粒子射線治療裝置及粒子射線治療裝置的運(yùn)行方法
【專利摘要】控制部(20)中設(shè)置有：運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部(25)，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部(25)中，作為加速器(10)周期反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式(OP-S,OP-L)，該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式(OP-S,OP-L)中，能夠射出粒子射線(B)的時(shí)間(To)不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在存在磁滯的情況下，也能夠使加速器(10)的偏轉(zhuǎn)電磁鐵(13)產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度；照射條件讀取部(22)，該照射條件讀取部(22)對(duì)于在深度方向分割照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，讀取每個(gè)切片的照射條件；運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部(23)，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部(23)根據(jù)所讀取出的照射條件，從多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及主控制部(21)，該主控制部(21)對(duì)于每個(gè)切片，根據(jù)選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式來控制加速器(10)，并且根據(jù)照射條件來控制照射裝置(40)。
【專利說明】粒子射線治療裝置及粒子射線治療裝置的運(yùn)行方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)患者的病變部位照射粒子射線的粒子射線治療，尤其涉及對(duì)深度不同的每一層進(jìn)行照射的粒子射線治療裝置極其運(yùn)行方法。
【背景技術(shù)】
[0002]粒子射線治療是通過對(duì)患部組織照射粒子射線以給予破壞來進(jìn)行治療，是一種廣義的放射線治療。但是，與Y射線、X射線這些其它放射線有所不同，當(dāng)質(zhì)子射線或重離子射線等的粒子射線在物質(zhì)內(nèi)前進(jìn)時(shí)，受到與速度的平方成反比的抵抗而導(dǎo)致速度下降，并且在一定速度以下會(huì)急劇地停止，此時(shí)給予的劑量變得最大。因此，在粒子射線治療中，通過對(duì)進(jìn)入體內(nèi)時(shí)的速度(能量)進(jìn)行調(diào)節(jié)，能夠?qū)ι疃确较蛏系恼丈浞秶M(jìn)行控制。因此，在粒子射線治療中，在體內(nèi)的深度方向上對(duì)患部進(jìn)行分割，對(duì)于分割后的每一層(切片)，通過形成為照射形狀，由此能夠進(jìn)行一種與患部的立體形狀相對(duì)應(yīng)地給予劑量的被稱為層疊原體照射的照射。
[0003]然而，根據(jù)被稱為布拉格曲線的深度與劑量分布之間的關(guān)系，與峰(布拉格峰)相對(duì)應(yīng)地對(duì)某個(gè)切片進(jìn)行照射，在此情況下，關(guān)于該切片以外的部分的劑量給予，與該切片相比較淺一側(cè)要大于較深一側(cè)。因此，在進(jìn)行層疊原體照射時(shí)，在較淺的切片中設(shè)定的照射時(shí)間比在較深的切片中所設(shè)定的照射時(shí)間要短(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。另一方面，基本上對(duì)于粒子射線的射線源即加速器的運(yùn)轉(zhuǎn)，通過周期性反復(fù)地進(jìn)行由入射、加速、出射、減速所構(gòu)成的工序，由此來射出粒子射線，一般而言，運(yùn)轉(zhuǎn)周期是固定的。因此，在使較淺的切片與運(yùn)轉(zhuǎn)周期相符合的情況下，在照射較深的切片時(shí)，變成跨過多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)周期來進(jìn)行照射，導(dǎo)致運(yùn)轉(zhuǎn)周期中的待機(jī)時(shí)間增加以致治療時(shí)間延長(zhǎng)?；蛘撸谑馆^深的切片與運(yùn)轉(zhuǎn)周期相符合的情況下，在照射較淺的切片時(shí)，即使照射結(jié)束也必須等到運(yùn)轉(zhuǎn)周期結(jié)束為止，總而言之導(dǎo)致治療時(shí)間延長(zhǎng)。
[0004]因而，還考慮了例如在運(yùn)轉(zhuǎn)周期的途中變更能量的粒子加速器的運(yùn)轉(zhuǎn)方法(例如，參照專利文獻(xiàn)2。)、根據(jù)加速器內(nèi)的電荷量而在運(yùn)轉(zhuǎn)中變更運(yùn)轉(zhuǎn)模式(與運(yùn)轉(zhuǎn)周期相對(duì)應(yīng))的技術(shù)(參照專利文獻(xiàn)3。)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2010-201099號(hào)公報(bào)(第0018段，圖5，圖6)
專利文獻(xiàn)2:日本專利特開2008-226740號(hào)公報(bào)(第0041~0043段，圖1，圖2)
專利文獻(xiàn)3:日本專利特開2010-238463號(hào)公報(bào)(第0052~0055段，圖10)

【發(fā)明內(nèi)容】

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0006]然而，運(yùn)轉(zhuǎn) 周期基于如下方法來決定的:即考慮了剩磁效應(yīng)以對(duì)各個(gè)工序中的詳細(xì)操作條件進(jìn)行調(diào)整，以使得加速器能夠穩(wěn)定地射出粒子射線。因此，若在運(yùn)轉(zhuǎn)途中隨意地改變周期、能量，則例如偏轉(zhuǎn)電磁鐵的磁滯發(fā)生變化，很難如設(shè)定的那樣來保持粒子射線的軌道。因此，例如像通過掃描來形成照射野的掃描法那樣，在要求提供具有正確的軌道的粒子射線的照射方法中，很難進(jìn)行符合治療計(jì)劃的正確的照射。
[0007]本發(fā)明是為了解決上述問題而提出的，其目的在于獲得一種能縮短治療時(shí)間、且能夠進(jìn)行正確的照射的粒子射線治療裝置。
解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
[0008]本發(fā)明的粒子射線治療裝置的特征在于，包括:加速器，該加速器具有使用了磁體的鐵芯的偏轉(zhuǎn)電磁鐵，且將粒子射線調(diào)整成規(guī)定能量來射出；照射裝置，該照射裝置根據(jù)照射對(duì)象的形狀，照射由所述加速器所提供的粒子射線；以及控制部，該控制部聯(lián)動(dòng)地控制所述加速器和所述照射裝置，設(shè)置有:運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部中，作為所述加速器周期反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式，該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，能夠射出所述粒子射線的時(shí)間不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在所述磁體存在磁滯的情況下，也能夠使所述加速器的偏轉(zhuǎn)電磁鐵產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度；照射條件讀取部，該照射條件讀取部對(duì)于在深度方向分割所述照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，讀取每個(gè)切片的照射條件；運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部根據(jù)所述照射條件讀取部所讀取出的照射條件，從多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及主控制部，該主控制部對(duì)于每個(gè)切片，根據(jù)選擇的所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式來控制所述加速器，并且根據(jù)所述照射條件來控制所述照射
>J-U ρ?α裝直。
發(fā)明效果
[0009]根據(jù)本發(fā)明的粒子射線治療裝置，因?yàn)楦鶕?jù)切片的照射條件來區(qū)分使用預(yù)先經(jīng)過調(diào)整的、能夠射出粒子射線的時(shí)間不同的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，因此，能夠得到能縮短治療時(shí)間、且能正確地控制粒子射線的軌道的粒子射線治療裝置。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置的結(jié)構(gòu)的整體圖、以及表示加速器的2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式的圖。
圖2是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置中的照射裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
圖3是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置的加速器的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的圖、以及表示構(gòu)成在該運(yùn)轉(zhuǎn)模式下進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的加速器的偏轉(zhuǎn)電磁鐵的磁滯回線的圖。
圖4是表示層疊原體照射中距離體表的深度與劑量之間的關(guān)系的圖。
圖5是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式I中的粒子射線治療裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法的流程圖。
圖6是用于說明在根據(jù)切片的深度來選擇運(yùn)轉(zhuǎn)模式時(shí)的、運(yùn)轉(zhuǎn)周期中的照射狀況的圖。
圖7是表示本發(fā)明的實(shí)施方式I的應(yīng)用例所涉及的加速器的2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]實(shí)施方式I
下面，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置的結(jié)構(gòu)及動(dòng)作進(jìn)行說明。圖I~圖6是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置的圖，圖1 (a)是表示粒子射線治療裝置的整體結(jié)構(gòu)的圖，圖1(b)是用于說明為粒子射線治療裝置的射線源即加速器而預(yù)先準(zhǔn)備的2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式的圖。圖2是用于說明照射裝置的結(jié)構(gòu)的圖，圖3(a)和(b)是用于說明加速器的周期運(yùn)轉(zhuǎn)模式以及其周期中磁體鐵芯的磁滯的圖，圖3(a)是表示偏轉(zhuǎn)電磁鐵的磁場(chǎng)變化的圖，圖3(b)是表示構(gòu)成以(a)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的加速器的偏轉(zhuǎn)電磁鐵的磁滯回線的圖。圖4是表示進(jìn)行層疊原體照射時(shí)、對(duì)每個(gè)切片所進(jìn)行的照射中距離體表的深度與劑量之間的關(guān)系、以及對(duì)其進(jìn)行累積后得到的距離體表的深度與劑量之間的關(guān)系的圖。圖5是用于說明粒子射線治療裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法的流程圖。另外，圖6(a)和(b)是用于說明在根據(jù)切片的深度來選擇運(yùn)轉(zhuǎn)模式時(shí)、運(yùn)轉(zhuǎn)周期中的照射狀況的圖，圖6(a)表示選擇短周期的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的情況 ，圖6(b)表示選擇長(zhǎng)周期的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的情況。
[0012]如圖1(a)所示，本實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置I具有:同步加速器即圓形加速器10 (下面僅稱為加速器)，以作為粒子射線B的供給源；對(duì)由加速器10所提供的粒子射線B進(jìn)行輸送的輸送系統(tǒng)30 ;對(duì)患者照射由輸送系統(tǒng)30運(yùn)送來的粒子射線B的照射裝置40 ;包括照射裝置40的治療室50 ；以及對(duì)這些設(shè)備進(jìn)行控制的控制部20。而且，如圖1(b)所示，控制部20中保持有運(yùn)轉(zhuǎn)周期不同且各個(gè)工序的操作參數(shù)預(yù)先經(jīng)過調(diào)整的至少2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式以作為數(shù)據(jù)，根據(jù)切片所需的照射時(shí)間來選擇運(yùn)轉(zhuǎn)模式，從而進(jìn)行照射。在敘述控制部20的詳細(xì)結(jié)構(gòu)以及控制之前，對(duì)構(gòu)成粒子射線治療裝置的主要設(shè)備進(jìn)行說明。
[0013]〈加速器〉
加速器10包括:成為粒子射線B進(jìn)行循環(huán)的軌道路徑的真空管道11 ;用于將從前級(jí)加速器19提供的粒子射線B入射到循環(huán)軌道內(nèi)的入射裝置18A ;使粒子射線B的軌道偏轉(zhuǎn)以使粒子射線B沿真空軌道11內(nèi)的循環(huán)軌道循環(huán)的偏轉(zhuǎn)電磁鐵13a~13d (統(tǒng)稱為13);對(duì)在循環(huán)軌道上形成的粒子射線B進(jìn)行收斂而使其不發(fā)散的收斂用電磁鐵14a~14d(統(tǒng)稱為14);對(duì)進(jìn)行循環(huán)的粒子射線B施加同步高頻電壓來加速的高頻加速腔15 ;用于將在加速器10內(nèi)加速后的粒子射線B取出到加速器10外并向輸送系統(tǒng)30射出的射出裝置18B ;以及為了從射出裝置18B射出粒子射線B而對(duì)粒子射線B的循環(huán)軌道進(jìn)行共振激勵(lì)的六極電磁鐵17。接著，如后所述，這些類別的電磁鐵中使用了磁體的鐵芯，因此與磁場(chǎng)強(qiáng)度的履歷相對(duì)應(yīng)的磁滯較為顯著。
[0014]還包括用于對(duì)各部分進(jìn)行控制的未圖示的裝置，例如:對(duì)偏轉(zhuǎn)電磁鐵13而言，包括對(duì)偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的勵(lì)磁電流進(jìn)行控制的偏轉(zhuǎn)電磁鐵控制裝置；對(duì)高頻加速腔15而言，包括用于向高頻加速腔15提供高頻電壓的高頻源、以及用于控制高頻源的高頻控制裝置，在控制部20內(nèi)還包括對(duì)偏轉(zhuǎn)電磁鐵控制裝置、高頻控制裝置、收斂用電磁鐵14等其它元件進(jìn)行控制來控制整個(gè)加速器10的加速器控制裝置等。
[0015]此外，為了簡(jiǎn)化，在圖中將前級(jí)加速器19描述為一個(gè)設(shè)備，但實(shí)際上，前級(jí)加速器19包括產(chǎn)生質(zhì)子、碳(重粒子)等帶電粒子(離子)的離子源(離子束產(chǎn)生裝置)、以及對(duì)所產(chǎn)生的帶電粒子進(jìn)行初始加速的線性加速系統(tǒng)。而且，從前級(jí)加速器19入射到加速器10的帶電粒子在被高頻電場(chǎng)加速到大約光速的70%~80%的同時(shí)，被磁鐵偏轉(zhuǎn)。
[0016]〈輸送系統(tǒng)〉
由加速器10加速后的粒子射線B被射出到稱作HEBT(高能射束輸送:High EnergyBeam Transport)系統(tǒng)的輸送系統(tǒng)30。輸送系統(tǒng)30包括成為粒子射線B的輸送路徑的真空管道31、對(duì)粒子射線B的射束軌道進(jìn)行切換的切換裝置即切換電磁鐵32、以及將粒子射線B朝規(guī)定角度進(jìn)行偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)電磁鐵33。而且，對(duì)于由加速器10提供規(guī)定的能量、且由射出裝置18B射出并在真空管道31內(nèi)前進(jìn)的粒子射線B，根據(jù)需要利用切換電磁鐵32切換至朝向未圖示的其它治療裝置的輸送路徑，并引導(dǎo)至設(shè)置于規(guī)定的治療室50中的照射裝置40。
[0017]〈照射裝置〉
照射裝置40將從輸送系統(tǒng)30提供的粒子射線B成形在照射對(duì)象即與患者K的患部的大小和深度相對(duì)應(yīng)的照射野中，并對(duì)患部進(jìn)行照射。對(duì)照射野進(jìn)行成形的方法有多種，但在本實(shí)施方式中，以利用了使粒子射線B進(jìn)行掃描來形成照射野的掃描照射法的示例來進(jìn)行說明。另外，掃描照射法與利用物理的限制器來形成照射野的廣域照射相比，尤其是入射時(shí)的軌道精度會(huì)大大地影響到所形成的照射野的精度。因此，所提供的粒子射線B的軌道的正確度對(duì)于能否正確地形成照射野以按照治療計(jì)劃來提供劑量這一點(diǎn)具有較大影響。
[0018]照射裝置40如圖2所示，包括:掃描電磁鐵41，該掃描電磁鐵41通過對(duì)由射線源所提供的粒子射線B進(jìn)行掃描來形成照射野；散射體(Scatterer) 42，該散射體42由鉛等構(gòu)成，且使粒子射線B發(fā)生散射；脊形濾波器(Ridge Filter) 43，該脊形過濾器43由鋁等構(gòu)成，且根據(jù)照射對(duì)象的厚度來擴(kuò)大布拉格峰的寬度；以及射程移位器(Range Shifter)44,該射程移位器44使粒子射線B的能量衰減規(guī)定量。
[0019]〈治療室〉
治療室50是實(shí)際對(duì)患者K照射粒子射線B以進(jìn)行治療的房間，雖未圖示，但是基本上例如從圖1中的切換裝置32起分支開的位置上所設(shè)置的其它治療室50也同樣，每個(gè)治療室50都具備上述的照射裝置40。另外，圖中示出了治療室50中、偏轉(zhuǎn)電磁鐵33r部分到整個(gè)照射裝置40以患者K(治療臺(tái)51)為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，能自由地設(shè)定粒子射線B對(duì)患者K的照射角度的旋轉(zhuǎn)照射室(還稱作旋轉(zhuǎn)機(jī)架)50的示例。通常，對(duì)于一個(gè)加速器10，包括例如從照射裝置40沿水平方向?qū)潭ㄓ谀茏杂傻卦O(shè)定角度或位置的治療臺(tái)51上的患者K照射粒子射線B的水平照射室50、其它類型的不同治療室50等多個(gè)房間。
[0020]<控制部>
作為上述那樣包括多個(gè)設(shè)備(加速器10、輸送系統(tǒng)30、每個(gè)治療室50的照射裝置40等)的系統(tǒng)的控制系統(tǒng)，大多使用包括專門控制各設(shè)備(子系統(tǒng))的子控制器、以及對(duì)整體進(jìn)行指揮和控制的主控制器的層級(jí)型控制系統(tǒng)。本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線B治療裝置的控制部20中也采用了該主控制器和子控制器的結(jié)構(gòu)。并且，在控制系統(tǒng)內(nèi)以如下方式分擔(dān)功能，即，能在子系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行控制的動(dòng)作由子控制器來控制，對(duì)多個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行聯(lián)動(dòng)控制的動(dòng)作由主控制器來控制。然而，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置的說明中，特別對(duì)選擇運(yùn)轉(zhuǎn)模式的功能進(jìn)行說明，且以一個(gè)控制部20對(duì)整體進(jìn)行控制的方式來進(jìn)行記載。
[0021]控制部20如圖1所示，具有:對(duì)整體進(jìn)行控制的主控制部21 ;對(duì)多個(gè)切片的照射形狀、劑量等照射條件進(jìn)行保持的照射條件保持部24 ;對(duì)周期不同的多個(gè)加速器運(yùn)轉(zhuǎn)模式(簡(jiǎn)稱為運(yùn)轉(zhuǎn)模式)進(jìn)行保持的運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25 ;根據(jù)主控制部21的指令，從保持于照射條件保持部24中的 照射條件中讀取出每個(gè)切片的照射條件的照射條件讀取部22 ;以及從運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25所保持的運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，對(duì)每個(gè)切片選擇與該切片的照射條件相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23。[0022]運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25所保持的運(yùn)轉(zhuǎn)模式如圖1 (b)所示，至少包括能量較小且照射時(shí)間(能射出粒子射線B的時(shí)間)To較短的短周期模式0P-S、以及能量較大且照射時(shí)間To較長(zhǎng)的長(zhǎng)周期模式0P-L。圖1 (b)中的橫軸表不時(shí)間，縱軸表不加速器10的偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的磁場(chǎng)強(qiáng)度Imf。因?yàn)槿袅Ｗ由渚€B的能量較大、即速度較快，則為了使其以相同的曲率進(jìn)行偏轉(zhuǎn)，就必須增強(qiáng)偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的磁場(chǎng)強(qiáng)度Imf，所以利用磁場(chǎng)強(qiáng)度Imf來呈現(xiàn)在循環(huán)軌道內(nèi)循環(huán)的粒子射線B的能量。
[0023]此處，利用圖3和圖4來說明粒子射線治療裝置I所選擇的加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)模式。加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)如圖3(a)所示，以包括來自前級(jí)加速器19的入射工序P1、將粒子射線B加速到規(guī)定速度(能量)的加速工序Pa、射出粒子射線B的射出工序Po、以及使粒子射線B減速的減速工序Pd的多個(gè)工序作為I個(gè)周期Cop，并使其反復(fù)。在該工序中，隨著對(duì)偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的磁場(chǎng)強(qiáng)度Imf進(jìn)行變更，使用了磁體的鐵芯的偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的磁滯如圖3(b)所示那樣地進(jìn)行變化。此時(shí)，通過預(yù)先測(cè)定剩磁效應(yīng)的影響，由此對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行調(diào)整，從而即使存在磁滯也能夠?qū)崿F(xiàn)所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度。
[0024]例如在存在磁滯的情況下，即使提供給偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的電流量相同，由偏轉(zhuǎn)電磁鐵13所形成的磁場(chǎng)強(qiáng)度也未必相同。因此，預(yù)先測(cè)定剩磁效應(yīng)，按照連續(xù)的2個(gè)周期的每個(gè)周期長(zhǎng)度和每個(gè)磁場(chǎng)強(qiáng)度制成提供給偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的電流量的表。由此，在加速運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，從上述表中選擇由該周期和其前一個(gè)周期的周期長(zhǎng)度與磁場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系所推導(dǎo)出的、該周期所需要的電流量。此處，將2個(gè)以上之前的周期的磁滯影響設(shè)為較小，來制成連續(xù)的2個(gè)周期的表，但是有時(shí)也無法忽略2個(gè)以上之前的周期的磁滯影響。在此情況下，按照連續(xù)的3個(gè)以上周期的每個(gè)周期長(zhǎng)度和每個(gè)磁場(chǎng)強(qiáng)度制成提供給偏轉(zhuǎn)電磁鐵13的電流量的表。
[0025]由此，由于僅在使用被調(diào)諧后的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的情況下，能夠提供所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度，因此粒子射線B的軌道固定，能夠以正確的軌道進(jìn)行射出。另一方面，如在【背景技術(shù)】中所述的那樣，若僅因?yàn)檫_(dá)到足夠劑量，就不小心地改變了工序的長(zhǎng)度(在專利文獻(xiàn)中指照射工序Po的長(zhǎng)度)，或是使用了未經(jīng)調(diào)諧的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，則由于剩磁效應(yīng)的影響會(huì)使接下來的周期中在不同的磁場(chǎng)強(qiáng)度Imf下進(jìn)行操作，所以會(huì)導(dǎo)致粒子射線B的軌道發(fā)生變化，較難以正確的軌道來射出。
[0026]而且，如上所述使用預(yù)先調(diào)諧過的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的方法中，相較于以往使用固定周期的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的方法而言，能夠通過增加所準(zhǔn)備的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的數(shù)量、或追加選擇適當(dāng)?shù)倪\(yùn)轉(zhuǎn)模式的部分來實(shí)現(xiàn)。因此，與以往的控制系統(tǒng)相比，變更點(diǎn)較少，簡(jiǎn)單且較為廉價(jià)。另一方面，即使考慮剩磁效應(yīng)的影響而制作能夠隨意改變工序長(zhǎng)度的運(yùn)轉(zhuǎn)系統(tǒng)，也會(huì)使得控制系統(tǒng)變得復(fù)雜，且由于器件數(shù)量的增加而導(dǎo)致價(jià)格變高。
[0027]另一方面，圖4示出了被稱為布拉格曲線的深度和劑量分布的關(guān)系。在圖中，橫軸表示與距離體表的深度相當(dāng)?shù)乃頓w，縱軸表示劑量D。于是，各條線分別表示患部之中較深(末端:Distal)層(切片)的劑量分布Ddt,較淺(近端:Proximal)切片的劑量分布Dpr,以及對(duì)各切片的劑量進(jìn)行累積后得到的劑量分布Dt。如圖所示，作為整體為了使從較淺部分到較深部分都能得到相同的劑量分布Dt，要使提供給較淺切片的劑量變得少于提供給較深切片的劑量。也就是說，使較淺切片的照射時(shí)間變得比較深切片的照射時(shí)間要短。
[0028]因此，在本實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置I中，作為預(yù)先經(jīng)過調(diào)諧的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，如圖1 (b)所示，在運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25中保持有運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-S和運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-L，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-S用于淺部切片，與用于深部切片相比，其能量要小，且I個(gè)周期中能夠射出粒子射線B的時(shí)間(照射時(shí)間)To要短，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-L用于深部切片，與用于淺部切片相比，其能量要大，且照射時(shí)間To要長(zhǎng)。
[0029]然后，運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23根據(jù)每個(gè)切片的照射條件(能量、照射時(shí)間To)，從2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式之中，選擇合適的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，控制部20對(duì)加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行控制，從而在與每個(gè)切片相符合的運(yùn)轉(zhuǎn)模式下進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)。
[0030]再者，在粒子射線治療裝置I的控制部20中，通常采用工作站、計(jì)算機(jī)。因此，構(gòu)成控制部20的各個(gè)部分可由軟件等構(gòu)成，而并非僅限于特定的硬件。因此，雖然圖中將它們一并描述為控制部20，但這并不意味著控制部20以物理上整合成單個(gè)硬件的形式而存在。
[0031]接著，對(duì)在此控制下進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)的粒子射線治療裝置I的動(dòng)作進(jìn)行說明。
從在由控制部20所選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式下進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)控制的加速器10向照射裝置40所提供的、具有規(guī)定能量的粒子射線B處于直 徑為數(shù)_以下的所謂尖向束的狀態(tài)。由此，利用掃描電磁鐵41，在與射束軸垂直的面內(nèi)(例如將射束軸設(shè)為z，則為xy面)的方向上進(jìn)行掃描，形成在面的延伸方向上的照射野。通過由散射體42來使其散射，從而調(diào)整射束的粗細(xì)。在面方向上形成照射野的粒子射線B通過脊形過濾器43，根據(jù)切片的厚度，擴(kuò)大布拉格峰，從而具有擴(kuò)大成規(guī)定寬度的布拉格峰(S0BP:Spread-Out Bragg Peak)。
[0032]接著，粒子射線B通過射程移位器44。該射程移位器44通過將規(guī)定厚度的丙烯酸等的板配置在入射范圍內(nèi)，從而使粒子射線B的能量衰減以進(jìn)行調(diào)節(jié)。雖然利用加速器10來調(diào)整粒子射線B的能量，但如上所述，對(duì)加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行調(diào)諧比較費(fèi)工夫。因此，利用加速器10所得到的能量的調(diào)整間隙變得大于切片的厚度，因此，利用射程移位器44對(duì)粒子射線B的能量進(jìn)行微調(diào)，從而能夠照射(給予劑量)到所希望的切片(體內(nèi)深度)。
[0033]在使用上述那樣的照射裝置40、并利用層疊原體照射法進(jìn)行照射的情況，在深度方向上對(duì)空間上的給予劑量進(jìn)行分割，并進(jìn)行照射。在開始照射時(shí)，與包含最深部的層(切片)的照射條件相對(duì)應(yīng)地選擇加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，對(duì)于該運(yùn)轉(zhuǎn)模式設(shè)定掃描電磁鐵41、射程移位器44以形成該切片的照射野，從而對(duì)患部K照射粒子射線B。若對(duì)最深部的層(切片)的照射結(jié)束，則根據(jù)與SOBP相當(dāng)?shù)纳疃取⑶遗c較淺位置(從照射源觀察到的前方一偵D的切片的照射條件，自動(dòng)地選擇加速器10的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，對(duì)于該運(yùn)轉(zhuǎn)模式設(shè)定掃描電磁鐵41、射程移位器44以形成該切片的照射野，從而對(duì)患部K照射粒子射線B。下面，同樣地使切片依次地移動(dòng)，同時(shí)作為整體以與患部的立體形狀相吻合的方式提供劑量。
[0034]利用圖5的流程圖及圖6的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，說明一系列的照射中的控制動(dòng)作。
首先，照射條件讀取部22讀取出保持在照射條件保持部24中的照射角度、切片數(shù)、每個(gè)切片的照射形狀.劑量等的照射條件(步驟S10)。再者，照射條件未必需要保持在控制部20內(nèi)，例如也可利用通信等來獲得。然后，主控制部21例如像從最深部開始的上述示例那樣，根據(jù)所讀取到的照射條件，設(shè)定最初進(jìn)行照射的切片(步驟S20)。接著，運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23從運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25所保持的運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，選擇與該切片的照射條件相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式(步驟S30)。而且，主控制部21控制加速器10從而以所選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)，并且與從在該運(yùn)轉(zhuǎn)模式下的加速器10射出粒子射線B相對(duì)應(yīng)地，控制輸送系統(tǒng)30、照射裝置40，從而對(duì)該切片進(jìn)行照射(步驟S40)。接著，直到最后的切片為止重復(fù)這些動(dòng)作(直到步驟S50變?yōu)椤笆恰睘橹?。
[0035]再者，在使切片從深部切片向淺部切片移動(dòng)的情況下，將最初的切片(最深部)作為默認(rèn)值，選擇如圖5(b)所示的長(zhǎng)周期模式P0-L。基本上將長(zhǎng)周期模式OP-L的照射時(shí)間ToL設(shè)定得比最深部的切片到達(dá)照射結(jié)束Ed為止的照射時(shí)間Pel要長(zhǎng)，因此，能夠在I個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)周期中完成對(duì)最深部的切片的照射。而且，由于接下來的切片的照射時(shí)間Pe2通常比最深部的照射時(shí)間Pel要短，因此，同樣能夠在I個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)周期中完成照射。
[0036]另一方面，若使切片向較淺的方向前進(jìn)，則在例如標(biāo)號(hào)i的切片達(dá)到足夠劑量所需要的照射時(shí)間Pei比短周期模式OP-S的照射時(shí)間ToS要短的情況下，選擇短周期模式0P-S。之后的切片(i+1以后)中達(dá)到足夠劑量所需要的照射時(shí)間Pei+1基板上一直變短，因此，同樣選擇短周期模式0P-S。
[0037]由此，相比于例如在所有切片中選擇長(zhǎng)周期模式OP-L的情況，縮短了周期內(nèi)的等待時(shí)間，能夠在整體上縮短治療時(shí)間?；蛘?，若在所有切片中都選擇短周期模式OPUlJS生對(duì)于深部切片在I個(gè)周期中未完成照射、而是分成多次進(jìn)行照射的情況，導(dǎo)致治療時(shí)間變長(zhǎng)，但在本實(shí)施方式中，通過總體上減少在I個(gè)切片中所花費(fèi)的周期次數(shù)，由此能夠在整體上縮短治療時(shí)間。即使在將長(zhǎng)周期模式OP-L的照射時(shí)間ToL設(shè)定得比最深部的切片到達(dá)照射結(jié)束Ed為止的照射時(shí)間Pel要短的情況下，也能夠得到該效果。
[0038]另外，為了簡(jiǎn)化上述示例，對(duì)具有2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式的示例進(jìn)行了說明，但是并不僅限于此。也可以通過對(duì)調(diào)諧等花費(fèi)工夫，由此進(jìn)一步預(yù)先準(zhǔn)備細(xì)分后的運(yùn)轉(zhuǎn)模式。另外，運(yùn)轉(zhuǎn)模式的選擇并非如上所述那樣僅根據(jù)周期和照射時(shí)間的比較結(jié)果。例如在依靠因射程移位器44所造成的衰減量，無法調(diào)整能量的情況下，也可以根據(jù)粒子射線的能量范圍來進(jìn)行選擇，從而切換運(yùn)轉(zhuǎn)模式。
[0039]實(shí)施方式I的變形例
另外，上述示例所說明的是設(shè)定為長(zhǎng)周期模式的能量大于短周期模式的能量的示例，即具有若周期不同則能量不同的運(yùn)轉(zhuǎn)模式的示例。另一方面，在本變形例中，對(duì)于相同的能量，準(zhǔn)備周期不同的運(yùn)轉(zhuǎn)模式。
[0040]圖7用于說明適用于本變形例的方式，對(duì)例如在形狀相同的患部位于距離體表不同深度的位置上的情況下體內(nèi)深度和給予劑量之間的關(guān)系、以及所適用的運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行說明。在圖中，上面是患部位于距離體表較淺位置的情況下的劑量分布，下面是患部位于距離體表較深位置的情況下的劑量分布。示出了如下示例:連接上面和下面的虛線是距離體表相同深度的位置即需要相同能量的位置，但在上面保持與因是最深部而需要較多劑量、且需要設(shè)定較長(zhǎng)的照射時(shí)間的切片相對(duì)應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-1，在下面保持與因是最淺部而需要較少劑量、且僅需設(shè)定較短的照射時(shí)間即可的切片相對(duì)應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-2。
[0041]在此情況 下，例如對(duì)相同能量或近似能量，準(zhǔn)備長(zhǎng)度不同的多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式，由此根據(jù)切片的照射條件選擇適當(dāng)?shù)倪\(yùn)轉(zhuǎn)模式，從而能夠進(jìn)行正確且治療時(shí)間較短的照射。
[0042]如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置I，具備:加速器10，該加速器10具有使用了磁體的鐵芯的電磁鐵(例如偏轉(zhuǎn)電磁鐵13)，且將粒子射線B調(diào)整成規(guī)定能量來射出；照射裝置40，該照射裝置40根據(jù)照射對(duì)象的形狀來照射由加速器10所提供的粒子射線B ；以及控制部20，該控制部20聯(lián)動(dòng)地控制加速器10和照射裝置40，在控制部20中設(shè)置有:運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25中，作為加速器10周期性反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-L、OP-S,該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-L、OP-S中，能夠射出粒子射線B的時(shí)間(照射時(shí)間)To不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在磁體存在磁滯的情況下，加速器10的偏轉(zhuǎn)電磁鐵13能產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度；照射條件讀取部22，對(duì)于在深度方向上分割照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，該照射條件讀取部22讀取每個(gè)切片的照射條件；運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23根據(jù)照射條件讀取部22所讀取出的照射條件，從多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及主控制部21，對(duì)于每個(gè)切片，該主控制部21根據(jù)所選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式來控制加速器10，同時(shí)根據(jù)照射條件來控制照射裝置40，因此，對(duì)于每個(gè)切片，能夠選擇可提供所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度的最適當(dāng)?shù)倪\(yùn)轉(zhuǎn)模式，因此能夠縮短治療時(shí)間，且能夠進(jìn)行正確的照射。
[0043]尤其將運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部23構(gòu)成為在多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-S、0P-L中，在對(duì)該切片上給予劑量所需的周期數(shù)較少的運(yùn)轉(zhuǎn)模式(例如，能夠在I個(gè)周期中給予劑量的運(yùn)轉(zhuǎn)模式)之中，選擇能夠射出粒子射線B的時(shí)間To最短的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，因此能夠使各個(gè)切片的照射最短。
[0044]而且，對(duì)多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中的至少2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-S、0P-L進(jìn)行設(shè)定，以使得將規(guī)定能量設(shè)定得較大的運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-L中，能夠射出粒子射線B的時(shí)間To的長(zhǎng)度更長(zhǎng)，因此，對(duì)于深部的切片，確保能夠保證出射所必需的劑量且以較少的周期來達(dá)到足夠劑量的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，對(duì)于淺部的切片，確保以較短的時(shí)間來完成照射的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，從而能夠縮短整體上的治療時(shí)間。
[0045]而且，對(duì)多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中的至少2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-1、0P-2進(jìn)行設(shè)定，以使得規(guī)定能量相同且能夠射出粒子射線B的時(shí)間To不同，因此，即使距離患部的體表的位置不同，對(duì)于位于深部的切片，確保能夠保證出射所必需的劑量且以較少的周期來達(dá)到足夠劑量的運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-1，對(duì)于深度相同但位于淺部的切片，確保以較短的時(shí)間來完成照射的運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-2，從而能夠縮短整 體上的治療時(shí)間。
[0046]另外，本實(shí)施方式I所涉及的粒子射線治療裝置I的運(yùn)轉(zhuǎn)方法是對(duì)粒子射線治療裝置I進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)的方法，該粒子射線治療裝置I具備:加速器10，該加速器10具有使用了磁體的鐵芯的例如偏轉(zhuǎn)電磁鐵13那樣的電磁鐵，且將粒子射線B調(diào)整成規(guī)定能量來射出；以及運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部25中，作為加速器10周期反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式0P-L、0P-S，在該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-UOP-S中，能夠射出粒子射線B的時(shí)間(照射時(shí)間)To不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在所述磁體存在磁滯的情況下，加速器10的偏轉(zhuǎn)電磁鐵13也能產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度，該粒子射線治療裝置I的方法中包括:照射條件讀取工序S10，對(duì)于在深度方向上分割照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，讀取每個(gè)切片的照射條件；運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇工序S30，根據(jù)在照射條件讀取工序SlO中讀取出的照射條件，從多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式OP-S、OP-L之中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及對(duì)于每個(gè)切片、根據(jù)所選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式來控制加速器10的工序S40，因此，對(duì)于每個(gè)切片，可提供所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度，因此能夠縮短治療時(shí)間、且能夠進(jìn)行正確的照射。
標(biāo)號(hào)說明
[0047]I粒子射線治療裝置
10加速器(13偏轉(zhuǎn)電磁鐵(具有磁體的鐵芯的電磁鐵))
20控制部(21主控制部，22照射條件讀取部，23運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部，24照射條件保持部，25運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部)
40照射裝置
OP運(yùn)轉(zhuǎn)模式(0P-L長(zhǎng)周期模式，OP-S短周期模式) To I個(gè)周期中能夠射出(照射)粒子射線的時(shí)間
【權(quán)利要求】
1.一種粒子射線治療裝置，其特征在于，具備: 加速器，該加速器具有使用了磁體的鐵芯的偏轉(zhuǎn)電磁鐵，且將粒子射線調(diào)整成規(guī)定能量來射出； 照射裝置，該照射裝置根據(jù)照射對(duì)象的形狀，照射由所述加速器所提供的粒子射線；以及 控制部，該控制部 聯(lián)動(dòng)地控制所述加速器和所述照射裝置， 所述控制部中設(shè)置有: 運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部中，作為所述加速器周期反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式，該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，能夠射出所述粒子射線的時(shí)間不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在所述磁體存在磁滯的情況下，也能夠使所述加速器的偏轉(zhuǎn)電磁鐵產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度； 照射條件讀取部，該照射條件讀取部對(duì)于在深度方向分割所述照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，讀取每個(gè)切片的照射條件； 運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部根據(jù)所述照射條件讀取部所讀取出的照射條件，從多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及 主控制部，該主控制部對(duì)于每個(gè)切片，根據(jù)選擇的所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式來控制所述加速器，并且根據(jù)所述照射條件來控制所述照射裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的粒子射線治療裝置，其特征在于， 所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇部在多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中的、對(duì)該切片上給予劑量所需的周期數(shù)較少的運(yùn)轉(zhuǎn)模式之中，選擇能夠射出所述粒子射線的時(shí)間最短的運(yùn)轉(zhuǎn)模式。
3.如權(quán)利要求1或2所述的粒子射線治療裝置，其特征在于， 對(duì)多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中的至少2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行設(shè)定，以使得將所述規(guī)定能量設(shè)定得較大的運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，能夠射出所述粒子射線的時(shí)間更長(zhǎng)。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的粒子射線治療裝置，其特征在于， 對(duì)多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中的至少2個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式進(jìn)行設(shè)定，以使得所述規(guī)定能量相同，且能夠射出所述粒子射線的所述時(shí)間不同。
5.一種粒子射線治療裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于， 所述粒子射線治療裝置具備:加速器，該加速器具有使用了磁體的鐵芯的偏轉(zhuǎn)電磁鐵，且將粒子射線調(diào)整成規(guī)定能量來射出；以及運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式保持部中，作為所述加速器周期反復(fù)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式，保持有多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式，該多個(gè)運(yùn)轉(zhuǎn)模式中，能夠射出所述粒子射線的時(shí)間不同，且分別對(duì)操作條件進(jìn)行了調(diào)整，以使得即使在所述磁體存在磁滯的情況下，所述加速器的偏轉(zhuǎn)電磁鐵也能產(chǎn)生所希望的磁場(chǎng)強(qiáng)度， 在運(yùn)轉(zhuǎn)該粒子射線治療裝置的方法中，包括: 照射條件讀取工序，該照射條件讀取工序中對(duì)于在深度方向分割照射對(duì)象后得到的多個(gè)切片，讀取每個(gè)切片的照射條件； 運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇工序，該運(yùn)轉(zhuǎn)模式選擇工序中根據(jù)所述照射條件讀取工序所讀取出的照射條件，從多個(gè)所述運(yùn)轉(zhuǎn)模式中選擇與該切片相適應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)模式；以及 對(duì)于每個(gè)所述切片、根據(jù)所選擇的運(yùn)轉(zhuǎn)模式對(duì)所述加速器進(jìn)行控制的工序。
【文檔編號(hào)】A61N5/10GK104010694SQ201280064257
【公開日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2012年3月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月27日
【發(fā)明者】山田由希子, 原田久, 本田泰三, 池田昌廣, 花川和之, 大谷利宏, 片寄雅 申請(qǐng)人:三菱電機(jī)株式會(huì)社