掃描光學系統(tǒng)72，其通過從半導體激光元件71(光源)發(fā)出的光束，對感光體鼓51表面(被掃描面)上進行偏轉掃描；外殼80，其具有底部81及從底部81A立設在A方向(上下方向)的外殼側壁部82，且在由底部81及外殼側壁部82包圍的收容區(qū)域80A內收容掃描光學系統(tǒng)72；蓋體90，其通過從外殼81的上方側安裝在外殼81，堵塞收容區(qū)域80A的開口；和檢測部件78，其配置在收容區(qū)域80A的外側，對光束進行受光及檢測，輸出用來計算向感光體鼓51的表面進行光掃描的開始定時的檢測信號。此外，在外殼側壁部的一部分即第1部分，形成有用于將光束從收容區(qū)域80A的內側向外側射出且使檢測部件78受光的光檢測開口部83a。并且，光檢測開口部83a是由穿透光束的透光性部件8堵塞。

本實施方式的結構中，將用來檢測光束的檢測部件78配置在收容區(qū)域80A的外側，所以即使收容區(qū)域80A內的溫度上升，也能抑制熱損害施加在檢測部件78上。此外，為了使配置在收容區(qū)域80A外側的檢測部件78接受光束，在外殼側壁部82的一部分(第1部分83)形成用于使光束從收容區(qū)域80A內側向外側射出的光檢測開口部83a，但由于此光檢測開口部83a被透光性部件8堵塞，所以想要經(jīng)由光檢測開口部83a進入收容區(qū)域80A內的塵埃流被透光性部件8所截斷。由此，即使在收容區(qū)域80A外側配置檢測部件78，且伴隨此在第1部分83形成光檢測開口部83a，仍能抑制防塵性下降。

此外，本實施方式中，如所述，外殼側壁部82一體具有安裝有檢測部件78的第2部分84。此第2部分84在第1部分83的外側與第1部分83對置地呈壁狀立設在A方向。并且，第1部分83外側的一區(qū)域，成為由第1部分83與第2部分84包圍的空間82S。根據(jù)這樣的構成，第1部分83外側的一區(qū)域（空間82S）成為塵埃量少的區(qū)域。由此，由于到達形成在第1部分83的光檢測開口部83a的塵埃減少，所以，能進一步抑制塵埃經(jīng)由光檢測開口部83a進入收容區(qū)域80A內。

此外，本實施方式中，如所述，光檢測開口部83a的開口形狀，成為從第1部分83的上方側切入的凹口形狀，透光性部件8從第1部分83的上方側被嵌入光檢測開口部83a。并且，在透光性部件8與蓋體90之間夾入能彈性變形的彈性部件9。根據(jù)這樣的構成，能夠通過彈性部件9來填埋透光性部件8與蓋體90之間之間隙。由此，能確實抑制塵埃經(jīng)由光檢測開口部83a進入收容區(qū)域80A內。

此外，本實施方式中，如所述，蓋體90具有堵塞收容區(qū)域80A的開口的頂面部91、和配置在外殼側壁部82的外側且從頂面部91立設在A方向的蓋體側壁部92。并且，在頂面部91中的比蓋體側壁部92靠內側的部分形成有隔著間隔與蓋體側壁部92對置的肋93。并且，外殼側壁部82被蓋體側壁部92及肋93夾入。根據(jù)這樣的構成，即使在外殼側壁部82的上端與頂面部91之間空隔有間隙，仍能抑制塵埃從此間隙進入收容區(qū)域80A內。

在此，嵌入光檢測開口部83a的透光性部件8，與外殼側壁部82一起規(guī)定收容區(qū)域80A。并且，在外殼側壁部82中的光檢測開口部83a的形成位置，嵌入光檢測開口部83a內的透光性部件8，通過蓋體側壁部92和肋93被夾入。因此，在收容區(qū)域80A的全周，規(guī)定收容區(qū)域80A的外殼側壁部82（也包含透光性部件8），成為由蓋體側壁部92和肋93夾入的狀態(tài)。即，成為在收容區(qū)域80A的全周設置有用于抑制塵埃向收容區(qū)域80A內的進入的結構的狀態(tài)。

因此，例如，不需要采用在收容區(qū)域80A內設置分隔板（用于截斷塵埃流動的壁）等，由此來抑制塵埃向掃描光學系統(tǒng)72的付著的對策。由此，收容區(qū)域80A內的熱（例如，以多面鏡電動機75a產(chǎn)生的熱）大范圍地擴散，從而能抑制局部的溫度上升。

此外，本實施方式中，如所述，透光性部件8是用于將光束收束在檢測部件78的受光素子78a的透鏡。根據(jù)這樣的構成，即使不將光檢測開口部83a與檢測部件78的距離設為較大，也能使從光檢測開口部83a射出的光束的焦點對準在受光素子78a。由此，能達成曝光裝置53（包含外殼80的箱體50）的小型化。

應能理解本次揭示的實施方式皆為例示而已，并非用來限制。本發(fā)明的范圍不是由所述實施方式的說明而是由專利要求范圍所揭示，并且，還包括與專利要求范圍均等的意義及范圍內的所有變更。