技術(shù)編號(hào)：39526642
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光刻材料，具體涉及一類基于金剛烷核心的多丙炔醇型的單分子樹脂光刻膠及其制備方法和應(yīng)用。背景技術(shù)、光刻膠又稱為光致抗蝕劑，是一類通過光束、電子束、離子束或x射線等能量輻射后，溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微電子工業(yè)中制作大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路不可或缺的核心材料。通過將光刻膠涂覆在半導(dǎo)體、導(dǎo)體或絕緣體表面，經(jīng)曝光、顯影后留下的部分對(duì)底層起保護(hù)作用，然后采用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻就可將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工的襯底上，因此光刻膠是器件微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性材料。目前，常規(guī)的高分辨...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。