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一種化學(xué)機(jī)械拋光單晶氧化鎂基片用的拋光液的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3817694

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本發(fā)明屬于一種化學(xué)機(jī)械拋光用拋光液,特別涉及單晶氧化鎂基片化學(xué)機(jī)械拋光用的拋光液領(lǐng)域。背景技術(shù) 目前,氧化鎂基片是高頻微波器件HTS薄膜最常選用的主要襯底材料之一,也是當(dāng)前可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的重要的HTS薄膜基片。經(jīng)研究表明,氧化鎂基片表面的宏觀缺陷如拋光紋路和劃痕對(duì)沉積的釔鋇銅氧化物(YBCO)薄膜的形態(tài)和性能有很大影響,有嚴(yán)重劃痕的粗糙基片表面上沉積的薄膜不僅粗糙度較大,而且性能較差,導(dǎo)致薄膜和連接節(jié)的臨界電流密度Jc顯著降低,在表面粗糙度小于1nm和大于1...
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