專利名稱：發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種放射影像設(shè)備，具體涉及該放射影像設(shè)備的曝光控制技木。
背景技術(shù)：
放射影像設(shè)備具有曝光劑量的要求，而通過(guò)曝光參數(shù)可以控制放射影像設(shè)備的曝光劑量。例如醫(yī)療領(lǐng)域常用的X線放射影像設(shè)備和CT設(shè)備，在放射攝影檢查中，其曝光參數(shù)包括四種KV(峰值電壓)，mA(管電流)，mS(曝光時(shí)間)，mAs(電流時(shí)間積)，其中mAs= mA*mS。高壓發(fā)生器對(duì)于曝光劑量的控制方式通常有兩種手動(dòng)方式和自動(dòng)方式。手動(dòng)方式，即指預(yù)先設(shè)置好所有的曝光參數(shù)，發(fā)生器根據(jù)相應(yīng)的參數(shù)進(jìn)行輸出。
自動(dòng)方式(又稱AEC, Auto Expoure Control),是指預(yù)先設(shè)定KV, mA,以及mSmax值；實(shí)際曝光時(shí)間由電離室設(shè)備控制，電離室用于感應(yīng)照射的能量。對(duì)于放射影像設(shè)備，其電離室上具有若干個(gè)電離室野，如圖I所示，電離室10上具有三個(gè)電離室野11。電離室也可以具有四個(gè)或五個(gè)電離室野，電離室野的數(shù)量根據(jù)需要而定。臨床拍片時(shí)，人體的被攝部位擋住其中一個(gè)或幾個(gè)電離室野(根據(jù)拍攝的具體情況可選擇ー個(gè)或者更多的電離室野有效，即可選擇哪些電離室野用于檢測(cè)劑量)，當(dāng)電離室檢測(cè)到的累積劑量達(dá)到閾值時(shí)，發(fā)出終止信號(hào)給發(fā)生器，發(fā)生器終止曝光，從而控制了曝光劑量。傳統(tǒng)AEC控制方式的原理圖如圖2所示X線投射到電離室上后，電離室感應(yīng)并累積電壓，當(dāng)此電壓值達(dá)到預(yù)設(shè)的閾值電壓后，輸出曝光截止信號(hào)，發(fā)生器終止曝光。當(dāng)被遮擋電離室野的信號(hào)輸出到達(dá)閾值吋，說(shuō)明該區(qū)域透過(guò)人體組織而剩下的X射線足夠，在這種劑量下，通常能獲得較好的圖像效果。但傳統(tǒng)的AEC控制方式存在如下缺陷若在實(shí)際拍攝時(shí)，電離室野遮擋不完全，則電離室部分或完全暴露在X射線中，電離室累積電壓會(huì)迅速達(dá)到飽和值，從而過(guò)早輸出曝光終止信號(hào)，所得到的圖像也難以達(dá)到應(yīng)有的效果，這種情況我們稱之為欠曝光。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的主要技術(shù)問(wèn)題是，提供一種發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法，防止放射影像設(shè)備欠曝光。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供ー種放射影像設(shè)備的曝光控制方法，包括放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓；在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光。其中，所述發(fā)生器根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光包括發(fā)生器不斷將實(shí)時(shí)感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時(shí)輸出曝光截止信號(hào)；
發(fā)生器判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，如果是則輸出第一控制信號(hào);當(dāng)曝光截止信號(hào)和第一控制信號(hào)同時(shí)存在時(shí)，發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。在一實(shí)施例中，在曝光過(guò)程中，發(fā)生器不斷判斷實(shí)際曝光時(shí)間是否達(dá)到預(yù)先設(shè)置的最大曝光時(shí)間，若是，則發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種發(fā)生器，用于放射影像設(shè)備的曝光控制，所述發(fā)生器包括控制器和比較器，比較器ー輸入端耦合到電離室的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，另ー輸入端耦合到控制器，用于輸入閾值電壓，在曝光過(guò)程中不斷將實(shí)時(shí)感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，井根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號(hào)至控制器；所述控制器包括記錄單元，用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參 數(shù)；第一判斷単元，用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號(hào)；第一控制單元，用于接收曝光截止信號(hào)和第ー控制信號(hào)，在曝光截止信號(hào)和第一控制信號(hào)同時(shí)有效時(shí)輸出用于控制曝光停止的第二控制信號(hào)。本發(fā)明還提供ー種放射影像設(shè)備，包括上述的發(fā)生器、控制系統(tǒng)、用于發(fā)射射線的射線發(fā)射裝置和電離室，發(fā)生器分別與控制系統(tǒng)和射線發(fā)射裝置連接，所述發(fā)生器從所述控制系統(tǒng)獲取全部或部分曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置曝光或停止曝光，電離室用于感應(yīng)曝光積累電壓并輸出感應(yīng)電壓至發(fā)生器。本發(fā)明除了根據(jù)感應(yīng)電壓達(dá)到閾值電壓來(lái)控制停止曝光外，還另外設(shè)置ー最小曝光控制參數(shù)，只有當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時(shí)才控制停止曝光，在保證充分曝光的基礎(chǔ)上有效防止了欠曝光。
圖I為ー種電離室示意圖；圖2為ー種曝光控制流程圖；圖3為本發(fā)明一種實(shí)施例的原理方框圖；圖4為本發(fā)明一種實(shí)施例的曝光控制流程圖；圖5為本發(fā)明又一種實(shí)施例的原理方框圖；圖6為本發(fā)明又一種實(shí)施例的曝光控制流程圖。
具體實(shí)施例方式下面通過(guò)具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)ー步詳細(xì)說(shuō)明。為防止放射影像設(shè)備欠曝光，在本發(fā)明實(shí)施例中，除了根據(jù)感應(yīng)電壓達(dá)到閾值電壓來(lái)控制停止曝光外，還另外設(shè)置ー最小曝光控制參數(shù)，只有當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時(shí)才控制停止曝光，這樣即使遇到異常，例如感應(yīng)電壓上升過(guò)快，但如果實(shí)際曝光量沒(méi)有達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，仍然不停止曝光，從而可防止欠曝光。以下以放射影像設(shè)備是X線放射影像設(shè)備為例進(jìn)行說(shuō)明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)放射影像設(shè)備是其他設(shè)備(例如CT機(jī))時(shí)，也可以以同樣或變形的結(jié)構(gòu)和原理解決本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題。請(qǐng)參考圖3，在一種實(shí)施例中，放射影像設(shè)備包括控制系統(tǒng)(圖中未示出)、射線發(fā)射裝置(圖中未示出)、電離室10和發(fā)生器20，射線發(fā)射裝置用于發(fā)射射線，通常采用球管，電離室10用于感應(yīng)曝光、積累電壓并輸出感應(yīng)電壓，發(fā)生器20通常為高壓發(fā)生器，接收曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制球管發(fā)射X射線，X射線透過(guò)被測(cè)患者，余量被電離室10接收，電離室10將感應(yīng)到的X射線照射劑量轉(zhuǎn)換成電壓，電離室10感應(yīng)到的X射線照射劑量越多，轉(zhuǎn)換成的感應(yīng)電壓越高，該感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器20，發(fā)生器20根據(jù)感應(yīng)電壓和預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)來(lái)控制停止曝光。本實(shí)施例中，發(fā)生器20包括控制器22和比較器24，比較器24的一輸入端耦合到電離室10的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，當(dāng)感應(yīng)電壓較小時(shí)，可通過(guò)發(fā)生器中設(shè)置的放大器26進(jìn)行放大后輸出到比較器24的ー輸入端。比較器24的另ー輸入端耦合到控制器22，用于輸入閾值電壓，在曝光過(guò)程中不斷將實(shí)時(shí)感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，井根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號(hào)a至控制器22。控制器22包括記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223。記錄單元221用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，當(dāng)然也可以記錄其它曝光參數(shù)，例如從控制系統(tǒng)接收的ー些曝光參數(shù)，記錄單元221可以是任何一個(gè)存儲(chǔ)単元，控制器22從記錄単元221中讀取閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，將閾值電壓輸出到比較器24的輸入端。第一判斷単元222用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號(hào)b。第一控制單兀223接收曝光截止信號(hào)a和第一控制信號(hào)b,在曝光截止信號(hào)a和第一控制信號(hào)b同時(shí)有效時(shí)輸出用于控制曝光停止的第二控制信號(hào)Co本實(shí)施例中，最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時(shí)間，實(shí)際曝光參數(shù)為實(shí)際曝光時(shí)間，所述第一判斷単元222判斷實(shí)際曝光時(shí)間是否達(dá)到最小曝光時(shí)間，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間大于或等于最小曝光時(shí)間時(shí)輸出第一控制信號(hào)b。在一具體實(shí)例中，第一判斷単元222為第一計(jì)時(shí)器，第一控制單元223包括邏輯與電路，第一計(jì)時(shí)器耦合到邏輯與電路，最小曝光時(shí)間為計(jì)時(shí)器的溢出值，當(dāng)曝光開(kāi)始時(shí)，控制器22控制第一計(jì)時(shí)器開(kāi)始計(jì)吋，當(dāng)?shù)谝挥?jì)時(shí)器溢出時(shí)輸出第一控制信號(hào)(電平信號(hào))b至邏輯與電路，邏輯與電路的另ー輸入端還耦合到比較器24的輸出端，當(dāng)?shù)谝挥?jì)時(shí)器的溢出值和比較器24輸出的曝光截止信號(hào)a和第一控制信號(hào)b同時(shí)有效時(shí)，例如同時(shí)為高電平時(shí)，邏輯與電路的輸出端變換電平狀態(tài)，輸出用于控制曝光停止的第二控制信號(hào)C。本實(shí)施例中，第二控制信號(hào)c可直接控制球管停止曝光。 在另一具體實(shí)例中，第一判斷単元222還可以是ー比較器，其一端輸入實(shí)際曝光時(shí)間，另一端輸入最小曝光時(shí)間，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間大于或等于最小曝光時(shí)間時(shí)比較器狀態(tài)翻轉(zhuǎn)，輸出第一控制信號(hào)b。記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223屬于數(shù)字部分，基于器件設(shè)計(jì)的要求，記錄單元221、第一判斷単元222和第一控制單元223中的兩者或三者可以集成到一個(gè)芯片中，例如將實(shí)現(xiàn)三者的功能都集成到控制器22的芯片中。閾值電壓可設(shè)置若干個(gè)，根據(jù)感應(yīng)電壓的大小選擇不同的檔位，通過(guò)檔位調(diào)節(jié)器28設(shè)定檔位，然后將調(diào)節(jié)檔位后的閾值電壓輸出到比較器24的輸入端。請(qǐng)參考圖4，圖4為圖3所示放射影像設(shè)備為控制曝光的流程圖，包括以下步驟步驟S41，高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)，本實(shí)施例中，曝光參數(shù)包括但不限于峰值電壓、管電流和最小曝光控制參數(shù)(例如最小曝光時(shí)間)，其中，峰值電壓、管電流通常由外部控制系統(tǒng)傳送，最小曝光控制參數(shù)的產(chǎn)生方法可有多種方法，例如根據(jù)外部控制系統(tǒng)傳送的管電流和最小電流時(shí)間積HlAs0llin)而由發(fā)生器計(jì)算出最小曝光時(shí)間HlSnlin，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最小曝光時(shí)間mSmin參數(shù),或直接由外部控制系統(tǒng)傳送最小曝光時(shí)間mSmin至發(fā)生器。步驟S42，高壓發(fā)生器產(chǎn)生高壓并經(jīng)由球管發(fā)出X射線，之后高壓發(fā)生器根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置(例如球管)進(jìn)行曝光(即發(fā)射X射線)或停止曝光。步驟S43，電離室接收X射線后，轉(zhuǎn)換成電壓，并將感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器。步驟S44，發(fā)生器的比較器24接收感應(yīng)電壓，將感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時(shí)，輸出曝光截止信號(hào)a，執(zhí)行步驟S45，否則不輸出曝光截止信號(hào)a，繼續(xù)接收感應(yīng)電壓。
步驟S45，當(dāng)檢測(cè)到曝光截止信號(hào)a時(shí)，發(fā)生器的控制器判斷曝光時(shí)間是否達(dá)到最小曝光時(shí)間mSmin，若是，則執(zhí)行步驟S46，如果否，則控制曝光持續(xù)，直到達(dá)到最小曝光時(shí)間mSx為止。步驟S46，控制器發(fā)出控制終止曝光信號(hào)。步驟S47，發(fā)生器終止曝光。在處理步驟中，步驟S45的執(zhí)行也可以不依賴于檢測(cè)到曝光截止信號(hào)a，即沒(méi)有檢測(cè)到曝光截止信號(hào)a也不斷判斷曝光時(shí)間是否達(dá)到最小曝光時(shí)間HiSmin，若是，則控制終止曝光；如果否，則控制曝光持續(xù)。另外，步驟S44和步驟S45的順序也可以根據(jù)需求進(jìn)行互換。上述實(shí)施例中，最小曝光控制參數(shù)還可以是最小曝光劑量，采用合適的測(cè)試儀測(cè)試曝光劑量，或?qū)?shí)時(shí)曝光時(shí)間乘以管電流得到曝光劑量，將實(shí)時(shí)曝光劑量輸出給第一判斷単元222，第一判斷単元222將實(shí)時(shí)曝光劑量和最小曝光劑量進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)時(shí)曝光劑量大于或等于最小曝光劑量時(shí)，輸出第一控制信號(hào)b。上述實(shí)施例中，通過(guò)對(duì)最小曝光控制參數(shù)的合理設(shè)置，使得當(dāng)感應(yīng)電壓正常上升的情況下，控制器根據(jù)感應(yīng)電壓達(dá)到閾值電壓控制停止曝光，因?yàn)檫@種情況下都會(huì)滿足實(shí)際曝光參數(shù)達(dá)到最小曝光控制參數(shù)的要求，從而保證足夠的曝光劑量。當(dāng)感應(yīng)電壓上升過(guò)快的情況下，控制器根據(jù)實(shí)際曝光參數(shù)達(dá)到最小曝光控制參數(shù)來(lái)控制停止曝光，因?yàn)檫@種情況下都會(huì)滿足感應(yīng)電壓達(dá)到閾值電壓的要求，從而可防止欠曝光。但在有些情況下，例如電離室異?；蚪邮諞](méi)對(duì)準(zhǔn)，使得感應(yīng)電壓很久上升不到閾值電壓，如果仍然根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)來(lái)控制停止曝光，則容易曝光過(guò)度，可能對(duì)被測(cè)患者造成傷害，為防止過(guò)曝光，在又一實(shí)施例中，増加防過(guò)曝光的技木。請(qǐng)參考圖5，在又一實(shí)施例中，與上述實(shí)施例不同的是，根據(jù)經(jīng)驗(yàn)或需要在發(fā)生器的記錄單元存儲(chǔ)最大曝光時(shí)間，發(fā)生器還包括第二判斷単元224和第二控制單元225，第二判斷単元224用于在曝光過(guò)程中將實(shí)際曝光時(shí)間和預(yù)先設(shè)置的最大曝光時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間達(dá)到最大曝光時(shí)間輸出第三控制信號(hào)d。所述第二控制單元225的輸入端分別耦合到第一控制單元223和第二判斷單元224的輸出端，響應(yīng)第二控制信號(hào)c和第三控制信號(hào)山當(dāng)?shù)诙刂菩盘?hào)c和第三控制信號(hào)d中的任一有效時(shí)則控制停止曝光，否則控制繼續(xù)曝光。
在一具體實(shí)例中，第二判斷單元224為第二計(jì)時(shí)器，第二控制單元225包括邏輯或電路，邏輯與電路221的輸出端和第二計(jì)時(shí)器224的輸出端分別耦合到邏輯或電路225的兩個(gè)輸入端。最大曝光時(shí)間為計(jì)時(shí)器的溢出值，當(dāng)曝光開(kāi)始吋，控制器22控制第二計(jì)時(shí)器開(kāi)始計(jì)時(shí)，當(dāng)?shù)诙?jì)時(shí)器溢出時(shí)輸出第三控制信號(hào)(電平信號(hào))d至邏輯或電路225，邏輯或電路225將第二控制信號(hào)c和第三控制信號(hào)d進(jìn)行或運(yùn)算后輸出用于控制曝光停止的第四控制信號(hào)e。第四控制信號(hào)e可直接控制球管停止曝光。請(qǐng)參考圖6，圖6為圖5所示放射影像設(shè)備為控制曝光的流程圖，包括以下步驟步驟S61，高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)，本實(shí)施例中，曝光參數(shù)包括但不限于峰值電壓、管電流、最大曝光時(shí)間mSmax和最小曝光控制參數(shù)(例如最小曝光時(shí)間mSmin),高壓發(fā)生器獲取AEC曝光參數(shù)的方式可以是以下任意ー種a,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小曝光時(shí)間mSmin、最大曝光時(shí)間mSfflax參數(shù)給發(fā)生器； b,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小電流時(shí)間積mAs(min)、最大電流時(shí)間積mAs(niax)參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部計(jì)算出最大曝光時(shí)間mSx參數(shù)和最小曝光時(shí)間
mSmin ；c，外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小曝光時(shí)間HiSmin參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最大曝光時(shí)間HlSmax參數(shù)；d,外部控制系統(tǒng)傳遞峰值電壓kV、管電流mA、最小電流時(shí)間積mAs(min)參數(shù)給發(fā)生器，發(fā)生器內(nèi)部自己定義最大曝光時(shí)間HlSmax參數(shù)。步驟S62，高壓發(fā)生器產(chǎn)生高壓并經(jīng)由球管發(fā)出X射線，之后高壓發(fā)生器根據(jù)曝光參數(shù)控制球管的X射線發(fā)射。步驟S63，電離室接收X射線后，轉(zhuǎn)換成電壓，并將感應(yīng)電壓輸出到發(fā)生器。步驟S64，當(dāng)檢測(cè)到曝光截止信號(hào)a吋，發(fā)生器的控制器判斷曝光時(shí)間是否達(dá)到最小曝光時(shí)間mSmin，若是，則執(zhí)行步驟S65 ;如果否，則控制曝光持續(xù)，直到達(dá)到最小曝光時(shí)間HlSmin 為止。步驟S65，發(fā)生器的比較器24接收感應(yīng)電壓，將感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時(shí)，輸出曝光截止信號(hào)a，執(zhí)行步驟S66，當(dāng)感應(yīng)電壓小于閾值電壓時(shí)比較器24不輸出曝光截止信號(hào)a，繼續(xù)接收感應(yīng)電壓。步驟S66，控制器發(fā)出控制終止曝光信號(hào)。步驟S67，發(fā)生器終止曝光。步驟S68，當(dāng)曝光開(kāi)始吋，控制器即開(kāi)始實(shí)際檢測(cè)曝光時(shí)間，當(dāng)檢測(cè)到實(shí)際曝光時(shí)間已達(dá)到最大曝光時(shí)間mS_吋，則無(wú)論是否控制器有停止曝光的控制信號(hào)給出，都強(qiáng)制終止曝光。本實(shí)施例中，通過(guò)對(duì)最大曝光時(shí)間的合理設(shè)置，使得當(dāng)感應(yīng)電壓很長(zhǎng)時(shí)間無(wú)法達(dá)到閾值電壓的情況下，控制器根據(jù)實(shí)際曝光時(shí)間達(dá)到最大曝光時(shí)間來(lái)強(qiáng)制控制停止曝光，從而可防止因曝光過(guò)度對(duì)被測(cè)患者造成的傷害。本實(shí)施例除了控制曝光的最長(zhǎng)時(shí)間之外，還控制了曝光的最短時(shí)間。系統(tǒng)除了給發(fā)生器傳遞kV，mA參數(shù)之外，另指定兩個(gè)曝光截止時(shí)間參數(shù)，即最大曝光時(shí)間mS_參數(shù)和最小曝光時(shí)間HiSmin參數(shù)，HiSmin參數(shù)限制了 AEC曝光的最短時(shí)間，HiSmax參數(shù)限制了 AEC曝光的最長(zhǎng)時(shí)間。在AEC曝光控制方式下，確保曝光時(shí)間介于OiiSn^mSniax)之間，從而有效防止欠曝光和過(guò)曝光現(xiàn)象的出現(xiàn)。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明所作的進(jìn)ー步詳細(xì)說(shuō)明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫 離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.ー種放射影像設(shè)備的曝光控制方法，其特征在于包括 放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓； 在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光。
2.如權(quán)利要求I所述方法，其特征在于，所述發(fā)生器根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光包括 發(fā)生器不斷將實(shí)時(shí)感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時(shí)輸出曝光截止信號(hào)； 發(fā)生器判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，如果是則輸出第一控制信號(hào)；當(dāng)曝光截止信號(hào)和第一控制信號(hào)同時(shí)存在時(shí)，發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。
3.如權(quán)利要求2所述方法，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時(shí)間，實(shí)際曝光參數(shù)為實(shí)際曝光時(shí)間，在所述發(fā)生器判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)步驟中，發(fā)生器將實(shí)際曝光時(shí)間和最小曝光時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間大于或等于最小曝光時(shí)間時(shí)輸出第一控制信號(hào)。
4.如權(quán)利要求I至3中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，還包括 在曝光過(guò)程中，發(fā)生器不斷判斷實(shí)際曝光時(shí)間是否達(dá)到預(yù)先設(shè)置的最大曝光時(shí)間； 若是，則發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。
5.一種發(fā)生器，用于放射影像設(shè)備的曝光控制，其特征在于，所述發(fā)生器包括 控制器； 比較器，其ー輸入端耦合到電離室的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，另ー輸入端耦合到控制器，用于輸入閾值電壓，在曝光過(guò)程中不斷將實(shí)時(shí)感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，并根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號(hào)至控制器； 所述控制器包括 記錄單元，用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)； 第一判斷単元，用于在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號(hào)； 第一控制單元，用于接收曝光截止信號(hào)和第一控制信號(hào)，在曝光截止信號(hào)和第一控制信號(hào)同時(shí)有效時(shí)輸出用于控制曝光停止的第二控制信號(hào)。
6.如權(quán)利要求5所述的發(fā)生器，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時(shí)間，實(shí)際曝光參數(shù)為實(shí)際曝光時(shí)間，所述第一判斷単元判斷實(shí)際曝光時(shí)間是否達(dá)到最小曝光時(shí)間，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間大于或等于最小曝光時(shí)間時(shí)輸出第一控制信號(hào)。
7.如權(quán)利要求5或6所述的發(fā)生器，其特征在于，所述記錄單元還用于記錄預(yù)先設(shè)置的最大曝光時(shí)間，所述控制器還包括 第二判斷単元，其用于在曝光過(guò)程中將實(shí)際曝光時(shí)間和最大曝光時(shí)間進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)際曝光時(shí)間達(dá)到最大曝光時(shí)間輸出第三控制信號(hào)； 第二控制單元，用于響應(yīng)第二控制信號(hào)和第三控制信號(hào)，當(dāng)?shù)诙刂菩盘?hào)和第三控制信號(hào)中的任一有效時(shí)控制停止曝光，否則控制繼續(xù)曝光。
8.ー種放射影像設(shè)備，其特征在于包括控制系統(tǒng)； 射線發(fā)射裝置，用于發(fā)射射線； 如權(quán)5至7中任一項(xiàng)所述的發(fā)生器，所述發(fā)生器分別與控制系統(tǒng)和射線發(fā)射裝置連接，所述發(fā)生器從所述控制系統(tǒng)獲取全部或部分曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置曝光或停止曝光； 電離室，用于感應(yīng)曝光、積累電壓并輸出感應(yīng)電壓至發(fā)生器。
9.如權(quán)利要求8所述的放射影像設(shè)備，其特征在于，所述放射影像設(shè)備為X線放射影像設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法，放射影像設(shè)備設(shè)置有閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)，在放射影像設(shè)備曝光過(guò)程中，放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光，當(dāng)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)都滿足時(shí)才停止曝光，在保證充分曝光的基礎(chǔ)上有效防止了欠曝光。
文檔編號(hào)G03B42/02GK102866558SQ201110186800
公開(kāi)日2013年1月9日 申請(qǐng)日期2011年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月5日
發(fā)明者劉兵全, 熊賢志, 何建強(qiáng), 張繼曄, 曾敏, 張贊超, 倪丕詳 申請(qǐng)人:深圳邁瑞生物醫(yī)療電子股份有限公司