顯示面板及其制作方法以及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種顯示面板、一種顯示面板制作方法和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來隨著智能手機(jī)、平板電腦等移動(dòng)終端的普及，較小尺寸的顯示屏獲得了廣泛的應(yīng)用，主要集中于AMOLED(有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體)顯示、LTPS(低溫多晶硅)-1XD顯示、高分辨率a-Si (非晶硅)LCD顯示等。人們的生活習(xí)慣也隨著智能手機(jī)等的普及而發(fā)生了較大的改變，長時(shí)間的使用觀看造成了眼睛的疲勞并引起身體不適，尤其戶外條件下的閱讀不佳更是加重了眼睛的疲勞度。雖然市場上也有保護(hù)眼睛的反射式電子紙等顯示產(chǎn)品，但由于無法實(shí)現(xiàn)彩色顯示，造成觀看視頻/網(wǎng)頁效果不佳，而市場受到了很大限制。
[0003]鑒于以上的使用習(xí)慣沖突，某些廠家提出了同時(shí)具備彩色顯示和黑白顯示的雙模式顯示產(chǎn)品。例如俄羅斯總統(tǒng)送給我國習(xí)主席的YotaPhone 2智能手機(jī)，一側(cè)是5英寸的Super AMOLED全高清屏幕，另一側(cè)為4.7英寸分辨率為960X540的反射式電子紙屏幕。這種結(jié)構(gòu)在觀看兩種屏幕時(shí)需要翻面顯示，操作復(fù)雜，而且在觀看一個(gè)面時(shí)，容易對(duì)另一個(gè)面造成損傷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，在顯示裝置的一面實(shí)現(xiàn)反射式顯示和彩色顯示。
[0005]為此目的，本發(fā)明提出了一種顯示面板，包括:
[0006]頂發(fā)射AMOLED顯示基板；
[0007]設(shè)置在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之上的常白模式反射式靜態(tài)顯示基板；
[0008]切換元件，根據(jù)接收到的第一指令開啟所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板，關(guān)閉所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板，根據(jù)接收到的第二指令開啟所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板，關(guān)閉所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板。
[0009]優(yōu)選地，所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板包括:
[0010]第一電極，用于驅(qū)動(dòng)所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板中的有機(jī)發(fā)光層，以及為所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板提供反射光線。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板還包括:
[0012]第一基底，其中，所述第一電極設(shè)置于所述第一基底之上，
[0013]其中，所述有機(jī)發(fā)光層設(shè)置在所述第一電極之上；
[0014]第二電極，設(shè)置于所述有機(jī)發(fā)光層之上；
[0015]封裝層，設(shè)置于所述第二電極之上。
[0016]優(yōu)選地，所述有機(jī)發(fā)光層的厚度小于預(yù)設(shè)厚度。
[0017]優(yōu)選地，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板包括:
[0018]偏振片，用于遮蔽或透過所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板射出的光線，或者遮蔽或透過所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板射出的光線。
[0019]優(yōu)選地，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0020]第二基底，設(shè)置在所述封裝層之上；
[0021]薄膜晶體管，設(shè)置在所述第二基底之上；
[0022]液晶層，設(shè)置在所述薄膜晶體管之上，
[0023]其中，所述偏振片設(shè)置在所述液晶層之上。
[0024]優(yōu)選地，所述第二基底的相位延遲量小于預(yù)設(shè)值。
[0025]優(yōu)選地，還包括:
[0026]粘結(jié)層，設(shè)置在所述第二基底和所述封裝層之間，用于粘結(jié)所述第二基底和所述封裝層。
[0027]優(yōu)選地，還包括:
[0028]觸控基板，設(shè)置在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之下或設(shè)置在所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板之上，
[0029]其中，當(dāng)所述觸控基板設(shè)置在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之下時(shí)，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0030]第三基底，設(shè)置在所述偏振片之上；
[0031 ] 保護(hù)層，設(shè)置在所述第三基底之上。
[0032]優(yōu)選地，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0033]平坦層，設(shè)置在所述第二基底與所述薄膜晶體管之間。
[0034]優(yōu)選地，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0035]阻擋層，設(shè)置在所述第二基底之下。
[0036]優(yōu)選地，所述平坦層、第二基底、阻擋層、封裝層、第二電極和有機(jī)發(fā)光層的厚度之和為35至60微米。
[0037]優(yōu)選地，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0038]彩膜層，設(shè)置在所述液晶層與所述偏振片之間。
[0039]本發(fā)明還提出了一種顯示裝置，包括上述任一項(xiàng)所述的顯示面板。
[0040]本發(fā)明還提出了一種顯示面板制作方法，包括:
[0041 ] 形成頂發(fā)射AMOLED顯示基板；
[0042]在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之上形成常白模式反射式靜態(tài)顯示基板，
[0043]其中，所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板在切換元件接收到第一指令時(shí)開啟，在所述切換元件接收到第二指令時(shí)關(guān)閉，所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板在切換元件接收到所述第一指令時(shí)關(guān)閉，在所述切換元件接收到所述第二指令時(shí)開啟。
[0044]優(yōu)選地，所述形成頂發(fā)射AMOLED顯示基板包括:
[0045]形成第一電極，用于驅(qū)動(dòng)所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板中的有機(jī)發(fā)光層，以及為所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板提供反射光線。
[0046]優(yōu)選地，所述形成頂發(fā)射AMOLED顯示基板還包括:
[0047]在形成所述第一電極之前形成第一基底，其中，所述第一電極設(shè)置于所述第一基底之上；
[0048]在所述第一電極之上形成所述有機(jī)發(fā)光層；
[0049]在所述有機(jī)發(fā)光層之上形成第二電極；
[0050]在所述第二電極之上形成封裝層。
[0051]優(yōu)選地，所述在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之上形成常白模式反射式靜態(tài)顯示基板包括:
[0052]形成偏振片，用于遮蔽或透過所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板射出的光線，或者遮蔽或透過所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板射出的光線。
[0053]優(yōu)選地，所述在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之上形成常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0054]在所述封裝層之上形成第二基底；
[0055]在所述第二基底之上形成薄膜晶體管；
[0056]在所述薄膜晶體管之上形成液晶層，
[0057]其中，在形成所述液晶層之后形成所述偏振片。
[0058]優(yōu)選地，所述在所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之上形成常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0059]通過機(jī)械摩擦或光照輻射在所述液晶層兩側(cè)分別形成取向?qū)印?br>[0060]優(yōu)選地，形成薄膜晶體管包括:
[0061]在200°C以下形成所述薄膜晶體管。
[0062]優(yōu)選地，還包括:
[0063]在形成所述第二基底之前，在所述封裝層之上形成粘結(jié)層，用于粘結(jié)所述第二基底和所述封裝層。
[0064]優(yōu)選地，還包括:
[0065]在形成所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之前形成觸控基板，或在形成所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板之后形成觸控基板，
[0066]其中，若在形成所述頂發(fā)射AMOLED顯示基板之前形成觸控基板，則形成所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0067]在所述偏振片之上形成第三基底；
[0068]在所述第三基底之上形成保護(hù)層。
[0069]優(yōu)選地，在形成所述液晶層之前還包括:
[0070]在所述第二基底之上形成平坦層。
[0071]優(yōu)選地，形成所述常白模式反射式靜態(tài)顯示基板還包括:
[0072]在形成所述第