技術(shù)編號(hào)：9123238
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著半導(dǎo)體、航空航天等技術(shù)的發(fā)展，高精度光學(xué)元件的需求和應(yīng)用越來越廣。納 米/亞納米精度的光學(xué)元件在光刻投影物鏡、X射線顯微鏡、重力波探測(cè)用邁克爾遜干涉儀 等研究領(lǐng)域具有極為重要的作用。因此，發(fā)展超高精度面形檢測(cè)技術(shù)是實(shí)現(xiàn)這些領(lǐng)域中高 精度光學(xué)元件成功應(yīng)用的重要保證。 普通商業(yè)菲索干涉儀和泰曼_格林干涉儀由于受參考元件的限制，其檢測(cè)精度不 高。點(diǎn)衍射干涉儀（PDI)作為目前面形絕對(duì)測(cè)量領(lǐng)域中精度最高的設(shè)備，是解決超高精度 光學(xué)元件面形檢測(cè)的重要方法，同時(shí)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。