專利名稱：一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃的制造方法。
本公司于1994年引進(jìn)了美國AIRCO公司生產(chǎn)的真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)線G--66，該生產(chǎn)線是利用強電場使一定真空度條件下的工藝氣體產(chǎn)生電離，形成等離子體，其中的正離子經(jīng)電場加速后轟擊陰極靶材(如金屬材料)，使靶材原子獲得足夠的能量逸出靶材表面，這種過程稱為濺射。濺射出的靶材原子碰到工藝氣體，如果該氣體具有化學(xué)氧化性，就形成氧化物；如果碰到的是惰性氣體，則仍以靶材原子的形式出現(xiàn)。這些化合物或純原子物質(zhì)在位于陽極附近的玻璃表面沉積下來，逐漸組成一層薄膜。即，如果靶材為鈦材，工藝氣體為氧氣或氮氣，則分別形成氧化鈦和氮化鈦膜層。
該設(shè)備現(xiàn)有的產(chǎn)品品種主要有五個系列1.SS系列不銹鋼底膜加上氮化鈦保護(hù)膜；2.SC系列氮化不銹鋼底膜加上氧化鈦保護(hù)膜；3.SG系列不銹鋼的氧化物底膜加上氮化不銹鋼和氮化鈦膜；4.P系列氧化錫底膜加上氮化不銹鋼和氮化鈦膜；5.T系列單一的氮化鈦膜。
這些產(chǎn)品的特點是透射率較低，典型的為20％，反射率較高，一般為20％以上，另有50％--60％的光能被吸收，使玻璃自身發(fā)熱，并以輻射的形式向外散發(fā)熱量，所以，其輻射率一般較高。
本發(fā)明的目的是提供一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，用該方法制造的鍍膜玻璃具有高透射率、高反射率和低輻射率，并且可以進(jìn)行熱處理。
本發(fā)明的技術(shù)方案是一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備，該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶，并且用氧氣作為工藝氣體。
本發(fā)明詳細(xì)的技術(shù)方案之一是一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備，該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶，并且用氧氣作為工藝氣體；先鍍制氧化不銹鋼膜，再鍍制氧化鈦膜，交錯重復(fù)鍍制。
本發(fā)明詳細(xì)的技術(shù)方案之二是一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備，該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶，并且用氧氣作為工藝氣體；先鍍制氧化鈦膜，再鍍制氧化不銹鋼膜，交錯重復(fù)鍍制。
本發(fā)明的優(yōu)點是1.用本發(fā)明制造的鍍膜玻璃可以進(jìn)行熱處理，因為該鍍膜玻璃所有的膜層均為氧化物膜，一方面同玻璃的成分較為接近(玻璃內(nèi)主要有二氧化硅和氧化鐵)，其交界處的分子結(jié)合力強，即膜層附著力強；另一方面，在進(jìn)行熱彎、鋼化、半鋼化等熱處理時，氧化物膜層不會被進(jìn)一步氧化或者變成另一種結(jié)構(gòu)膜，所以熱處理后膜層的化學(xué)物理性質(zhì)都不會改變；而一般的膜層，如氮化鈦膜，加熱后會變成氧化鈦膜，不僅反射顏色會發(fā)生變化，其化學(xué)性質(zhì)也會發(fā)生相應(yīng)的變化。
2.由于本發(fā)明的制造方法交錯使用的兩種氧化物膜本身的透射率極高，每層膜界面都有反射效果，因此，總透射率和總反射率都較高，這樣，吸收的光能只有10％左右，其輻射能量自然就比原來常規(guī)產(chǎn)品大幅度下降；這種膜層的玻璃使用到寒冷地區(qū)，不僅采光效果好，室內(nèi)的熱量大多被反射回室內(nèi)，節(jié)能的效果是顯而易見的。
下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述實施例一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備，該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶，并且用氧氣作為工藝氣體；先鍍制氧化不銹鋼膜，再鍍制氧化鈦膜，交錯重復(fù)鍍制；也可以先鍍制氧化鈦膜，再鍍制氧化不銹鋼膜，交錯重復(fù)鍍制。本發(fā)明鍍制的鍍膜玻璃膜層結(jié)構(gòu)與常規(guī)的熱反射玻璃大不相同，本發(fā)明使用不銹鋼靶和鈦靶交錯地鍍制氧化物膜層，如氧化不銹鋼底膜，加上氧化鈦膜，然后再鍍上氧化不銹鋼膜，最后加上氧化鈦保護(hù)膜；或者，氧化鈦底膜，加上氧化不銹鋼膜、氧化鈦膜、氧化不銹鋼膜、氧化鈦膜，這樣，膜層物質(zhì)由原來的最多三層膜，變成現(xiàn)在的四層、五層，甚至六層膜結(jié)構(gòu)；用本發(fā)明制造的鍍膜玻璃可以進(jìn)行熱處理，因為該鍍膜玻璃所有的膜層均為氧化物膜，一方面同玻璃的成分較為接近(玻璃內(nèi)主要有二氧化硅和氧化鐵)，其交界處的分子結(jié)合力強，即膜層附著力強；另一方面，在進(jìn)行熱彎、鋼化、半鋼化等熱處理時，氧化物膜層不會被進(jìn)一步氧化或者變成另一種結(jié)構(gòu)膜，所以熱處理后膜層的化學(xué)物理性質(zhì)都不會改變；而一般的膜層，如氮化鈦膜，加熱后會變成氧化鈦膜，不僅反射顏色會發(fā)生變化，其化學(xué)性質(zhì)也會發(fā)生相應(yīng)的變化；由于本發(fā)明的制造方法交錯使用的兩種氧化物膜本身的透射率極高，每層膜界面都有反射效果，因此，總透射率和總反射率都較高，這樣，吸收的光能只有10％左右，其輻射能量自然就比原來常規(guī)產(chǎn)品大幅度下降；這種膜層的玻璃使用到寒冷地區(qū)，不僅采光效果好，室內(nèi)的熱量大多被反射回室內(nèi)，節(jié)能的效果是顯而易見的。
權(quán)利要求
1.一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶，并且用氧氣作為工藝氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，其特征在于先鍍制氧化不銹鋼膜，再鍍制氧化鈦膜，交錯重復(fù)鍍制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法，其特征在于先鍍制氧化鈦膜，再鍍制氧化不銹鋼膜，交錯重復(fù)鍍制。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種鍍制可熱處理的仿低輻射膜玻璃的方法,使用真空磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備,該方法交錯地使用不銹鋼靶和鈦靶,并且用氧氣作為工藝氣體;先鍍制氧化不銹鋼膜,再鍍制氧化鈦膜,交錯重復(fù)鍍制;用該方法制造的鍍膜玻璃具有高透射率、高反射率和低輻射率,并且可以進(jìn)行熱處理。
文檔編號C03C17/34GK1246547SQ9911686
公開日2000年3月8日 申請日期1999年9月9日 優(yōu)先權(quán)日1999年9月9日
發(fā)明者孫延敏, 張桂山, 唐華明, 陸火生 申請人:蘇州華東鍍膜玻璃有限公司